公开(公告)号：US20090027638A1

公开(公告)日：2009-01-29

申请号：US12232861

申请日：2008-09-25

申请人： Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel ,  Erik Roelof Loopstra ,  Antonius Johannes Van Der Net ,  Yuri Johannes Gabriel Van De Vijver ,  Bernhard Gellrich ,  Bauke Jansen ,  Rens Sanderse

发明人： Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel ,  Erik Roelof Loopstra ,  Antonius Johannes Van Der Net ,  Yuri Johannes Gabriel Van De Vijver ,  Bernhard Gellrich ,  Bauke Jansen ,  Rens Sanderse

IPC分类号： G03B27/52 ,  G01N7/00

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70908

摘要： A lithographic apparatus includes a projection system configured to project a patterned beam of radiation onto a target portion of a substrate. The projection system includes a first gas-conditioned sub-environment and a second gas-conditioned sub-environment. The apparatus includes a gas control unit configured to control the feeding of conditioned gas into the first sub-environment and into the second sub-environment via the first sub-environment so as to prevent contamination from the second sub-environment to the first sub-environment. The apparatus includes a gate configured to leak the conditioned gas at a rate from the second sub-environment to ambient atmosphere, and a detector configured to detect at least one property of the second gas-conditioned environment.

摘要翻译： 光刻设备包括投影系统，该投影系统被配置为将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上。 投影系统包括第一气体调节子环境和第二气体调节子环境。 该装置包括：气体控制单元，被配置为控制经由第一子环境将调节气体进入第一子环境并进入第二子环境，以防止从第二子环境到第一子环境的污染， 环境。 该装置包括：门，该门被配置为以从第二子环境到环境大气的速率泄漏经调节的气体;以及检测器，被配置为检测第二气体条件环境的至少一个性质。

公开(公告)号：US20080225247A1

公开(公告)日：2008-09-18

申请号：US12046186

申请日：2008-03-11

申请人： Tilman Schwertner ,  Ulrich Bingel ,  Guido Limbach ,  Julian Kaller ,  Hans-Juergen Scherle ,  Jens Kugler ,  Dirk Schaffer ,  Bernhard Gellrich

发明人： Tilman Schwertner ,  Ulrich Bingel ,  Guido Limbach ,  Julian Kaller ,  Hans-Juergen Scherle ,  Jens Kugler ,  Dirk Schaffer ,  Bernhard Gellrich

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/52 ,  G02B23/16

CPC分类号： G03F7/7015 ,  G02B27/0006 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70933 ,  Y10T29/49

摘要： An optical element unit including a first optical element module and a sealing arrangement is disclosed. The first optical element module occupies a first module space and includes a first module component of a first component type and an associated second module component of a second component type. The first component type is optical elements and the second component type being different from the first component type. The sealing arrangement separates the first module space into a first space and a second space and substantially prevents, at least in a first direction, the intrusion of substances from one of the first space and the second space into the other one of the first space and the second space. The first module component at least partially contacts the first space and, at least in its area optically used, not contacting the second space. The second module component at least partially contacts the second space.

摘要翻译： 公开了一种包括第一光学元件模块和密封装置的光学元件单元。 第一光学元件模块占据第一模块空间并且包括第一组件类型的第一模块组件和第二组件类型的相关联的第二模块组件。 第一部件类型是光学元件，第二部件类型与第一部件类型不同。 密封装置将第一模块空间分隔成第一空间和第二空间，并至少在第一方向上基本上防止物质从第一空间和第二空间中的一个进入第一空间和 第二个空间。 第一模块部件至少部分地接触第一空间，并且至少在其光学使用的区域中不接触第二空间。 第二模块组件至少部分地接触第二空间。

公开(公告)号：US20080192215A1

公开(公告)日：2008-08-14

申请号：US12008879

申请日：2008-01-15

申请人： Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Guido Limbach ,  Julian Kaller ,  Hans-Juergen Scherle ,  Dieter Schmerek ,  Detlev Mueller ,  Thomas Schletterer

发明人： Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Guido Limbach ,  Julian Kaller ,  Hans-Juergen Scherle ,  Dieter Schmerek ,  Detlev Mueller ,  Thomas Schletterer

IPC分类号： G03B27/52 ,  G02B7/02

CPC分类号： G02B27/0006 ,  G02B1/18 ,  G02B7/023 ,  G03B27/52 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70933

摘要： An optical element unit is provided comprising an optical element group; a housing receiving said optical element group and having an inner housing part and an exit end; and a purge unit connected to said housing and providing a purge medium to said inner housing part. The optical element group comprises an ultimate optical element. The ultimate optical element is located at the exit end of housing and separates the inner housing part from an environment external to the housing. The ultimate optical element and the housing define a sealing gap. The purge unit provides purge medium to the sealing gap to prevent intrusion of contaminants into the inner housing part.

