公开(公告)号：US20140308528A1

公开(公告)日：2014-10-16

申请号：US14144828

申请日：2013-12-31

Applicant: Intermolecular Inc.

Inventor： Guowen Ding ,  Brent Boyce ,  Jeremy Cheng ,  Jose Ferreira ,  Muhammad Imran ,  Minh Huu Le ,  Daniel Schweigert ,  Yu Wang ,  Yongli Xu ,  Guizhen Zhang

IPC: C23C14/10 ,  C03C17/34 ,  C23C14/34

CPC classification number: C03C17/366 ,  C03C17/3435 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3613 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3681 ,  C03C25/226 ,  C03C2218/155 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/0652 ,  C23C14/0688 ,  C23C14/083 ,  C23C14/086

Abstract: Disclosed herein are systems, methods, and apparatus for forming a low emissivity panel. In various embodiments, a partially fabricated panel may be provided. The partially fabricated panel may include a substrate, a reflective layer formed over the substrate, and a top dielectric layer formed over the reflective layer such that the reflective layer is formed between the substrate and the top dielectric layer. The top dielectric layer may include tin having an oxidation state of +4. An interface layer may be formed over the top dielectric layer. A top diffusion layer may be formed over the interface layer. The top diffusion layer may be formed in a nitrogen plasma environment. The interface layer may substantially prevent nitrogen from the nitrogen plasma environment from reaching the top dielectric layer and changing the oxidation state of tin included in the top dielectric layer.

Abstract translation: 本文公开了用于形成低发射率面板的系统，方法和装置。 在各种实施例中，可以提供部分制造的面板。 部分制造的面板可以包括衬底，在衬底上形成的反射层，以及形成在反射层上的顶部电介质层，使得反射层形成在衬底和顶部电介质层之间。 顶部电介质层可以包括具有+4的氧化态的锡。 界面层可以形成在顶部介电层上。 可以在界面层上形成顶部扩散层。 顶部扩散层可以在氮等离子体环境中形成。 界面层可以基本上防止来自氮等离子体环境的氮到达顶部电介质层并改变顶部电介质层中包含的锡的氧化态。

公开(公告)号：US20140272454A1

公开(公告)日：2014-09-18

申请号：US13801635

申请日：2013-03-13

Applicant: INTERMOLECULAR INC.

Inventor： Guizhen Zhang ,  Jeremy Cheng ,  Guowen Ding ,  Minh Huu Le ,  Daniel Schweigert ,  Yu Wang

IPC: C03C17/36 ,  C23C14/14

CPC classification number: C23C14/22 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3605 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C17/3681 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/042 ,  C23C14/14 ,  C23C14/34 ,  G02B1/12 ,  G02B1/14 ,  Y10T428/12542 ,  Y10T428/12549 ,  Y10T428/12611 ,  Y10T428/12778 ,  Y10T428/31678

Abstract: Provided is High Productivity Combinatorial (HPC) testing methodology of semiconductor substrates, each including multiple site isolated regions. The site isolated regions are used for testing different compositions and/or structures of barrier layers disposed over silver reflectors. The tested barrier layers may include all or at least two of nickel, chromium, titanium, and aluminum. In some embodiments, the barrier layers include oxygen. This combination allows using relative thin barrier layers (e.g., 5-30 Angstroms thick) that have high transparency yet provide sufficient protection to the silver reflector. The amount of nickel in a barrier layer may be 5-10% by weight, chromium—25-30%, titanium and aluminum—30%-35% each. The barrier layer may be co-sputtered in a reactive or inert-environment using one or more targets that include all four metals. An article may include multiple silver reflectors, each having its own barrier layer.

Abstract translation: 提供了半导体衬底的高生产率组合（HPC）测试方法，每个包括多个现场隔离区域。 位置隔离区域用于测试布置在银反射器上的阻挡层的不同组成和/或结构。 经测试的阻挡层可以包括镍，铬，钛和铝中的全部或至少两种。 在一些实施例中，阻挡层包括氧。 该组合允许使用具有高透明度的相对薄的阻挡层（例如5-30埃厚），同时为银反射器提供足够的保护。 阻挡层中的镍的量可以是5-10重量％，铬25-30％，钛和铝30％-35％。 阻挡层可以在反应性或惰性环境中使用包括所有四种金属的一种或多种目标共溅射。 物品可以包括多个银反射器，每个具有其自己的阻挡层。

公开(公告)号：US20140272390A1

公开(公告)日：2014-09-18

申请号：US13834261

申请日：2013-03-15

Applicant: INTERMOLECULAR INC.

