公开(公告)号：US20130011785A1

公开(公告)日：2013-01-10

申请号：US13636965

申请日：2011-03-25

申请人： Keita Kato ,  Shinji Tarutani ,  Toru Tsuchihashi ,  Sou Kamimura ,  Yuichiro Enomoto ,  Kana Fujii ,  Kaoru Iwato ,  Shohei Kataoka ,  Kazuyoshi Mizutani

发明人： Keita Kato ,  Shinji Tarutani ,  Toru Tsuchihashi ,  Sou Kamimura ,  Yuichiro Enomoto ,  Kana Fujii ,  Kaoru Iwato ,  Shohei Kataoka ,  Kazuyoshi Mizutani

IPC分类号： G03F7/004 ,  H01L29/02 ,  B32B3/10 ,  G03F7/20 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/24

摘要： Provided is a method of forming a pattern, ensuring excellent exposure latitude (EL) and focus latitude (depth of focus DOF). The method of forming a pattern includes (A) forming a film from a resist composition, the resist composition, (B) exposing the film to light, and (C) developing the exposed film using a developer containing an organic solvent, thereby forming a negative pattern. The resist composition contains (a) a resin that is configured to decompose when acted on by an acid and ΔSP thereof represented by formula (1) below is 2.5 (MPa)1/2 or above, (b) a compound that is composed to generate an acid when exposed to actinic rays or radiation, and (c) a solvent. ΔSP=SPF−SPI  (1)

摘要翻译： 提供了一种形成图案的方法，确保优异的曝光宽容度（EL）和聚焦纬度（焦深DOF）。 形成图案的方法包括（A）从抗蚀剂组合物形成膜，抗蚀剂组合物，（B）将膜曝光，和（C）使用含有有机溶剂的显影剂显影曝光膜，从而形成 负面模式。 抗蚀剂组合物含有（a）在被酸作用时被分解的树脂，由下式（1）表示的＆Dgr; SP为2.5（MPa）1/2以上，（b） 被组合以在暴露于光化射线或辐射时产生酸，和（c）溶剂。 ＆Dgr; SP = SPF-SPI（1）

公开(公告)号：US08722319B2

公开(公告)日：2014-05-13

申请号：US13245326

申请日：2011-09-26

申请人： Kaoru Iwato ,  Keita Kato

发明人： Kaoru Iwato ,  Keita Kato

IPC分类号： G03F7/26

CPC分类号： G03F7/0382 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

摘要： A pattern forming method includes: (i) forming a film from a chemical amplification resist composition that contains (A) a resin, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and (C) a tertiary alcohol; (ii) exposing the film; and (iii) performing development by using a developer containing an organic solvent.

摘要翻译： 图案形成方法包括：（i）从化学放大抗蚀剂组合物形成膜，其包含（A）树脂，（B）在通过光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物和（C） 醇; （ii）曝光胶片; 和（iii）通过使用含有有机溶剂的显影剂进行显影。

公开(公告)号：US08617788B2

公开(公告)日：2013-12-31

申请号：US13257403

申请日：2010-03-30

申请人： Takayuki Kato ,  Hiroshi Saegusa ,  Kaoru Iwato ,  Shuji Hirano ,  Yusuke Iizuka ,  Shuhei Yamaguchi ,  Akinori Shibuya

发明人： Takayuki Kato ,  Hiroshi Saegusa ,  Kaoru Iwato ,  Shuji Hirano ,  Yusuke Iizuka ,  Shuhei Yamaguchi ,  Akinori Shibuya

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041

摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, wherein when a film having a film thickness of 100 nm is formed from the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, the film has a transmittance of 55 to 80% for light at a wavelength of 193 nm, and a pattern forming method using the composition are provided.

