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    Method of aligning an optical system
    21.
    发明授权
    Method of aligning an optical system 有权
    对准光学系统的方法

    公开(公告)号：US07643149B2

    公开(公告)日：2010-01-05

    申请号：US11920838

    申请日：2006-05-23

    申请人： Rolf Freimann ,  Ulrich Wagemann

    发明人： Rolf Freimann ,  Ulrich Wagemann

    IPC分类号： G01B9/021 ,  G01B11/02

    CPC分类号： G02B27/62 ,  G01B9/02039 ,  G01M11/0221 ,  G02B5/32 ,  G03F7/70258

    摘要： A method of manufacturing an optical system having plural optical elements mounted relative to each other on a mounting structure of the optical system comprises disposing the optical system in a beam path of an interferometer apparatus having an interferometer optics and a selectable hologram for shaping a beam of measuring light to be incident on surfaces of the optical elements of the optical system; selecting a first hologram of the interferometer apparatus and recording at least one first interference pattern generated by measuring light reflected from a surface of a first optical element; selecting a second hologram of the interferometer apparatus, wherein the second hologram is different from the first hologram, and recording at least one second interference pattern generated by measuring light reflected from a surface of a second optical element, which is different from the first optical element; and adjusting a position of the first optical element relative to the second optical element on the mounting structure based upon the first interference pattern and the second interference pattern.

    摘要翻译： 一种制造具有在光学系统的安装结构上相对于彼此安装的多个光学元件的光学系统的方法，包括将光学系统设置在具有干涉仪光学元件和可选全息图的干涉仪装置的光束路径中， 测量入射到光学系统的光学元件的表面上的光; 选择所述干涉仪装置的第一全息图并记录通过测量从第一光学元件的表面反射的光而产生的至少一个第一干涉图案; 选择所述干涉仪装置的第二全息图，其中所述第二全息图与所述第一全息图不同，并且记录通过测量从与所述第一光学元件不同的第二光学元件的表面反射的光而产生的至少一个第二干涉图案 ; 以及基于所述第一干涉图案和所述第二干涉图案，在所述安装结构上调整所述第一光学元件相对于所述第二光学元件的位置。

    PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND USE THEREOF
    22.
    发明申请
    PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND USE THEREOF 有权
    投影曝光系统及其使用

    公开(公告)号：US20090097000A1

    公开(公告)日：2009-04-16

    申请号：US12251132

    申请日：2008-10-14

    申请人： Rolf Freimann

    发明人： Rolf Freimann

    IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/32 ,  G03B27/42

    CPC分类号： G03F7/70308 ,  G03F7/70233

    摘要： A lithography method is proposed employing a projection exposure system having a catoptric imaging optics comprising a mirror formed as phase mask in the imaging beam path, wherein the mirror formed as phase mask exhibits continuous regions having dielectric layers provided thereon. Optionally, the regions of the mirror formed as phase mask are configured such that an axial extension of an image of a point (DOF) of the imaging is increased or/and a lateral extension of an image of a point of the imaging is decreased. Preferably multiple exposures of a same radiation sensitive substrate are performed in order to achieve an increase in resolution and scaling down of the manufacturing trace structures (61, 61′), respectively.

    摘要翻译： 提出了一种使用具有反射成像光学元件的投影曝光系统的光刻方法，所述投影曝光系统包括在成像光束路径中形成为相位掩模的反射镜，其中形成为相位掩模的反射镜具有设置在其上的电介质层的连续区域。 可选地，形成为相位掩模的反射镜的区域被配置为使得成像的点（DOF）的图像的轴向延伸增加/ /并且成像的点的图像的横向延伸减小。 优选地，执行相同辐射敏感衬底的多次曝光，以便分别实现分辨率的提高和制造迹线结构（61,61'）的缩小。

    Projection exposure system and method of manufacturing a miniaturized device
    23.
    发明授权
    Projection exposure system and method of manufacturing a miniaturized device 有权
    投影曝光系统及制造小型化装置的方法

    公开(公告)号：US07508488B2

    公开(公告)日：2009-03-24

    申请号：US11248279

    申请日：2005-10-13

    申请人： Rolf Freimann ,  Ulrich Wagemann

    发明人： Rolf Freimann ,  Ulrich Wagemann

    IPC分类号： G03B27/42

    CPC分类号： G03F7/70258 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/706

    摘要： A projection exposure system and method of manufacturing a miniaturized device using the projecting exposure system uses an imaging of a patterning structure onto a substrate using a projection optical system. Measuring light is directed through the projection optical system to be incident on the substrate and measuring light reflected from the substrate is superimposed with reference light to generate an interference pattern. The interference pattern is analyzed to determine imaging properties of the projecting optical system. Actuators of the projection optical system may be used to improve the imaging characteristics.

