公开(公告)号：US06997197B2

公开(公告)日：2006-02-14

申请号：US10318632

申请日：2002-12-13

申请人： John P. Simons ,  Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  John M. Cotte ,  Keith R. Pope ,  Charles J. Taft ,  Dario L. Goldfarb

发明人： John P. Simons ,  Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  John M. Cotte ,  Keith R. Pope ,  Charles J. Taft ,  Dario L. Goldfarb

IPC分类号： B08B7/00

CPC分类号： H01L21/02101 ,  B08B7/0021 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  Y10S134/902

摘要： A surface cleaning apparatus comprising a chamber, and a thermal transfer device. The chamber is capable of holding a semiconductor structure therein. The thermal transfer device is connected to the chamber. The thermal transfer device has a surface disposed inside the chamber for contacting the semiconducting structure and controlling a temperature of the semiconductor structure in contact with the surface. The thermal transfer device has a thermal control module connected to the surface for heating and cooling the surface to thermally cycle the surface. The thermal control module effects a substantially immediate thermal response of the surface when thermally recycling the surface.

摘要翻译： 一种表面清洁装置，包括腔室和热转印装置。 该室能够在其中保持半导体结构。 热传递装置连接到腔室。 热传递装置具有设置在室内的表面，用于接触半导体结构并控制与表面接触的半导体结构的温度。 热转印装置具有连接到表面的热控制模块，用于加热和冷却表面以使表面热循环。 当热再循环表面时，热控制模块会对表面产生实质上即时的热响应。

公开(公告)号：US06875286B2

公开(公告)日：2005-04-05

申请号：US10320836

申请日：2002-12-16

申请人： John M. Cotte ,  Catherine Ivers ,  Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  Robert J. Purtell ,  John P. Simons ,  William A. Syverson ,  Charles J. Taft

发明人： John M. Cotte ,  Catherine Ivers ,  Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  Robert J. Purtell ,  John P. Simons ,  William A. Syverson ,  Charles J. Taft

IPC分类号： H01L21/304 ,  B08B7/00 ,  C25F1/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/302 ,  H01L21/306

CPC分类号： B08B7/0021 ,  H01L21/02063 ,  Y10S134/902

摘要： A method and apparatus are provided for removing solid and/or liquid residues from electronic components such as semiconductor wafers utilizing liquid or supercritical carbon dioxide which is solidified on the surface of the wafer and then vaporized and removed from the system. In a preferred embodiment the solidification and vaporizing steps are repeated (cycled) before removal of the CO2 from the vessel. The residues are carried away with the vaporized carbon dioxide.

摘要翻译： 提供了一种方法和装置，用于从诸如半导体晶片的电子部件中除去固体和/或液体残留物，其中所述液体或超临界二氧化碳在晶片的表面上固化，然后蒸发并从系统中除去。 在优选的实施方案中，在从容器中除去CO 2之前重复（循环）固化和蒸发步骤。 残余物被蒸发的二氧化碳带走。

公开(公告)号：US06561220B2

公开(公告)日：2003-05-13

申请号：US09840611

申请日：2001-04-23

申请人： Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  John P. Simons ,  Charles J. Taft ,  John M. Cotte

发明人： Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  John P. Simons ,  Charles J. Taft ,  John M. Cotte

IPC分类号： F17D104

CPC分类号： H01L21/67017 ,  Y10T137/85994 ,  Y10T137/86035

摘要： A method and an apparatus, the apparatus including appropriate valves and conduits, for increasing throughput in pressurized fluid processing including storing in a storage chamber of the apparatus a quantity of fluid at a pressure higher than a pressure at which an operation is to take place, while a processing chamber is depressurized to allow reception of a new object; sealing the processing chamber; and allowing fluid stored in the storage chamber to pass to the processing chamber to re-pressurize the processing chamber before performing the operation. The fluid may be preheated in the storage chamber to further reduce processing times.

