公开(公告)号：US20070146906A1

公开(公告)日：2007-06-28

申请号：US11444191

申请日：2006-05-31

申请人： Jens Kugler ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Gellrich ,  Yim-Bun Kwan ,  Peter Deufel

发明人： Jens Kugler ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Gellrich ,  Yim-Bun Kwan ,  Peter Deufel

IPC分类号： G02B7/02

CPC分类号： G02B7/028 ,  G02B7/008 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891

摘要： There is provided an optical element module comprising a first optical element and an optical element holder. The first optical element has a first coefficient of thermal expansion. The optical element holder holds the first optical element and has a second coefficient of thermal expansion, the second coefficient of thermal expansion being adapted to the first coefficient of thermal expansion. The optical element is directly contacting the optical element holder in a wide contact area. The contact area is defined by a first contact surface of the first optical element and a second contact surface of the optical element holder, wherein the second contact surface matches the first contact surface. Thus, favorable rigidity and deformation behavior is provided.

摘要翻译： 提供了一种包括第一光学元件和光学元件保持器的光学元件模块。 第一光学元件具有第一热膨胀系数。 光学元件保持器保持第一光学元件并具有第二热膨胀系数，第二热膨胀系数适应于第一热膨胀系数。 光学元件在宽接触区域中直接接触光学元件保持器。 接触区域由第一光学元件的第一接触表面和光学元件保持器的第二接触表面限定，其中第二接触表面与第一接触表面匹配。 因此，提供了良好的刚性和变形行为。

公开(公告)号：US20060262704A1

公开(公告)日：2006-11-23

申请号：US11395719

申请日：2006-03-31

申请人： Hans-Jurgen Scherle ,  Yim-Bun Kwan ,  Stefan Xalter ,  Johannes Lippert ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Geuppert ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Franz Sorg ,  Willi Heintel ,  Harald Kirchner ,  Wolfgang Keller ,  Andreas Frommeyer ,  Fraser Morrison

发明人： Hans-Jurgen Scherle ,  Yim-Bun Kwan ,  Stefan Xalter ,  Johannes Lippert ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Geuppert ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Franz Sorg ,  Willi Heintel ,  Harald Kirchner ,  Wolfgang Keller ,  Andreas Frommeyer ,  Fraser Morrison

IPC分类号： G11B7/135

CPC分类号： G03F7/70225 ,  G02B17/0812

摘要： There is provided an optical element comprising an optical element body, a reflecting area and an optical passageway. The optical element body defines an axis of rotational symmetry. The reflecting area is disposed on the optical element body and adapted to be optically used in an exposure process. The optical passageway is arranged within the optical element body and allows light to pass the optical element body, the optical passageway being arranged eccentrically with respect to the axis of rotational symmetry.

摘要翻译： 提供了一种包括光学元件主体，反射区域和光学通道的光学元件。 光学元件主体限定旋转对称轴。 反射区域设置在光学元件主体上并且适于在曝光过程中被光学地使用。 光学通道布置在光学元件主体内并允许光通过光学元件主体，光学通道相对于旋转对称轴线偏心地布置。

公开(公告)号：US07986472B2

公开(公告)日：2011-07-26

申请号：US11444191

申请日：2006-05-31

申请人： Jens Kugler ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Gellrich ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Peter Deufel

发明人： Jens Kugler ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Gellrich ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Peter Deufel

IPC分类号： G02B7/02

CPC分类号： G02B7/028 ,  G02B7/008 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891

摘要： There is provided an optical element module comprising a first optical element and an optical element holder. The first optical element has a first coefficient of thermal expansion. The optical element holder holds the first optical element and has a second coefficient of thermal expansion, the second coefficient of thermal expansion being adapted to the first coefficient of thermal expansion. The optical element is directly contacting the optical element holder in a wide contact area. The contact area is defined by a first contact surface of the first optical element and a second contact surface of the optical element holder, wherein the second contact surface matches the first contact surface. Thus, favorable rigidity and deformation behavior is provided.