摘要翻译： 光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其中当由光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物形成膜厚度为100nm的膜时，该膜对于光线具有55至80％的透射率 在波长193nm下，提供使用该组合物的图案形成方法。

公开(公告)号：US20120015301A1

公开(公告)日：2012-01-19

申请号：US13258898

申请日：2010-03-31

申请人： Masahiro Yoshidome ,  Shuji Hirano ,  Hiroshi Saegusa ,  Kaoru Iwato ,  Yusuke Iizuka

发明人： Masahiro Yoshidome ,  Shuji Hirano ,  Hiroshi Saegusa ,  Kaoru Iwato ,  Yusuke Iizuka

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/075 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including: (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, the resin containing (a) a repeating unit represented by the following formula (AN-01), (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a resin that contains at least either a fluorine atom or a silicon atom and contains a repeating unit having a group capable of decomposing by the action of an alkali developer to increase the solubility in an alkali developer: wherein the variables in formula (AN-01) are defined in the description.

摘要翻译： 本发明提供一种光化学射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含：（A）能够通过酸作用增加在碱性显影剂中的溶解性的树脂，所述树脂含有（a）由下式表示的重复单元 （AN-01），（B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，和（C）含有至少一个氟原子或硅原子的树脂，并且含有具有 能够通过碱显影剂的作用分解以提高在碱性显影剂中的溶解度的组：其中式（AN-01）中的变量在说明书中定义。

公开(公告)号：US20110236828A1

公开(公告)日：2011-09-29

申请号：US13139074

申请日：2009-12-11

申请人： Shuji Hirano ,  Kaoru Iwato ,  Hiroshi Saegusa ,  Yusuke Iizuka

发明人： Shuji Hirano ,  Kaoru Iwato ,  Hiroshi Saegusa ,  Yusuke Iizuka

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： C07D307/93 ,  C07D407/12 ,  C07D493/08 ,  C07D493/18 ,  C07D495/18 ,  C08F24/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, includes: (A) a resin capable of increasing the solubility of the resin (A) in an alkali developer by the action of an acid; and (C) a resin having at least either a fluorine atom or a silicon atom and containing (c) a repeating unit having at least two or more polarity conversion groups.

摘要翻译： 光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包括：（A）能够通过酸的作用增加树脂（A）在碱性显影剂中的溶解度的树脂; 和（C）至少具有氟原子或硅原子的树脂，并含有（c）具有至少两个以上极性转换基团的重复单元。

公开(公告)号：US09760003B2

公开(公告)日：2017-09-12

申请号：US13642751

申请日：2011-05-20

申请人： Kaoru Iwato ,  Hidenori Takahashi ,  Shuji Hirano ,  Sou Kamimura ,  Keita Kato

发明人： Kaoru Iwato ,  Hidenori Takahashi ,  Shuji Hirano ,  Sou Kamimura ,  Keita Kato

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/24

摘要： Provided is a method of forming a pattern and an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that excels in the limiting resolving power, roughness characteristics, exposure latitude (EL) and bridge defect performance. The method of forming a pattern includes (1) forming an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition into a film, (2) exposing the film to light, and (3) developing the exposed film with a developer containing an organic solvent. The actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition contains (A) a resin containing a repeating unit with a structural moiety that is configured to decompose when exposed to actinic rays or radiation to thereby generate an acid, and (B) a solvent.