公开(公告)号：US20080227030A1

公开(公告)日：2008-09-18

申请号：US10597904

申请日：2004-02-11

申请人： Wayne M. Moreau ,  Marie Angelopoulos ,  Wu-Song Huang ,  David R. Medeiros ,  Karen E. Petrillo

发明人： Wayne M. Moreau ,  Marie Angelopoulos ,  Wu-Song Huang ,  David R. Medeiros ,  Karen E. Petrillo

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/34

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F1/78 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/143

摘要： Resist compositions having good footing properties even on difficult substrates are obtained by using a combination of base additives including a room temperature solid base, and a liquid low vapor pressure base. The compositions are especially useful on metal substrates such as chromium-containing layers commonly used in mask-making.

摘要翻译： 通过使用包括室温固体碱和液体低蒸气压基料的基础添加剂的组合，可获得即使在困难的基材上也具有良好基础性能的抗蚀剂组合物。 该组合物在通常用于掩模制造的金属基材如含铬层上特别有用。

公开(公告)号：US06686124B1

公开(公告)日：2004-02-03

申请号：US09524692

申请日：2000-03-14

申请人： Marie Angelopoulos ,  Katherina E. Babich ,  David R. Medeiros ,  Wayne M. Moreau

发明人： Marie Angelopoulos ,  Katherina E. Babich ,  David R. Medeiros ,  Wayne M. Moreau

IPC分类号： G03C176

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03C1/733

摘要： A multifunctional polymer comprising a polymeric chain having chromophore groups and cross-linking sites is suitable as a resist material and especially as the underlayer for bilayer and top surface imaging strategies. The multifunctional polymer can function as an antireflective coating, planarizing layer or etch resistant hard mask.

摘要翻译： 包含具有发色团和交联位点的聚合物链的多官能聚合物适合作为抗蚀剂材料，特别是作为双层和顶表面成像策略的底层。 多功能聚合物可用作抗反射涂层，平坦化层或耐蚀刻硬掩模。

公开(公告)号：US07960095B2

公开(公告)日：2011-06-14

申请号：US10597904

申请日：2004-02-11

申请人： Wayne M. Moreau ,  Marie Angelopoulos ,  Wu-Song Huang ,  David R. Medeiros ,  Karen E. Petrillo

发明人： Wayne M. Moreau ,  Marie Angelopoulos ,  Wu-Song Huang ,  David R. Medeiros ,  Karen E. Petrillo

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36 ,  G03F7/38 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F1/78 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/143

摘要： Resist compositions having good footing properties even on difficult substrates are obtained by using a combination of base additives including a room temperature solid base, and a liquid low vapor pressure base. The compositions are especially useful on metal substrates such as chromium-containing layers commonly used in mask-making.

摘要翻译： 通过使用包括室温固体碱和液体低蒸气压基料的基础添加剂的组合，可获得即使在困难的基材上也具有良好基础性能的抗蚀剂组合物。 该组合物在通常用于掩模制造的金属基材如含铬层上特别有用。

公开(公告)号：US06586156B2

公开(公告)日：2003-07-01

申请号：US09907392

申请日：2001-07-17

申请人： Marie Angelopoulos ,  Wu-Song Huang ,  Dai Junyan ,  Ranee W. Kwong ,  Robert N. Lang ,  Arpan P. Mahorowala ,  David R. Medeiros ,  Wayne M. Moreau ,  Karen E. Petrillo

发明人： Marie Angelopoulos ,  Wu-Song Huang ,  Dai Junyan ,  Ranee W. Kwong ,  Robert N. Lang ,  Arpan P. Mahorowala ,  David R. Medeiros ,  Wayne M. Moreau ,  Karen E. Petrillo

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106

摘要： A chemically amplified (CA) photoresist system wherein a terpolymer containing ketal/phenolic/silicon based sidechains is provided. Among other things, the terpolymers provide for improved bake technologies. In another aspect a process for lithographic treatment of a substrate by means of ketal/phenolic/silicon based compositions and corresponding processes for the production of an object, particularly an electronic component are provided.