    摘要翻译： 使用投影曝光系统制造小型化装置的投影曝光系统和方法使用投影光学系统将图案形成结构的成像应用于基板。 测量光被引导通过投影光学系统入射到基板上，并且从基板反射的测量光与参考光叠加以产生干涉图案。 分析干涉图案以确定投影光学系统的成像特性。 可以使用投影光学系统的致动器来改善成像特性。

    Method of processing an optical element using an interferometer having an aspherical lens that transforms a first spherical beam type into a second spherical beam type
    25.
    发明授权
    Method of processing an optical element using an interferometer having an aspherical lens that transforms a first spherical beam type into a second spherical beam type 有权
    使用具有将第一球形光束类型变换为第二球形光束的非球面透镜的干涉仪来处理光学元件的方法

    公开(公告)号：US07342667B1

    公开(公告)日：2008-03-11

    申请号：US10721232

    申请日：2003-11-26

    申请人： Rolf Freimann ,  Bernd Dörband

    发明人： Rolf Freimann ,  Bernd Dörband

    IPC分类号： G01B11/02

    CPC分类号： G01B9/02039 ,  B29D11/00019 ,  G01B9/02057 ,  G01M11/0242 ,  G01M11/025 ,  G01M11/0271 ,  G02B13/18 ,  G02B13/24 ,  G02B17/0856

    摘要： A method of processing an optical element having a spherical surface comprises providing a first interferometer apparatus having an interferometer optics with an aspherical lens for transforming a beam of a first spherical beam type into a beam of a second spherical beam type, arranging the optical element in a beam path of an incident beam provided by the interferometer optics, interferometrically taking a first measurement of the optical element, and determining first deviations of the spherical surface. The method further comprises arranging the aspherical lens in a beam path of a measuring beam provided by a beam source of a second interferometer apparatus, wherein the measuring beam is one of the first spherical type and the second spherical type, interferometrically taking a second measurement using the measuring beam, and determining second deviations of an aspherical surface of the aspherical lens.

    摘要翻译： 一种处理具有球形表面的光学元件的方法包括提供具有干涉仪光学元件的第一干涉仪装置，其具有非球面透镜，用于将第一球形光束类型的光束变换为第二球形光束类型的光束，将光学元件放置在 由干涉仪光学器件提供的入射光束的光束路径，干涉地进行光学元件的第一测量，以及确定球面的第一偏差。 该方法还包括将非球面透镜布置在由第二干涉仪装置的光束源提供的测量光束的光束路径中，其中测量光束是第一球形和第二球面类型中的一种，使用 测量光束，并确定非球面透镜的非球面的第二偏差。

    Method for calibrating an interferometer apparatus, for qualifying an optical surface, and for manufacturing a substrate having an optical surface
    27.
    发明授权
    Method for calibrating an interferometer apparatus, for qualifying an optical surface, and for manufacturing a substrate having an optical surface 有权
    用于校准干涉仪装置的方法，用于限定光学表面，以及用于制造具有光学表面的基底

    公开(公告)号：US07050175B1

    公开(公告)日：2006-05-23

    申请号：US10637217

    申请日：2003-08-08

    申请人： Rolf Freimann ,  Bernd Dörband

    发明人： Rolf Freimann ,  Bernd Dörband

    IPC分类号： G01B9/02

    CPC分类号： G01B9/02039 ,  G01B9/02057 ,  G01B9/02072 ,  G01B11/2441 ,  G01M11/005 ,  G01M11/025 ,  G01M11/0271 ,  G03F7/70591

    摘要： A method for qualifying and/or manufacturing an optical surface includes: arranging a first substrate having a first surface and a second surface opposite the first surface in a beam path of a first incident beam with the first surface facing towards the first incident beam, and taking an interferometric measurement of the second surface; arranging the first substrate in the beam path of the first incident beam with the second surface facing towards the first incident beam, and taking an interferometric measurement of the second surface; arranging a third surface of a second substrate in a beam path of a second incident beam, and taking an interferometric measurement of the third surface; arranging the third surface of the second substrate and the first substrate in the beam path of the second incident beam, and taking an interferometric measurement of the third surface.

    摘要翻译： 一种用于限定和/或制造光学表面的方法包括：在第一入射光束的光束路径中布置具有第一表面的第一表面和与第一表面相对的第二表面的第一基底，其中第一表面面向第一入射光束，以及 进行第二表面的干涉测量; 将第一基板布置在第一入射光束的光束路径中，其中第二表面面向第一入射光束，并且对第二表面进行干涉测量; 将第二基板的第三表面布置在第二入射光束的光束路径中，并对第三表面进行干涉测量; 将第二基板的第三表面和第一基板布置在第二入射光束的光束路径中，并进行第三表面的干涉测量。

    Optical system, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus
    29.
    发明授权
    Optical system, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus 有权
    光学系统，特别是在微光刻投影曝光装置中

    公开(公告)号：US08654345B2

    公开(公告)日：2014-02-18

    申请号：US13368541

    申请日：2012-02-08

    申请人： Albrecht Hof ,  Dietmar Neugebauer ,  Rolf Freimann

    发明人： Albrecht Hof ,  Dietmar Neugebauer ,  Rolf Freimann

    IPC分类号： G01B11/02

    CPC分类号： G03F7/70833 ,  G01B9/02027 ,  G01B9/0209 ,  G01B11/2441 ,  G01B2290/15 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70258

    摘要： An optical system, such as a microlithographic projection exposure apparatus, includes a first optical component, a second optical component, and a measurement arrangement for determining the relative position of the first optical component and the second optical component in six degrees of freedom. The measurement arrangement is adapted to determine the relative position of the first optical component and the second optical component over six different length measurement sections. The length measurement sections extend directly between the first optical component and the second optical component.

    摘要翻译： 诸如微光刻投影曝光装置的光学系统包括第一光学部件，第二光学部件和用于在六个自由度中确定第一光学部件和第二光学部件的相对位置的测量装置。 测量装置适于确定六个不同长度测量部分上的第一光学部件和第二光学部件的相对位置。 长度测量部分直接在第一光学部件和第二光学部件之间延伸。