公开(公告)号：US09017917B2

公开(公告)日：2015-04-28

申请号：US12535240

申请日：2009-08-04

申请人： Kaoru Iwato ,  Kazuto Kunita

发明人： Kaoru Iwato ,  Kazuto Kunita

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30

摘要： A resist composition comprises two or more polymers containing a first polymer and a second polymer and a compound that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid, wherein when the resist composition is formed into a dry resist film, the mixing ratios of at least the first and second polymers in the resist film exhibit a gradient distribution such that the mixing ratios continuously change in entirety or partially in the direction of the depth from the surface of the resist film on the air side toward a support, and wherein the mixing ratio of the first polymer at a superior portion of the resist film is higher than that of the second polymer, while the mixing ratio of the second polymer at an inferior portion of the resist film is higher than that of the first polymer.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物包括含有第一聚合物和第二聚合物的两种或更多种聚合物和当暴露于光化射线或辐射时产生酸的化合物，其中当抗蚀剂组合物形成干燥抗蚀剂膜时， 抗蚀剂膜中的第一和第二聚合物的至少表现出梯度分布，使得混合比在空气侧的抗蚀剂膜的表面朝向载体的深度方向全部或部分地连续变化，并且其中混合 抗蚀剂膜的上部的第一聚合物的比例高于第二聚合物，而抗蚀剂膜的下部的第二聚合物的混合比高于第一聚合物的比例。

公开(公告)号：US08999621B2

公开(公告)日：2015-04-07

申请号：US13390847

申请日：2010-10-05

申请人： Yuichiro Enomoto ,  Sou Kamimura ,  Shinji Tarutani ,  Keita Kato ,  Kaoru Iwato

发明人： Yuichiro Enomoto ,  Sou Kamimura ,  Shinji Tarutani ,  Keita Kato ,  Kaoru Iwato

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/30 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/0382 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/325 ,  G03F7/327 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A pattern forming method includes: (i) forming a film from a chemical amplification resist composition; (ii) exposing the film, so as to form an exposed film; and (iii) developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer, wherein the chemical amplification resist composition contains: (A) a resin substantially insoluble in alkali; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; (C) a crosslinking agent; and (D) a solvent, a negative chemical amplification resist composition used in the method, and a resist film formed from the negative chemical amplification resist composition.

摘要翻译： 图案形成方法包括：（i）从化学放大抗蚀剂组合物形成膜; （ii）使膜曝光，形成曝光膜; 和（iii）通过使用含有机溶剂的显影剂显影所述曝光的膜，其中所述化学增幅抗蚀剂组合物含有：（A）基本上不溶于碱的树脂; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能产生酸的化合物; （C）交联剂; 和（D）本方法中使用的溶剂，负性化学增幅抗蚀剂组合物和由负极化学增幅抗蚀剂组合物形成的抗蚀剂膜。

公开(公告)号：US08795944B2

公开(公告)日：2014-08-05

申请号：US13139193

申请日：2009-12-11

申请人： Hiroshi Saegusa ,  Kaoru Iwato ,  Shuji Hirano ,  Yusuke Iizuka

发明人： Hiroshi Saegusa ,  Kaoru Iwato ,  Shuji Hirano ,  Yusuke Iizuka

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041

摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including: (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a resin which contains (c) a repeating unit having at least one polarity conversion group and has at least either a fluorine atom or a silicon atom.

摘要翻译： 本发明提供一种光化学射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含：（A）能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解性的树脂，（B）在照射时能够产生酸的化合物 光化射线或辐射，以及（C）含有（c）具有至少一个极性转换基并且至少具有氟原子或硅原子的重复单元的树脂。

公开(公告)号：US08771916B2

公开(公告)日：2014-07-08

申请号：US13139074

申请日：2009-12-11

申请人： Shuji Hirano ,  Kaoru Iwato ,  Hiroshi Saegusa ,  Yusuke Iizuka

发明人： Shuji Hirano ,  Kaoru Iwato ,  Hiroshi Saegusa ,  Yusuke Iizuka

IPC分类号： G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： C07D307/93 ,  C07D407/12 ,  C07D493/08 ,  C07D493/18 ,  C07D495/18 ,  C08F24/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, includes: (A) a resin capable of increasing the solubility of the resin (A) in an alkali developer by the action of an acid; and (C) a resin having at least either a fluorine atom or a silicon atom and containing (c) a repeating unit having at least two or more polarity conversion groups.

摘要翻译： 光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包括：（A）能够通过酸的作用增加树脂（A）在碱性显影剂中的溶解度的树脂; 和（C）至少具有氟原子或硅原子的树脂，并含有（c）具有至少两个以上极性转换基团的重复单元。