Inventor： Guowen Ding ,  Brent Boyce ,  Minh Huu Le ,  Zhi-Wen Wen Sun ,  Yu Wang

IPC: C03C17/36

CPC classification number: C03C17/366 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3644 ,  Y10T428/265

Abstract: Embodiments provided herein describe low-e panels and methods for forming low-e panels. A transparent substrate is provided. A reflective layer is formed above the transparent substrate. A barrier layer is formed above the reflective layer. A nitride-containing layer is formed above the barrier layer. The nitride-containing layer has a thickness that is 1 nm or less. A over-coating layer is formed above the nitride-containing layer. The over-coating layer includes a different material than that of the nitride-containing layer.

Abstract translation: 本文提供的实施例描述了用于形成低e板的低e板和方法。 提供透明基板。 在透明基板的上方形成反射层。 在反射层上形成阻挡层。 在阻挡层上方形成含氮化物层。 含氮化物层的厚度为1nm以下。 在含氮化物层的上方形成覆盖层。 覆盖层包括与含氮化物层不同的材料。

公开(公告)号：US20140178578A1

公开(公告)日：2014-06-26

申请号：US13727115

申请日：2012-12-26

Applicant: INTERMOLECULAR, INC.

Inventor： Guizhen Zhang ,  Jeremy Cheng ,  Guowen Ding ,  Minh Huu Le ,  Daniel Schweigert ,  Yu Wang

IPC: B05D5/06

CPC classification number: C23C14/352 ,  B01J19/0046 ,  B01J2219/0043 ,  B01J2219/00443 ,  B01J2219/00596 ,  B01J2219/00659 ,  B01J2219/0075 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C23C14/165 ,  C23C14/3492

Abstract: Provided is High Productivity Combinatorial (HPC) testing methodology of semiconductor substrates, each including multiple site isolated regions. The site isolated regions are used for testing different compositions and/or structures of barrier layers disposed over silver reflectors. The tested barrier layers may include all or at least two of nickel, chromium, titanium, and aluminum. In some embodiments, the barrier layers include oxygen. This combination allows using relative thin barrier layers (e.g., 5-30 Angstroms thick) that have high transparency yet provide sufficient protection to the silver reflector. The amount of nickel in a barrier layer may be 5-10% by weight, chromium −25-30%, titanium and aluminum −30%-35% each. The barrier layer may be co-sputtered in a reactive or inert-environment using one or more targets that include all four metals. An article may include multiple silver reflectors, each having its own barrier layer.

Abstract translation: 提供了半导体衬底的高生产率组合（HPC）测试方法，每个包括多个现场隔离区域。 位置隔离区域用于测试布置在银反射器上的阻挡层的不同组成和/或结构。 经测试的阻挡层可以包括镍，铬，钛和铝中的全部或至少两种。 在一些实施例中，阻挡层包括氧。 该组合允许使用具有高透明度的相对薄的阻挡层（例如5-30埃厚），同时为银反射器提供足够的保护。 阻挡层中的镍的量可以为5-10重量％，铬-25-30％，钛和铝各自为-30％-35％。 阻挡层可以在反应性或惰性环境中使用包括所有四种金属的一种或多种目标共溅射。 物品可以包括多个银反射器，每个具有其自己的阻挡层。

公开(公告)号：US20140166472A1

公开(公告)日：2014-06-19

申请号：US13714767

申请日：2012-12-14

Applicant: INTERMOLECULAR INC.

