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    System and method for generating pattern data used to control a pattern generator
    21.
    发明授权
    System and method for generating pattern data used to control a pattern generator 有权
    用于生成用于控制图案生成器的图案数据的系统和方法

    公开(公告)号：US07713667B2

    公开(公告)日：2010-05-11

    申请号：US10998991

    申请日：2004-11-30

    申请人： Azat M. Latypov ,  Arno Jan Bleeker ,  Jang Fung Chen ,  Kars Zeger Troost

    发明人： Azat M. Latypov ,  Arno Jan Bleeker ,  Jang Fung Chen ,  Kars Zeger Troost

    IPC分类号： G03F9/00

    CPC分类号： G03F7/70441 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70508

    摘要： A method and system are used to modify pattern data obtained in relation to a pattern on a static patterning device. It is suggested that, in an example when a maskless lithography tool is used, continuous OPC-enhanced features used for maskless lithography rasterization should include a variation in local amplitude and phase transmittance that matches modulation capabilities of a patterning device being used. The modified pattern data is used by a dynamic patterning device to pattern impinging light, which is then projected onto an object. The system and method comprise using a pattern data generating device, a modification device, a dynamic pattern generator, and a projection system. The pattern data generating device generates pattern data corresponding to a pattern on a static patterning device. The modification device receives the pattern data and modifies the pattern data using characteristics of a type of the dynamic pattern generator being used. The dynamic pattern generator receives the modified patterned data and uses the modified pattern data to pattern the beam of radiation. The projection system projects the patterned beam onto the object.

    摘要翻译： 使用方法和系统来修改相对于静态图案形成装置上的图案获得的图案数据。 建议在使用无掩模光刻工具的示例中，用于无掩模光刻光栅化的连续OPC增强特征应包括与正在使用的图案形成装置的调制能力相匹配的局部振幅和相位透射率的变化。 修改的图案数据由动态图案形成装置用于对入射光进行图案化，然后将其投影到物体上。 该系统和方法包括使用图案数据生成装置，修改装置，动态图案生成器和投影系统。 图案数据生成装置生成与静态图案形成装置上的图案对应的图案数据。 修改设备接收图案数据，并使用所使用的动态图案生成器的类型的特性来修改图案数据。 动态图案生成器接收经修改的图案数据并使用经修改的图案数据来对辐射束进行图案化。 投影系统将图案化的光束投射到物体上。

    Lithographic apparatus and device manufacturing method
    23.
    发明授权
    Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
    平版印刷设备和器件制造方法

    公开(公告)号：US07548302B2

    公开(公告)日：2009-06-16

    申请号：US11655999

    申请日：2007-01-22

    申请人： Arno Jan Bleeker ,  Donis George Flagello ,  Robert John Socha ,  James Sherwood Greeneich ,  Kars Zeger Troost

    发明人： Arno Jan Bleeker ,  Donis George Flagello ,  Robert John Socha ,  James Sherwood Greeneich ,  Kars Zeger Troost

    IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/72

    CPC分类号： G03B27/54 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/705

    摘要： A method of transferring an image of a pattern layout onto a surface of a substrate including selecting a first illumination profile for a first area of the pattern layout and a second illumination profile for a second area of the pattern layout; switching illumination profile during transfer of the image of the pattern layout such that the first area of the pattern layout is illuminated with the first illumination profile and the second area is illuminated with the second illumination profile; and projecting an image of the illuminated first and second areas onto the surface of the substrate.

    摘要翻译： 将图案布局的图像转印到基板的表面上的方法，包括为图案布局的第一区域选择第一照明轮廓，以及为图案布局的第二区域选择第二照明轮廓; 在图案布局的图像传送期间切换照明轮廓，使得图案布局的第一区域被第一照明轮廓照亮，并且第二区域被第二照明轮廓照亮; 以及将照射的第一和第二区域的图像投影到基板的表面上。

    Lithographic apparatus and device manufacturing method
    25.
    发明申请
    Lithographic apparatus and device manufacturing method 审中-公开
    平版印刷设备和器件制造方法

    公开(公告)号：US20080259298A1

    公开(公告)日：2008-10-23

    申请号：US11785745

    申请日：2007-04-19

    申请人： Vadim Yevgenyevich Banine ,  Arno Jan Bleeker ,  Johannes Hubertus Josephina Moors