摘要翻译： 提供一种光学元件单元，包括光学元件组; 接收所述光学元件组并具有内部壳体部分和出口端的壳体; 以及净化单元，其连接到所述壳体并且向所述内壳体部件提供净化介质。 光学元件组包括极限光学元件。 最终的光学元件位于壳体的出口端处，并将内部壳体部件与壳体外部的环境分离。 最终的光学元件和壳体限定了密封间隙。 净化单元向密封间隙提供净化介质以防止污染物侵入内壳体部分。

公开(公告)号：US20070146906A1

公开(公告)日：2007-06-28

申请号：US11444191

申请日：2006-05-31

申请人： Jens Kugler ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Gellrich ,  Yim-Bun Kwan ,  Peter Deufel

发明人： Jens Kugler ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Gellrich ,  Yim-Bun Kwan ,  Peter Deufel

IPC分类号： G02B7/02

CPC分类号： G02B7/028 ,  G02B7/008 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891

摘要： There is provided an optical element module comprising a first optical element and an optical element holder. The first optical element has a first coefficient of thermal expansion. The optical element holder holds the first optical element and has a second coefficient of thermal expansion, the second coefficient of thermal expansion being adapted to the first coefficient of thermal expansion. The optical element is directly contacting the optical element holder in a wide contact area. The contact area is defined by a first contact surface of the first optical element and a second contact surface of the optical element holder, wherein the second contact surface matches the first contact surface. Thus, favorable rigidity and deformation behavior is provided.

摘要翻译： 提供了一种包括第一光学元件和光学元件保持器的光学元件模块。 第一光学元件具有第一热膨胀系数。 光学元件保持器保持第一光学元件并具有第二热膨胀系数，第二热膨胀系数适应于第一热膨胀系数。 光学元件在宽接触区域中直接接触光学元件保持器。 接触区域由第一光学元件的第一接触表面和光学元件保持器的第二接触表面限定，其中第二接触表面与第一接触表面匹配。 因此，提供了良好的刚性和变形行为。

公开(公告)号：US20070132969A1

公开(公告)日：2007-06-14

申请号：US10565612

申请日：2004-07-08

申请人： Bernhard Gellrich ,  Gerd Reisinger ,  Dieter Schmerek ,  Jens Kugler

发明人： Bernhard Gellrich ,  Gerd Reisinger ,  Dieter Schmerek ,  Jens Kugler

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： The invention relates to a projection exposure system for microlithography, said system comprising an illumination device for generating a projection light, and a projection objective comprising a plurality of optical elements such as lenses (L5) and enabling a reticle that can be arranged in an object plane of the projection objective to be imaged onto a light-sensitive surface (26) that can be arranged in an image plane of the projection objective and is applied to a carrier (30). The inventive system is also provided with an immersion device between an image-side last optical element (L5) of the projection objective and the light-sensitive surface (26), for introducing an immersion liquid (34) into an immersion chamber (50). Said immersion device comprises means (44; 66) which can prevent the appearance of gas bubbles (48) in the immersion liquid (34), affecting the imaging quality, and/or can remove existing gas bubbles (48). Said means can be, for example, an ultrasound source (66) or a degasifier (44).