摘要翻译： 提供了一种包括第一光学元件和光学元件保持器的光学元件模块。 第一光学元件具有第一热膨胀系数。 光学元件保持器保持第一光学元件并具有第二热膨胀系数，第二热膨胀系数适应于第一热膨胀系数。 光学元件在宽接触区域中直接接触光学元件保持器。 接触区域由第一光学元件的第一接触表面和光学元件保持器的第二接触表面限定，其中第二接触表面与第一接触表面匹配。 因此，提供了良好的刚性和变形行为。

公开(公告)号：US20090244509A1

公开(公告)日：2009-10-01

申请号：US12409961

申请日：2009-03-24

申请人： Guido Limbach ,  Franz Sorg ,  Armin Schoeppach ,  Ulrich Weber ,  Ulrich Loering ,  Dirk Hellweg ,  Peter Meyer ,  Stefan Xalter ,  Jens Kugler ,  Bernhard Gellrich ,  Stefan Hembacher ,  Bernhard Geuppert ,  Aksel Goehnermeier

发明人： Guido Limbach ,  Franz Sorg ,  Armin Schoeppach ,  Ulrich Weber ,  Ulrich Loering ,  Dirk Hellweg ,  Peter Meyer ,  Stefan Xalter ,  Jens Kugler ,  Bernhard Gellrich ,  Stefan Hembacher ,  Bernhard Geuppert ,  Aksel Goehnermeier

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G02B7/004 ,  G02B27/0068 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70825

摘要： The disclosure relates to an optical system, such as a projection exposure apparatus for semiconductor lithography, including a manipulable correction arrangement for reducing image aberrations. In some embodiments, the system includes at least one manipulator configured to reduce image aberrations. The manipulator can include at least one optical element which can be manipulated by at least one actuator. The manipulator can be formed in changeable fashion together with an actuator.

摘要翻译： 本发明涉及一种光学系统，例如用于半导体光刻的投影曝光装置，包括用于减小图像像差的可操作的校正装置。 在一些实施例中，系统包括被配置为减少图像像差的至少一个操纵器。 操纵器可以包括至少一个可由至少一个致动器操纵的光学元件。 操纵器可以与致动器一起以可变的方式形成。

公开(公告)号：US06744574B2

公开(公告)日：2004-06-01

申请号：US10247964

申请日：2002-09-20

申请人： Ulrich Weber ,  Jochen Becker ,  Hubert Holderer ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler

发明人： Ulrich Weber ,  Jochen Becker ,  Hubert Holderer ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler

IPC分类号： G02B702

CPC分类号： G02B7/02

摘要： A mount for an optical element in an optical imaging device, in particular in a lens system (4) for semiconductor lithography, has at least one mounting ring (2) which bears the optical element (6). The mounting ring (2) is of at least partially hollow design in cross section.

摘要翻译： 用于光学成像装置中的光学元件的安装件，特别是在用于半导体光刻的透镜系统（4）中，具有至少一个承载光学元件（6）的安装环（2）。 安装环（2）的截面至少部分为中空设计。

公开(公告)号：US08542346B2

公开(公告)日：2013-09-24

申请号：US12409961

申请日：2009-03-24

申请人： Guido Limbach ,  Franz Sorg ,  Armin Schoeppach ,  Ulrich Weber ,  Ulrich Loering ,  Dirk Hellweg ,  Peter Meyer ,  Stefan Xalter ,  Jens Kugler ,  Bernhard Gellrich ,  Stefan Hembacher ,  Bernhard Geuppert ,  Aksel Goehnermeier

发明人： Guido Limbach ,  Franz Sorg ,  Armin Schoeppach ,  Ulrich Weber ,  Ulrich Loering ,  Dirk Hellweg ,  Peter Meyer ,  Stefan Xalter ,  Jens Kugler ,  Bernhard Gellrich ,  Stefan Hembacher ,  Bernhard Geuppert ,  Aksel Goehnermeier

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G02B7/004 ,  G02B27/0068 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70825

摘要： The disclosure relates to an optical system, such as a projection exposure apparatus for semiconductor lithography, including a manipulable correction arrangement for reducing image aberrations. In some embodiments, the system includes at least one manipulator configured to reduce image aberrations. The manipulator can include at least one optical element which can be manipulated by at least one actuator. The manipulator can be formed in changeable fashion together with an actuator.

摘要翻译： 本发明涉及一种光学系统，例如用于半导体光刻的投影曝光装置，包括用于减小图像像差的可操作的校正装置。 在一些实施例中，系统包括被配置为减少图像像差的至少一个操纵器。 操纵器可以包括至少一个可由至少一个致动器操纵的光学元件。 操纵器可以与致动器一起以可变的方式形成。

公开(公告)号：US07760327B2

公开(公告)日：2010-07-20

申请号：US11395719

申请日：2006-03-31

申请人： Hans-Jürgen Scherle ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Stefan Xalter ,  Johannes Lippert ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Geuppert ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Franz Sorg ,  Willi Heintel ,  Harald Kirchner ,  Wolfgang Keller ,  Andreas Frommeyer ,  Fraser G. Morrison

