公开(公告)号：US20050179884A1

公开(公告)日：2005-08-18

申请号：US10779823

申请日：2004-02-18

申请人： Cheng-Qun Gui ,  Arno Bleeker ,  Pieter De Jager ,  Joost Sytsma

发明人： Cheng-Qun Gui ,  Arno Bleeker ,  Pieter De Jager ,  Joost Sytsma

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70208 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291

摘要： Provided is a radiation distribution system for distributing the radiation from an illumination system to two or more patterning means, each for patterning beams of radiation, which are subsequently projected onto a substrate.

摘要翻译： 提供了一种用于将照明系统的辐射分配到两个或更多个图案形成装置的辐射分布系统，每个图案装置用于构图辐射束，随后将其投影到衬底上。

公开(公告)号：US20050068511A1

公开(公告)日：2005-03-31

申请号：US10994669

申请日：2004-11-23

申请人： Paulus Liebregts ,  Arno Bleeker ,  Erik Loopstra ,  Harry Borggreve

发明人： Paulus Liebregts ,  Arno Bleeker ,  Erik Loopstra ,  Harry Borggreve

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70991 ,  G03F7/70291

摘要： A lithographic apparatus uses the control signal from a computer to drive two spatial light modulators to pattern two separate projection beams for projection onto two substrates.

公开(公告)号：US20050046819A1

公开(公告)日：2005-03-03

申请号：US10950644

申请日：2004-09-28

申请人： Arno Bleeker ,  Wenceslao Cebuhar ,  Jason Hintersteiner ,  Andrew McCullough ,  Solomon Wasserman

发明人： Arno Bleeker ,  Wenceslao Cebuhar ,  Jason Hintersteiner ,  Andrew McCullough ,  Solomon Wasserman

IPC分类号： G02F1/13 ,  G03F1/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70466 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70558

摘要： A maskless lithography system that writes patterns on an object. The system can include an illumination system, the object, spatial light modulators (SLMs), and a controller. The SLMs can pattern light from the illumination system before the object receives the light. The SLMs can include a leading set and a trailing set of the SLMs. The SLMs in the leading and trailing sets change based on a scanning direction of the object. The controller can transmit control signals to the SLMs based on at least one of light pulse period information, physical layout information about the SLMs, and scanning speed of the object. The system can also correct for dose non-uniformity using various methods.

摘要翻译： 在对象上写入图案的无掩模光刻系统。 该系统可以包括照明系统，物体，空间光调制器（SLM）和控制器。 在对象接收到光之前，SLM可以对来自照明系统的光进行图案化。 SLM可以包括一个前导集合和一组尾随SLM。 前导和后置集合中的SLM根据对象的扫描方向而改变。 控制器可以基于光脉冲周期信息，关于SLM的物理布局信息和对象的扫描速度中的至少一个来向SLM发送控制信号。 该系统还可以使用各种方法校正剂量不均匀性。

公开(公告)号：US07403266B2

公开(公告)日：2008-07-22

申请号：US11331064

申请日：2006-01-13

申请人： Arno Bleeker ,  Wenceslao A. Cebuhar ,  Jason Douglas Hintersteiner ,  Andrew W. McCullough ,  Solomon S. Wasserman ,  Karel Diederick Van Der Mast

发明人： Arno Bleeker ,  Wenceslao A. Cebuhar ,  Jason Douglas Hintersteiner ,  Andrew W. McCullough ,  Solomon S. Wasserman ,  Karel Diederick Van Der Mast

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70466 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70558

摘要： A maskless lithography system that writes patterns on an object. The system can include an illumination system, the object, spatial light modulators (SLMs), and a controller. The SLMs can pattern light from the illumination system before the object receives the light. The SLMs can include a leading set and a trailing set of the SLMs. The SLMs in the leading and trailing sets change based on a scanning direction of the object. The controller can transmit control signals to the SLMs based on at least one of light pulse period information, physical layout information about the SLMs, and scanning speed of the object. The system can also correct for dose non-uniformity using various methods.

摘要翻译： 在对象上写入图案的无掩模光刻系统。 该系统可以包括照明系统，物体，空间光调制器（SLM）和控制器。 在对象接收到光之前，SLM可以对来自照明系统的光进行图案化。 SLM可以包括一个前导集合和一组尾随SLM。 前导和后置集合中的SLM根据对象的扫描方向而改变。 控制器可以基于光脉冲周期信息，关于SLM的物理布局信息和对象的扫描速度中的至少一个来向SLM发送控制信号。 该系统还可以使用各种方法校正剂量不均匀性。

公开(公告)号：US20070165203A1

公开(公告)日：2007-07-19

申请号：US11725499

申请日：2007-03-20

申请人： Arno Bleeker

发明人： Arno Bleeker

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70291 ,  G02F1/03 ,  G02F2203/12

摘要： An array of individually controllable elements is comprised of elements, each formed of a stack of layers of dielectric material. At least one layer is an electro-optical material. The at least one layer's refractive index for radiation that is plane polarized in a given direction can be changed by application of a voltage in order to change the reflection/transmission characteristic of the boundary between this layer and the adjacent layer.

公开(公告)号：US20060187428A1

公开(公告)日：2006-08-24

申请号：US11061754

申请日：2005-02-18

申请人： Arno Bleeker ,  Dominicus Adrianus Franken ,  Martinus Hendricus Hoeks ,  Lambertus Kessels ,  Tobrjorn Sandstrom

发明人： Arno Bleeker ,  Dominicus Adrianus Franken ,  Martinus Hendricus Hoeks ,  Lambertus Kessels ,  Tobrjorn Sandstrom

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70291 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70875

摘要： A lithographic apparatus provided with an array of individually controllable elements that is detachably mounted to mounting points on a support frame of the lithographic apparatus.

