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    Optical element module
    1.
    发明申请
    Optical element module 有权
    光学元件模块

    公开(公告)号：US20070146906A1

    公开(公告)日：2007-06-28

    申请号：US11444191

    申请日：2006-05-31

    申请人： Jens Kugler ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Gellrich ,  Yim-Bun Kwan ,  Peter Deufel

    发明人： Jens Kugler ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Gellrich ,  Yim-Bun Kwan ,  Peter Deufel

    IPC分类号： G02B7/02

    CPC分类号： G02B7/028 ,  G02B7/008 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891

    摘要： There is provided an optical element module comprising a first optical element and an optical element holder. The first optical element has a first coefficient of thermal expansion. The optical element holder holds the first optical element and has a second coefficient of thermal expansion, the second coefficient of thermal expansion being adapted to the first coefficient of thermal expansion. The optical element is directly contacting the optical element holder in a wide contact area. The contact area is defined by a first contact surface of the first optical element and a second contact surface of the optical element holder, wherein the second contact surface matches the first contact surface. Thus, favorable rigidity and deformation behavior is provided.

    摘要翻译： 提供了一种包括第一光学元件和光学元件保持器的光学元件模块。 第一光学元件具有第一热膨胀系数。 光学元件保持器保持第一光学元件并具有第二热膨胀系数，第二热膨胀系数适应于第一热膨胀系数。 光学元件在宽接触区域中直接接触光学元件保持器。 接触区域由第一光学元件的第一接触表面和光学元件保持器的第二接触表面限定，其中第二接触表面与第一接触表面匹配。 因此，提供了良好的刚性和变形行为。

    Optical element module
    2.
    发明授权
    Optical element module 有权
    光学元件模块

    公开(公告)号：US07986472B2

    公开(公告)日：2011-07-26

    申请号：US11444191

    申请日：2006-05-31

    申请人： Jens Kugler ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Gellrich ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Peter Deufel

    发明人： Jens Kugler ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Gellrich ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Peter Deufel

    IPC分类号： G02B7/02

    CPC分类号： G02B7/028 ,  G02B7/008 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891

    摘要： There is provided an optical element module comprising a first optical element and an optical element holder. The first optical element has a first coefficient of thermal expansion. The optical element holder holds the first optical element and has a second coefficient of thermal expansion, the second coefficient of thermal expansion being adapted to the first coefficient of thermal expansion. The optical element is directly contacting the optical element holder in a wide contact area. The contact area is defined by a first contact surface of the first optical element and a second contact surface of the optical element holder, wherein the second contact surface matches the first contact surface. Thus, favorable rigidity and deformation behavior is provided.

    摘要翻译： 提供了一种包括第一光学元件和光学元件保持器的光学元件模块。 第一光学元件具有第一热膨胀系数。 光学元件保持器保持第一光学元件并具有第二热膨胀系数，第二热膨胀系数适应于第一热膨胀系数。 光学元件在宽接触区域中直接接触光学元件保持器。 接触区域由第一光学元件的第一接触表面和光学元件保持器的第二接触表面限定，其中第二接触表面与第一接触表面匹配。 因此，提供了良好的刚性和变形行为。

    Optical arrangement in a projection exposure apparatus for EUV lithography
    3.
    发明授权
    Optical arrangement in a projection exposure apparatus for EUV lithography 有权
    用于EUV光刻的投影曝光装置中的光学布置

    公开(公告)号：US09298111B2

    公开(公告)日：2016-03-29

    申请号：US13405882

    申请日：2012-02-27

    申请人： Viktor Kulitzki ,  Bernhard Gellrich ,  Stefan Xalter ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Peter Deufel ,  Andreas Wurmbrand

    发明人： Viktor Kulitzki ,  Bernhard Gellrich ,  Stefan Xalter ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Peter Deufel ,  Andreas Wurmbrand

    IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/54 ,  G03B27/32 ,  G03F7/20 ,  G02B7/00

    CPC分类号： G03F7/70916 ,  G02B7/00 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891

    摘要： An optical arrangement includes a multiplicity of optical elements and a carrier structure which carries the optical elements. The carrier structure is composed of at least two releasably interconnected modules. Each module is composed of at least one carrier structure subelement. A subhousing is produced by a multiplicity of carrier structure subelements and/or modules. The subhousing has a geometry that varies, at least in regions, in correspondence to a usable beam path in the projection exposure apparatus, the usable beam path being defined as an envelope of all light bundles which can propagate from all field points in a field plane to an image plane of the projection exposure apparatus. A projection exposure apparatus for EUV lithography includes such an optical arrangement.