摘要翻译： 一种化学放大（CA）光刻胶体系，其中提供含有缩酮/酚/硅基侧链的三元共聚物。 除其他外，三元共聚物可提供改进的烘烤技术。 在另一方面，提供了通过缩酮/酚/硅基组合物对基材进行光刻处理的方法和用于制备物体，特别是电子部件的相应方法。

公开(公告)号：US06420084B1

公开(公告)日：2002-07-16

申请号：US09602136

申请日：2000-06-23

申请人： Marie Angelopoulos ,  Ari Aviram ,  C. Richard Guarnieri ,  Wu-Song Huang ,  Ranee Kwong ,  Robert N. Lang ,  Arpan P. Mahorowala ,  David R. Medeiros ,  Wayne M. Moreau

发明人： Marie Angelopoulos ,  Ari Aviram ,  C. Richard Guarnieri ,  Wu-Song Huang ,  Ranee Kwong ,  Robert N. Lang ,  Arpan P. Mahorowala ,  David R. Medeiros ,  Wayne M. Moreau

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： G03F7/0757

摘要： The invention provides improved resist compositions and lithographic methods using the resist compositions of the invention. The resist compositions of the invention are acid-catalyzed resists which are characterized by the presence of an SiO-containing polymer. The invention also encompasses methods of forming patterned material layers (especially conductive, semiconductive, or magnetic material structures) using the combination of the SiO-containing resist and a halogen compound-containing pattern transfer etchant where the halogen is Cl, Br or I.

摘要翻译： 本发明提供使用本发明的抗蚀剂组合物的改进的抗蚀剂组合物和平版印刷方法。 本发明的抗蚀剂组合物是酸催化的抗蚀剂，其特征在于存在含SiO的聚合物。 本发明还包括使用含SiO的抗蚀剂和含卤素化合物的图案转移蚀刻剂的组合形成图案化材料层（特别是导电，半导体或磁性材料结构）的方法，其中卤素是Cl，Br或I.

公开(公告)号：US06495825B1

公开(公告)日：2002-12-17

申请号：US09469373

申请日：1999-12-22

申请人： Mark S. Chace ,  John E. Darney ,  David R. Medeiros ,  Wayne M. Moreau ,  Alfred O. Passano, Jr.

发明人： Mark S. Chace ,  John E. Darney ,  David R. Medeiros ,  Wayne M. Moreau ,  Alfred O. Passano, Jr.

IPC分类号： H01J4900

CPC分类号： H01J49/40 ,  G01N21/3504 ,  G01N2021/3595

摘要： Real-time analysis of output volatiles upon UV exposure is achieved using a laboratory scale apparatus. The methods and apparatus use external or internal radiation sources, especially broad band external UV radiation. The apparatus and methods of the invention are especially useful in the analysis and screening of photoresist materials. The apparatus preferably uses FTIR or MS analysis.

摘要翻译： 使用实验室规模的仪器实现紫外线曝光时输出挥发物的实时分析。 方法和设备使用外部或内部辐射源，特别是宽带外部紫外线辐射。 本发明的装置和方法在光致抗蚀剂材料的分析和筛选中特别有用。 该装置优选使用FTIR或MS分析。

公开(公告)号：US3996393A

公开(公告)日：1976-12-07

申请号：US454058

申请日：1974-03-25

申请人： Charles A. Cortellino ,  Edward Gipstein ,  William A. Hewett ,  Duane E. Johnson ,  Wayne M. Moreau

发明人： Charles A. Cortellino ,  Edward Gipstein ,  William A. Hewett ,  Duane E. Johnson ,  Wayne M. Moreau

IPC分类号： G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  B05D3/06

CPC分类号： G03F7/039

摘要： It has been discovered that the sensitivity of positive acting polymeric electron beam resists is increased by well over an order of magnitude by using polymers having a molecular weight of at least one million, thereby making it possible to reduce the required radiation to below 3 .times. 10.sup..sup.-6 coulombs/cm.sup.2.

摘要翻译： 已经发现，通过使用具有至少一百万分子量的聚合物，正性聚合物电子束抗蚀剂的敏感性提高了一个数量级以上，从而使得所需辐射降至3×10 6库伦/ cm2。