Inventor： Guowen Ding ,  Brent Boyce ,  Mohd Fadzli Anwar Hassan ,  Minh Huu Le ,  Zhi-Wen Wen Sun ,  Yu Wang

IPC: C23C14/34

CPC classification number: C23C14/34 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/366 ,  C03C2217/732 ,  C23C14/024 ,  C23C14/185 ,  C23C14/541 ,  C23C14/562

Abstract: A method for making low emissivity panels, comprising cooling the article before or during sputter depositing a coating layer, such as a seed layer or an infrared reflective layer. The cooling process can improve the quality of the infrared reflective layer, which can lead to better transmittance in visible regime, block more heat transfer from the low emissivity panels, and potentially can reduce the requirements for other layers, so that the overall performance, such as durability, could be improved.

Abstract translation: 一种用于制造低辐射率面板的方法，包括在溅射沉积涂层之前或期间冷却制品，例如种子层或红外反射层。 冷却过程可以提高红外线反射层的质量，这可以在可见光区域产生更好的透光率，阻止来自低辐射面板的更多的热传递，并且潜在地可以减少对其他层的要求，使得整体性能如 作为耐久性，可以改进。

公开(公告)号：US20150337432A1

公开(公告)日：2015-11-26

申请号：US14816697

申请日：2015-08-03

Applicant: Intermolecular Inc.

Inventor： Guizhen Zhang ,  Jeremy Cheng ,  Guowen Ding ,  Minh Huu Le ,  Daniel Schweigert ,  Yu Wang

IPC: C23C14/34 ,  G02B1/12 ,  G02B1/14

CPC classification number: C23C14/22 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3605 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C17/3681 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/042 ,  C23C14/14 ,  C23C14/34 ,  G02B1/12 ,  G02B1/14 ,  Y10T428/12542 ,  Y10T428/12549 ,  Y10T428/12611 ,  Y10T428/12778 ,  Y10T428/31678

Abstract: Provided is High Productivity Combinatorial (HPC) testing methodology of semiconductor substrates, each including multiple site isolated regions. The site isolated regions are used for testing different compositions and/or structures of barrier layers disposed over silver reflectors. The tested barrier layers may include all or at least two of nickel, chromium, titanium, and aluminum. In some embodiments, the barrier layers include oxygen. This combination allows using relative thin barrier layers (e.g., 5-30 Angstroms thick) that have high transparency yet provide sufficient protection to the silver reflector. The amount of nickel in a barrier layer may be 5-10% by weight, chromium—25-30%, titanium and aluminum—30%-35% each. The barrier layer may be co-sputtered in a reactive or inert-environment using one or more targets that include all four metals. An article may include multiple silver reflectors, each having its own barrier layer.

公开(公告)号：US20150191815A1

公开(公告)日：2015-07-09

申请号：US14661958

申请日：2015-03-18

Applicant: Intermolecular Inc.

Inventor： Guowen Ding ,  Brent Boyce ,  Jeremy Cheng ,  Muhammad Imran ,  Jingyu Lao ,  Minh Huu Le ,  Daniel Schweigert ,  Zhi-Wen Wen Sun ,  Yu Wang ,  Yongli Xu ,  Guizhen Zhang

IPC: C23C14/08

CPC classification number: C23C14/08 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/366 ,  C03C17/3681 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/083 ,  C23C14/185 ,  C23C14/3464 ,  G02B5/0875 ,  G02B5/208 ,  Y10T428/12611

Abstract: A method for making low emissivity panels, including control the composition of a barrier layer formed on a thin conductive silver layer. The barrier structure can include a ternary alloy of nickel, titanium, and niobium, which showed improvements in overall performance than those from binary barrier results. The percentage of nickel can be between 5 and 15 wt %. The percentage of titanium can be between 30 and 50 wt %. The percentage of niobium can be between 40 and 60 wt %.

Abstract translation: 一种制造低发射率面板的方法，包括控制形成在薄导电银层上的阻挡层的组成。 阻挡结构可以包括镍，钛和铌的三元合金，其显示出比来自二元屏障结果的整体性能的改善。 镍的百分比可以在5和15重量％之间。 钛的百分比可以在30-50重量％之间。 铌的百分比可以在40至60重量％之间。

公开(公告)号：US09019483B2

公开(公告)日：2015-04-28

申请号：US13727854

申请日：2012-12-27

Applicant: Intermolecular Inc.