    摘要翻译： 光学装置包括多个光学元件和承载光学元件的载体结构。 载体结构由至少两个可释放地互连的模块组成。 每个模块由至少一个载体结构子元件组成。 子载体由多个载体结构子元件和/或模块产生。 子结构具有至少在区域中对应于投影曝光装置中的可用光束路径而变化的几何形状，可用光束路径被定义为可以在场平面中从所有场点传播的所有光束的包络 到投影曝光装置的像平面。 用于EUV光刻的投影曝光装置包括这种光学装置。

    OPTICAL ARRANGEMENT IN A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR EUV LITHOGRAPHY
    4.
    发明申请
    OPTICAL ARRANGEMENT IN A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR EUV LITHOGRAPHY 有权
    投影曝光装置的光学布置

    公开(公告)号：US20120188523A1

    公开(公告)日：2012-07-26

    申请号：US13405882

    申请日：2012-02-27

    申请人： Viktor Kulitsky ,  Bernhard Gellrich ,  Stefan Xalter ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Peter Deufel ,  Andreas Wurmbrand

    发明人： Viktor Kulitsky ,  Bernhard Gellrich ,  Stefan Xalter ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Peter Deufel ,  Andreas Wurmbrand

    IPC分类号： G03B27/70 ,  G02B7/182

    CPC分类号： G03F7/70916 ,  G02B7/00 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891

    摘要： An optical arrangement includes a multiplicity of optical elements and a carrier structure which carries the optical elements. The carrier structure is composed of at least two releasably interconnected modules. Each module is composed of at least one carrier structure subelement. A subhousing is produced by a multiplicity of carrier structure subelements and/or modules. The subhousing has a geometry that varies, at least in regions, in correspondence to a usable beam path in the projection exposure apparatus, the usable beam path being defined as an envelope of all light bundles which can propagate from all field points in a field plane to an image plane of the projection exposure apparatus. A projection exposure apparatus for EUV lithography includes such an optical arrangement.

    摘要翻译： 光学装置包括多个光学元件和承载光学元件的载体结构。 载体结构由至少两个可释放地互连的模块组成。 每个模块由至少一个载体结构子元件组成。 子载体由多个载体结构子元件和/或模块产生。 子结构具有至少在区域中对应于投影曝光装置中的可用光束路径而变化的几何形状，可用光束路径被定义为可以在场平面中从所有场点传播的所有光束的包络 到投影曝光装置的像平面。 用于EUV光刻的投影曝光装置包括这种光学装置。

    METHOD AND DEVICE FOR REPLACING OBJECTIVE PARTS
    5.
    发明申请
    METHOD AND DEVICE FOR REPLACING OBJECTIVE PARTS 审中-公开
    用于替换目标部件的方法和装置

    公开(公告)号：US20090260654A1

    公开(公告)日：2009-10-22

    申请号：US12430633

    申请日：2009-04-27

    申请人： Bernhard Geuppert ,  Guido Limbach ,  Harald Woelfle ,  Peter Deufel

    发明人： Bernhard Geuppert ,  Guido Limbach ,  Harald Woelfle ,  Peter Deufel

    IPC分类号： G02B7/14 ,  B08B3/12 ,  B08B7/00 ,  B08B1/00

    CPC分类号： G03F7/70925 ,  B08B3/12 ,  B08B7/0035 ,  B23P6/00 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70975 ,  Y10T29/49723

    摘要： A method and a device for replacing objective parts, especially of a projection or illumination objective for microlithography in which an objective having an objective interior and objective parts provided therein is provided. At least one objective part is replaceably accommodated in the objective. Immediately prior to installation in the objective, the replaceable objective part is cleaned outside the objective interior in at least one cleaning room sealed off from the ambient atmosphere. Immediately after cleaning, the replaceable objective is installed in the objective without contact with the normal ambient atmosphere.

    摘要翻译： 一种用于替换目标部件的方法和装置，特别是用于微光刻的投影或照明物镜，其中设置有设置在其中的物镜内部和物镜部分的物镜。 目标中至少有一个客观部分是可替换的。 在安装目标之前，在与环境大气密封的至少一个清洁室内，可更换的物镜部分被清洁在目标内部的外部。 清洁后立即将可更换的物镜安装在物镜中，而不会与正常的环境气氛接触。