发明人： Hans-Jürgen Scherle ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Stefan Xalter ,  Johannes Lippert ,  Ulrich Weber ,  Bernhard Geuppert ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler ,  Franz Sorg ,  Willi Heintel ,  Harald Kirchner ,  Wolfgang Keller ,  Andreas Frommeyer ,  Fraser G. Morrison

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/54 ,  G03B27/32 ,  G02B5/10

CPC分类号： G03F7/70225 ,  G02B17/0812

摘要： There is provided an optical element comprising an optical element body, a reflecting area and an optical passageway. The optical element body defines an axis of rotational symmetry. The reflecting area is disposed on the optical element body and adapted to be optically used in an exposure process. The optical passageway is arranged within the optical element body and allows light to pass the optical element body, the optical passageway being arranged eccentrically with respect to the axis of rotational symmetry.

摘要翻译： 提供了一种包括光学元件主体，反射区域和光学通道的光学元件。 光学元件主体限定旋转对称轴。 反射区域设置在光学元件主体上并且适于在曝光过程中被光学地使用。 光学通道布置在光学元件主体内并允许光通过光学元件主体，光学通道相对于旋转对称轴线偏心地布置。

公开(公告)号：US06842294B2

公开(公告)日：2005-01-11

申请号：US10118479

申请日：2002-04-08

申请人： Hubert Holderer ,  Ulrich Weber ,  Alexander Kohl ,  Toralf Gruner ,  Christoph Zaczek ,  Jens Ullmann ,  Martin Weiser ,  Bernhard Gellrich ,  Hartmut Muenker

发明人： Hubert Holderer ,  Ulrich Weber ,  Alexander Kohl ,  Toralf Gruner ,  Christoph Zaczek ,  Jens Ullmann ,  Martin Weiser ,  Bernhard Gellrich ,  Hartmut Muenker

IPC分类号： G02B17/08 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G02B3/00 ,  G02B17/00

CPC分类号： G02B17/0892 ,  G02B17/08 ,  G03F7/70225

摘要： A catadioptric objective comprises a plurality of lenses and at least two deflecting mirrors that have reflecting surfaces that are at a specific angle, in particular of 90°, to one another. The two deflecting mirrors are arranged with their reflecting surfaces on a common base member whose position in the objective can be set.

摘要翻译： 反射折射物镜包括多个透镜和至少两个偏转镜，其具有彼此具有特定角度，特别是90°的反射表面。 两个偏转镜被布置成其反射表面位于可以设置物镜中的位置的公共基座构件上。

公开(公告)号：US08027024B2

公开(公告)日：2011-09-27

申请号：US12029165

申请日：2008-02-11

申请人： Bernhard Gellrich ,  Ulrich Weber

发明人： Bernhard Gellrich ,  Ulrich Weber

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70825 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70691

摘要： Replacement devices for at least one replaceable optical element mounted at least indirectly in a lithographic projection exposure apparatus are disclosed. Lithography objectives and illumination systems are also disclosed. Methods for positioning a replaceable optical element within a lithographic projection exposure apparatus of this type, and methods for replacing a replaceable optical element within a lithographic projection exposure apparatus via a replacement device are also disclosed.

摘要翻译： 公开了至少一个至少间接安装在光刻投影曝光装置中的可更换光学元件的替换装置。 还公开了光刻目标和照明系统。 在这种类型的光刻投影曝光装置内定位可更换光学元件的方法以及通过更换装置替代光刻投影曝光装置内的可更换光学元件的方法也被公开。

公开(公告)号：US20080174758A1

公开(公告)日：2008-07-24

申请号：US12029165

申请日：2008-02-11

申请人： Bernhard Gellrich ,  Ulrich Weber

发明人： Bernhard Gellrich ,  Ulrich Weber

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70825 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70691

摘要： Replacement devices for at least one replaceable optical element mounted at least indirectly in a lithographic projection exposure apparatus are disclosed. Lithography objectives and illumination systems are also disclosed. Methods for positioning a replaceable optical element within a lithographic projection exposure apparatus of this type, and methods for replacing a replaceable optical element within a lithographic projection exposure apparatus via a replacement device are also disclosed.

摘要翻译： 公开了至少一个至少间接安装在光刻投影曝光装置中的可更换光学元件的替换装置。 还公开了光刻目标和照明系统。 在这种类型的光刻投影曝光装置内定位可更换光学元件的方法以及通过更换装置替代光刻投影曝光装置内的可更换光学元件的方法也被公开。