Inventor： Guowen Ding ,  Brent Boyce ,  Mohd Fadzli Anwar Hassan ,  Minh Huu Le ,  Zhi-Wen Wen Sun ,  Yu Wang

IPC: G01N21/41

CPC classification number: G01N21/4133 ,  G01N21/211 ,  G01N21/41

Abstract: Methods are provided to use data obtained from a single wavelength ellipsometer to determine the refractive index of materials as a function of wavelength for thin conductive films. The methods may be used to calculate the refractive index spectrum as a function of wavelength for thin films of metals, and conductive materials such as conductive metal nitrides or conductive metal oxides.

Abstract translation: 提供了使用从单个波长椭偏仪获得的数据来确定作为薄导电膜的波长的函数的材料的折射率的方法。 该方法可用于计算作为金属薄膜和导电材料如导电金属氮化物或导电金属氧化物的波长的函数的折射率谱。

公开(公告)号：US20150104569A1

公开(公告)日：2015-04-16

申请号：US14574755

申请日：2014-12-18

Applicant: Intermolecular Inc.

Inventor： Guizhen Zhang ,  Jeremy Cheng ,  Guowen Ding ,  Minh Huu Le ,  Daniel Schweigert ,  Yu Wang

IPC: C23C14/22 ,  C23C14/34 ,  C23C14/14

CPC classification number: C23C14/22 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3605 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C17/3681 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/042 ,  C23C14/14 ,  C23C14/34 ,  G02B1/12 ,  G02B1/14 ,  Y10T428/12542 ,  Y10T428/12549 ,  Y10T428/12611 ,  Y10T428/12778 ,  Y10T428/31678

Abstract: Provided is High Productivity Combinatorial (HPC) testing methodology of semiconductor substrates, each including multiple site isolated regions. The site isolated regions are used for testing different compositions and/or structures of barrier layers disposed over silver reflectors. The tested barrier layers may include all or at least two of nickel, chromium, titanium, and aluminum. In some embodiments, the barrier layers include oxygen. This combination allows using relative thin barrier layers (e.g., 5-30 Angstroms thick) that have high transparency yet provide sufficient protection to the silver reflector. The amount of nickel in a barrier layer may be 5-10% by weight, chromium—25-30%, titanium and aluminum—30%-35% each. The barrier layer may be co-sputtered in a reactive or inert-environment using one or more targets that include all four metals. An article may include multiple silver reflectors, each having its own barrier layer.

Abstract translation: 提供了半导体衬底的高生产率组合（HPC）测试方法，每个包括多个现场隔离区域。 位置隔离区域用于测试布置在银反射器上的阻挡层的不同组成和/或结构。 经测试的阻挡层可以包括镍，铬，钛和铝中的全部或至少两种。 在一些实施例中，阻挡层包括氧。 该组合允许使用具有高透明度的相对薄的阻挡层（例如5-30埃厚），同时为银反射器提供足够的保护。 阻挡层中的镍的量可以是5-10重量％，铬25-30％，钛和铝30％-35％。 阻挡层可以在反应性或惰性环境中使用包括所有四种金属的一种或多种目标共溅射。 物品可以包括多个银反射器，每个具有其自己的阻挡层。

公开(公告)号：US20140092462A1

公开(公告)日：2014-04-03

申请号：US14102768

申请日：2013-12-11

Applicant: Intermolecular, Inc.

Inventor： Minh Huu Le ,  Thai Cheng Chua ,  Guowen Ding ,  Minh Anh Nguyen ,  Yu Wang ,  Guizhen Zhang

IPC: G02F1/155

CPC classification number: G02F1/155

Abstract: Embodiments provided herein describe electrochromic devices and methods for forming electrochromic devices. The electrochromic devices include a transparent substrate, a transparent conducting oxide layer coupled to the transparent substrate, and a layer of electrochromic material coupled to the transparent conducting oxide layer. The transparent conducting oxide layer includes indium and zinc.

Abstract translation: 本文提供的实施例描述了用于形成电致变色器件的电致变色器件和方法。 电致变色器件包括透明衬底，耦合到透明衬底的透明导电氧化物层和耦合到透明导电氧化物层的电致变色材料层。 透明导电氧化物层包括铟和锌。