    发明人： Vadim Yevgenyevich Banine ,  Arno Jan Bleeker ,  Johannes Hubertus Josephina Moors

    IPC分类号： G03B27/42

    CPC分类号： G03F7/70291 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70191

    摘要： A lithographic apparatus for maskless EUV applications includes an illumination system constructed and arranged to condition a radiation beam and to supply the conditioned radiation beam to a spatial light modulator, a substrate table constructed and arranged to hold a substrate, and a projection system constructed and arranged to project the conditioned radiation beam onto a target portion of the substrate. The illumination system includes a field facet mirror constructed and arranged to define a field of the conditioned radiation beam. The field facet mirror is constructed and arranged to optically match a source of radiation and the illumination system.

    摘要翻译： 用于无掩模EUV应用的光刻设备包括被构造和布置成调节辐射束并且将经调节的辐射束提供给空间光调制器的照明系统，被构造和布置成保持衬底的衬底台，以及构造和布置的投影系统 以将调节的辐射束投影到基板的目标部分上。 照明系统包括构造和布置成限定经调节的辐射束的场的场面反射镜。 场面反射镜被构造和布置成光学匹配辐射源和照明系统。

    Inspection method and apparatus using same
    26.
    发明授权
    Inspection method and apparatus using same 有权
    检验方法及使用方法

    公开(公告)号：US07433033B2

    公开(公告)日：2008-10-07

    申请号：US11418454

    申请日：2006-05-05

    申请人： Arno Jan Bleeker ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Johannes Onvlee ,  Jacques Cor Johan Van der Donck ,  Michiel Peter Oderwald

    发明人： Arno Jan Bleeker ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Johannes Onvlee ,  Jacques Cor Johan Van der Donck ,  Michiel Peter Oderwald

    IPC分类号： G01N21/00

    CPC分类号： G01N21/9501 ,  G01N21/4738 ,  G01N21/94 ,  G01N21/956 ,  G03F1/84 ,  G03F1/86

    摘要： The invention relates to a method and device of inspecting contamination particles on an object comprising a patterned structure. The device includes a radiation system for directing a radiation beam to the object. The object is configured to scatter the beam. The device also includes an optical system arranged to receive scattered radiation from the object, and a filter provided in the optical system. The filter is associated with the patterned structure so as to filter out radiation from the scattered radiation. The device also includes a detector arranged to detect a fraction of radiation that is transmitted by the filter. Accordingly, contamination particles may be detected quickly and accurately.

    摘要翻译： 本发明涉及一种在包含图案化结构的物体上检查污染颗粒的方法和装置。 该装置包括用于将辐射束引导到物体的辐射系统。 物体被配置为散射光束。 该装置还包括被配置为接收来自物体的散射辐射的光学系统和设置在光学系统中的滤光器。 滤波器与图案化结构相关联，以便滤出散射辐射的辐射。 该装置还包括检测器，其被布置成检测由滤波器传输的辐射的一部分。 因此，可以快速且准确地检测污染颗粒。

    Spatial light modulator, lithographic apparatus and device manufacturing method
    30.
    发明授权
    Spatial light modulator, lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
    空间光调制器，光刻设备和器件制造方法

    公开(公告)号：US07154587B2

    公开(公告)日：2006-12-26

    申请号：US10875616

    申请日：2004-06-25

    申请人： Arno Jan Bleeker

    发明人： Arno Jan Bleeker

    IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/54

    CPC分类号： G03F7/70291 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70508

    摘要： A spatial light modulator used to pattern a radiation beam comprises an array of pixels disposed on a support. Each pixel has a light modulating element for modulating the radiation beam and a control circuit that positions the light modulating elements according to a desired pattern. The control circuit is disposed on the opposite side of the support than the light modulating elements. The control circuit comprises at least one of a digital to analog converter, an analog to digital converter, an optical fiber input, and a processor.

    摘要翻译： 用于对辐射束进行图案化的空间光调制器包括设置在支架上的像素阵列。 每个像素具有用于调制辐射束的光调制元件和根据所需图案定位光调制元件的控制电路。 控制电路设置在支撑体的与光调制元件相反的一侧上。 控制电路包括数模转换器，模数转换器，光纤输入和处理器中的至少一个。