摘要翻译： 本发明涉及一种用于微光刻的投影曝光系统，所述系统包括用于产生投射光的照明装置，以及包括诸如透镜（L 5）的多个光学元件的投影物镜，并且能够将一个掩模版布置在 将被投影物镜的物体平面成像到能够被布置在投影物镜的像平面中并被施加到载体（30）的光敏表面（26）上。 本发明的系统还在投影物镜的最后一个光学元件（L 5）和光敏表面（26）之间设置浸入装置，用于将浸没液（34）引入到浸没室（50） ）。 所述浸渍装置包括能够防止浸没液体（34）中的气泡（48）出现的装置（44; 66），影响成像质量，和/或可以去除现有的气泡（48）。 所述装置可以是例如超声源（66）或脱气器（44）。

公开(公告)号：US09046795B2

公开(公告)日：2015-06-02

申请号：US12046186

申请日：2008-03-11

申请人： Tilman Schwertner ,  Ulrich Bingel ,  Guido Limbach ,  Julian Kaller ,  Hans-Juergen Scherle ,  Jens Kugler ,  Dirk Schaffer ,  Bernhard Gellrich

发明人： Tilman Schwertner ,  Ulrich Bingel ,  Guido Limbach ,  Julian Kaller ,  Hans-Juergen Scherle ,  Jens Kugler ,  Dirk Schaffer ,  Bernhard Gellrich

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/7015 ,  G02B27/0006 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70933 ,  Y10T29/49

摘要： An optical element unit includes a first optical element module and a sealing arrangement. The first optical element module occupies a first module space and includes a first module component of a first component type and an associated second module component of a second component type. The first component type is optical elements and the second component type being different from the first component type. The sealing arrangement separates the first module space into a first space and a second space and substantially pre-vents, at least in a first direction, the intrusion of substances from one of the first space and the second space into the other one of the first space and the second space. The first module component at least partially contacts the first space and, at least in its area optically used, not contacting the second space. The second module component at least partially contacts the second space.

摘要翻译： 光学元件单元包括第一光学元件模块和密封装置。 第一光学元件模块占据第一模块空间并且包括第一组件类型的第一模块组件和第二组件类型的相关联的第二模块组件。 第一部件类型是光学元件，第二部件类型与第一部件类型不同。 密封装置将第一模块空间分隔成第一空间和第二空间，并且至少在第一方向上基本上预先将物质从第一空间和第二空间中的一个进入另一个第一空间 空间和第二空间。 第一模块部件至少部分地接触第一空间，并且至少在其光学使用的区域中不接触第二空间。 第二模块组件至少部分地接触第二空间。

公开(公告)号：US08300210B2

公开(公告)日：2012-10-30

申请号：US11664896

申请日：2005-10-01

申请人： Johannes Rau ,  Armin Schoeppach ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Martin Mahlmann ,  Bernhard Geuppert ,  Thomas Petasch ,  Gerhard Fuerter

发明人： Johannes Rau ,  Armin Schoeppach ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Martin Mahlmann ,  Bernhard Geuppert ,  Thomas Petasch ,  Gerhard Fuerter

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42 ,  G02B7/02

CPC分类号： G03F7/7015 ,  G02B7/00 ,  G02B7/008 ,  G02B7/021 ,  G02B7/028 ,  G02B7/22 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0804 ,  G02B17/0812 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70883

摘要： An optical projection unit comprising a first optical element module and at least one second optical element module is provided. The first optical element module comprises a first housing unit and at least a first optical element, the first optical element being received within the first housing unit and having an optically used first region defining a first optical axis. The at least one second optical element module is located adjacent to the first optical element module and comprises at least one second optical element, the second optical element defining a second optical axis of the optical projection unit. The first housing unit has a central first housing axis and an outer wall extending in a circumferential direction about the first housing axis. The first optical axis is at least one of laterally offset and inclined with respect to the first housing axis. Furthermore, the first housing axis is substantially collinear with the second optical axis.

摘要翻译： 提供了包括第一光学元件模块和至少一个第二光学元件模块的光学投影单元。 第一光学元件模块包括第一壳体单元和至少第一光学元件，第一光学元件被接收在第一壳体单元内并且具有限定第一光轴的光学使用的第一区域。 所述至少一个第二光学元件模块位于与所述第一光学元件模块相邻并且包括至少一个第二光学元件，所述第二光学元件限定所述光学投影单元的第二光轴。 第一壳体单元具有中心的第一壳体轴线和围绕第一壳体轴线在圆周方向上延伸的外壁。 第一光轴是相对于第一壳体轴线的横向偏移和倾斜中的至少一个。 此外，第一壳体轴线与第二光轴基本共线。