摘要翻译： 一种光刻设备，其设置有独立可控元件的阵列，其可拆卸地安装到光刻设备的支撑框架上的安装点。

公开(公告)号：US20060066855A1

公开(公告)日：2006-03-30

申请号：US11203418

申请日：2005-08-15

申请人： Arie Boef ,  Arno Bleeker ,  Youri Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Kiers ,  Paul Luehrmann ,  Henricus Pellemans ,  Maurits Schaar ,  Cedric Grouwstra ,  Markus Van Kraaij

发明人： Arie Boef ,  Arno Bleeker ,  Youri Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Kiers ,  Paul Luehrmann ,  Henricus Pellemans ,  Maurits Schaar ,  Cedric Grouwstra ,  Markus Van Kraaij

IPC分类号： G01B11/00

CPC分类号： G01N21/8806 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/7065 ,  G03F9/7034

摘要： An apparatus and method to determine a property of a substrate by measuring, in the pupil plane of a high numerical aperture lens, an angle-resolved spectrum as a result of radiation being reflected off the substrate. The property may be angle and wavelength dependent and may include the intensity of TM- and TE-polarized radiation and their relative phase difference.

公开(公告)号：US20050270613A1

公开(公告)日：2005-12-08

申请号：US11192188

申请日：2005-07-29

申请人： Jason Hintersteiner ,  Karel van der Mast ,  Arno Bleeker

发明人： Jason Hintersteiner ,  Karel van der Mast ,  Arno Bleeker

IPC分类号： G02F1/13 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G02F1/00

CPC分类号： G03F7/70041 ,  G03F7/70558

摘要： A system and method are used for pulse to pulse dose control in an illumination system, used, for example, in a lithography or a maskless lithography machine. The system and method can be used to decrease effective laser pulse-to-pulse variability in lithographic lasers, allowing adequate dose control using a minimum number of pulses (e.g. as little as one pulse).

摘要翻译： 系统和方法被用于例如在光刻或无掩模光刻机中使用的照明系统中的脉冲到脉冲剂量控制。 该系统和方法可以用于降低光刻激光器中有效的激光脉冲到脉冲变化，从而允许使用最小数目的脉冲（例如少至一个脉冲）进行充分的剂量控制。

公开(公告)号：US20050170267A1

公开(公告)日：2005-08-04

申请号：US11098561

申请日：2005-04-05

申请人： Arno Bleeker ,  Wenceslao Cebuhar ,  Justin Kreuzer ,  Azat Latypov ,  Yuli Vladimirsky

发明人： Arno Bleeker ,  Wenceslao Cebuhar ,  Justin Kreuzer ,  Azat Latypov ,  Yuli Vladimirsky

IPC分类号： G02B26/08 ,  G02F1/01 ,  G03B21/18 ,  G03B27/00 ,  G03B27/32 ,  G03B27/68 ,  G03C5/00 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G06F17/50 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70475 ,  G03B21/18 ,  G03B27/42 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70466

摘要： A method and system are provided for printing a pattern on a photosensitive surface using a spatial light modulator (SLM). An exemplary method includes defining two or more exposure areas on the photosensitive surface, the exposure areas overlapping along respective edge portions of the exposure areas to form an overlap zone therebetween. Two or more exposure areas are exposed to print an image therein, the exposing extending through the overlap zone. The exposing within the overlap zone is then attenuated.

摘要翻译： 提供了一种使用空间光调制器（SLM）在感光表面上印刷图案的方法和系统。 示例性方法包括在感光表面上限定两个或更多个曝光区域，曝光区域沿着曝光区域的相应边缘部分重叠以在它们之间形成重叠区域。 暴露两个或更多个曝光区域以在其中打印图像，曝光延伸穿过重叠区域。 然后在重叠区域内的曝光被衰减。

公开(公告)号：US20050068514A1

公开(公告)日：2005-03-31

申请号：US10674070

申请日：2003-09-30

申请人： Arno Bleeker ,  Wenceslao Cebuhar ,  Justin Kreuzer ,  Azat Latypov ,  Yuli Vladimirsky

发明人： Arno Bleeker ,  Wenceslao Cebuhar ,  Justin Kreuzer ,  Azat Latypov ,  Yuli Vladimirsky

IPC分类号： G02B26/08 ,  G02F1/01 ,  G03B21/18 ,  G03B27/00 ,  G03B27/32 ,  G03B27/68 ,  G03C5/00 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G06F17/50 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70475 ,  G03B21/18 ,  G03B27/42 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70466

摘要： A method and system are provided for printing a pattern on a photosensitive surface using a spatial light modulator (SLM). An exemplary method includes defining two or more exposure areas on the photosensitive surface, the exposure areas overlapping along respective edge portions of the exposure areas to form an overlap zone therebetween. Two or more exposure areas are exposed to print an image therein, the exposing extending through the overlap zone. The exposing within the overlap zone is then attenuated.

摘要翻译： 提供了一种使用空间光调制器（SLM）在感光表面上印刷图案的方法和系统。 示例性方法包括在感光表面上限定两个或更多个曝光区域，曝光区域沿着曝光区域的相应边缘部分重叠以在它们之间形成重叠区域。 暴露两个或更多个曝光区域以在其中打印图像，曝光延伸穿过重叠区域。 然后在重叠区域内的曝光被衰减。