公开(公告)号：US08279402B2

公开(公告)日：2012-10-02

申请号：US12403132

申请日：2009-03-12

申请人： Stephan Six ,  Michael Lill ,  Ruediger Duesing ,  Bernhard Gellrich ,  Michael Widmann ,  Andreas Schubert ,  Tilmann Von Papen ,  Thomas Ihl

发明人： Stephan Six ,  Michael Lill ,  Ruediger Duesing ,  Bernhard Gellrich ,  Michael Widmann ,  Andreas Schubert ,  Tilmann Von Papen ,  Thomas Ihl

IPC分类号： G03F7/207

CPC分类号： G03F7/70958 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/706

摘要： An optical arrangement for immersion lithography, having at least one component (1) to which a hydrophobic coating (6, 7) is applied, the hydrophobic coating (6, 7) being exposed to UV radiation during operation of a projection lens, and the at least one component (1) being wetted at least in part by an immersion fluid during operation of the projection lens. The hydrophobic coating (6, 7) includes at least one UV-resistant layer (6) that absorbs and/or reflects UV radiation at a wavelength of less than 260 nm.

摘要翻译： 一种用于浸没光刻的光学装置，其具有至少一个施加有疏水涂层（6,7）的组分（1），所述疏水涂层（6,7）在投影透镜的操作期间暴露于UV辐射，并且 至少一个部件（1）在投影透镜的操作期间至少部分地被浸没流体润湿。 疏水涂层（6,7）包括吸收和/或反射波长小于260nm的UV辐射的至少一个抗紫外线层（6）。

公开(公告)号：US07986472B2

公开(公告)日：2011-07-26

申请号：US11444191

申请日：2006-05-31

申请人： Jens Kugler ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Gellrich ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Peter Deufel

发明人： Jens Kugler ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Gellrich ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Peter Deufel

IPC分类号： G02B7/02

CPC分类号： G02B7/028 ,  G02B7/008 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891

摘要： There is provided an optical element module comprising a first optical element and an optical element holder. The first optical element has a first coefficient of thermal expansion. The optical element holder holds the first optical element and has a second coefficient of thermal expansion, the second coefficient of thermal expansion being adapted to the first coefficient of thermal expansion. The optical element is directly contacting the optical element holder in a wide contact area. The contact area is defined by a first contact surface of the first optical element and a second contact surface of the optical element holder, wherein the second contact surface matches the first contact surface. Thus, favorable rigidity and deformation behavior is provided.

摘要翻译： 提供了一种包括第一光学元件和光学元件保持器的光学元件模块。 第一光学元件具有第一热膨胀系数。 光学元件保持器保持第一光学元件并具有第二热膨胀系数，第二热膨胀系数适应于第一热膨胀系数。 光学元件在宽接触区域中直接接触光学元件保持器。 接触区域由第一光学元件的第一接触表面和光学元件保持器的第二接触表面限定，其中第二接触表面与第一接触表面匹配。 因此，提供了良好的刚性和变形行为。

公开(公告)号：US07649702B2

公开(公告)日：2010-01-19

申请号：US12019830

申请日：2008-01-25

申请人： Bernhard Gellrich ,  Paul Graeupner ,  Juergen Fischer ,  Andreas Wurmbrand ,  Bauke Jansen ,  Bob Streefkerk ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Johannes Jacobus Matheus Baselmans

发明人： Bernhard Gellrich ,  Paul Graeupner ,  Juergen Fischer ,  Andreas Wurmbrand ,  Bauke Jansen ,  Bob Streefkerk ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Johannes Jacobus Matheus Baselmans

IPC分类号： G02B7/02 ,  G02B3/00 ,  G02B3/12

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70825

摘要： An immersion lithography objective has a housing in which at least one first optical element is arranged, a second optical element, which follows the first optical element in the direction of the optical axis of the objective, an immersion medium that adjoins the second optical element being located downstream of the latter in the direction of the optical axis, and a retaining structure for the second optical element. The retaining structure has a greater stiffness in the direction of the optical axis than in a direction perpendicular to the optical axis.

摘要翻译： 浸没式光刻物镜具有其中布置有至少一个第一光学元件的壳体，沿着物镜的光轴方向跟随第一光学元件的第二光学元件，与第二光学元件邻接的浸没介质， 位于后者的光轴的方向的下游，以及用于第二光学元件的保持结构。 保持结构在光轴的方向上具有比垂直于光轴的方向更大的刚度。