公开(公告)号：US07075618B2

公开(公告)日：2006-07-11

申请号：US10269984

申请日：2002-10-15

申请人： Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku ,  Takahiro Matsumoto ,  Satoru Oishi

发明人： Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku ,  Takahiro Matsumoto ,  Satoru Oishi

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70525 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7046

摘要： A system for controlling an apparatus. The system includes an operating device for operating the apparatus based on a first parameter value and a second parameter value, an inspecting device for inspecting operation results of the apparatus corresponding to the first parameter value, an estimating device for estimating operation results of the apparatus corresponding to the first parameter value on the basis of the operation results corresponding to the first parameter value, and a revising device for revising parameter values to operate the apparatus on the basis of the operation results obtained by the inspecting device and the estimated operation results obtained by the estimating device.

摘要翻译： 一种用于控制装置的系统。 该系统包括用于基于第一参数值和第二参数值操作设备的操作装置，用于检查与第一参数值相对应的装置的操作结果的检查装置，用于估计对应于装置的操作结果的估计装置 基于与第一参数值相对应的运算结果的第一参数值，以及修正装置，用于根据检查装置得到的运算结果修正参数值以操作装置，以及修正装置 估计装置。

公开(公告)号：US20060092420A1

公开(公告)日：2006-05-04

申请号：US11244558

申请日：2005-10-05

申请人： Satoru Oishi

发明人： Satoru Oishi

IPC分类号： G01B11/00

CPC分类号： G03F9/7046 ,  G03F9/7092 ,  H01L21/681 ,  H01L21/682

摘要： A method detects a position of a mark based on an image signal of the mark. The method includes steps of obtaining a first position of the mark by performing a first process for the image signal, extracting plural feature values from the image signal based on the first position, and detecting the position of the mark by obtaining an offset value for the first position based on the plural feature values.

公开(公告)号：US07035759B2

公开(公告)日：2006-04-25

申请号：US10669285

申请日：2003-09-24

申请人： Satoru Oishi ,  Takehiko Suzuki

发明人： Satoru Oishi ,  Takehiko Suzuki

IPC分类号： G01C15/00

CPC分类号： G03F9/7088 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7092

摘要： A position detecting method includes the steps of forming an image of a mark on a sensor, performing a first process that processes a raw signal obtained from the sensor with plural parameters, performing a second process that determines an edge of a signal processed by the first process for each parameter, determining a parameter from a result of the second process obtained for each parameter, and calculating a position of the mark based on a determined parameter.

摘要翻译： 位置检测方法包括以下步骤：在传感器上形成标记的图像，执行处理由多个参数从传感器获得的原始信号的第一处理，执行第二处理，第二处理确定由第一处理的信号的边缘 对每个参数进行处理，根据针对每个参数获得的第二处理结果确定参数，以及基于所确定的参数来计算标记的位置。

公开(公告)号：US20050025352A1

公开(公告)日：2005-02-03

申请号：US10871464

申请日：2004-06-18

申请人： Takehiko Suzuki ,  Satoru Oishi

发明人： Takehiko Suzuki ,  Satoru Oishi

IPC分类号： G01B11/00 ,  G01B21/00 ,  G03F9/00 ,  G06K9/00 ,  G06T7/00 ,  H01L21/00 ,  H01L21/027

CPC分类号： H01L21/67259 ,  G06T7/70

摘要： There is provided a position detecting method for detecting a position of an object, on which an alignment mark including plural mark elements is formed. The method includes the steps of obtaining positional information indicative of each position of the plural mark elements, selecting positional information that has predetermined precision among plural pieces of positional information obtained by the obtaining step, and calculating the position of the object using the positional information that has the predetermined precision selected by the selecting step.

摘要翻译： 提供了一种用于检测物体的位置的位置检测方法，在该位置上形成包括多个标记元件的对准标记。 该方法包括以下步骤：获取指示多个标记元素的每个位置的位置信息，选择通过获取步骤获得的多个位置信息中具有预定精度的位置信息，并使用位置信息来计算对象的位置， 具有通过选择步骤选择的预定精度。

公开(公告)号：US20110242509A1

公开(公告)日：2011-10-06

申请号：US13156993

申请日：2011-06-09

申请人： Satoru OISHI

发明人： Satoru OISHI

IPC分类号： G03B27/52 ,  G01B11/14

CPC分类号： G03F9/7046 ,  G03F9/7092 ,  H01L21/681 ,  H01L21/682

摘要： A method detects a position of a mark based on an image signal of the mark. The method includes steps of obtaining a first position of the mark by performing a first process for the image signal, extracting plural feature values from the image signal based on the first position, and detecting the position of the mark by obtaining an offset value for the first position based on the plural feature values.

摘要翻译： 方法基于标记的图像信号来检测标记的位置。 该方法包括以下步骤：通过对图像信号执行第一处理来获得标记的第一位置，基于第一位置从图像信号中提取多个特征值，以及通过获得标记的偏移值来检测标记的位置 基于多个特征值的第一位置。

公开(公告)号：US07710543B2

公开(公告)日：2010-05-04

申请号：US11759526

申请日：2007-06-07

申请人： Satoru Oishi

发明人： Satoru Oishi

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/70641 ,  G03F9/7026

摘要： A measurement apparatus includes a measurement unit configured to execute first measurement at each of a plurality of measurement points on a substrate, which are juxtaposed in one of a direction perpendicular to a scanning direction and an oblique direction with respect to the scanning direction, and to execute a second measurement at each of the plurality of measurement points, while the substrate is shifted in a direction different from the scanning direction and a processing unit configured to select some measurement points from the plurality of measurement points on the basis of a change in a measurement value at each measurement point, which is obtained by the first measurement and the second measurement.

摘要翻译： 测量装置包括：测量单元，被配置为在与扫描方向垂直的方向和相对于扫描方向的倾斜方向中的一个方向上并置的基板上的多个测量点中的每一个执行第一测量，以及 在所述多个测量点的每一个处执行第二测量，同时所述基板沿与扫描方向不同的方向移动;以及处理单元，被配置为基于所述多个测量点的变化从所述多个测量点中选择一些测量点 通过第一测量和第二测量获得的每个测量点处的测量值。

公开(公告)号：US20050211918A1

公开(公告)日：2005-09-29

申请号：US11132260

申请日：2005-05-19

申请人： Satoru Oishi ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku

发明人： Satoru Oishi ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku

IPC分类号： G02B17/08 ,  G03F1/22 ,  G03F1/24 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/68 ,  G01J1/00 ,  A61N5/00 ,  G01N21/00

CPC分类号： G03F9/7065 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70283 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7015 ,  G03F9/7088

摘要： An alignment apparatus for aligning a reflective reticle includes a light source for emitting alignment light, an optical alignment mark provided on the reticle, and a reference mark provided on a reticle stage that holds the reticle. A detecting unit detects the alignment light reflected from the alignment mark and the reference mark, and the reticle is aligned on the basis of the result of detection by the detection unit.

摘要翻译： 用于对准反射标线的对准装置包括用于发射对准光的光源，设置在光罩上的光学对准标记，以及设置在保持光罩的标线片台上的参考标记。 检测单元检测从对准标记和参考标记反射的对准光，并且基于检测单元的检测结果对准标线。

公开(公告)号：US20050137837A1

公开(公告)日：2005-06-23

申请号：US10901106

申请日：2004-07-29

申请人： Satoru Oishi ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku ,  Takahiro Matsumoto

发明人： Satoru Oishi ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku ,  Takahiro Matsumoto

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  G05B19/418 ,  H01L21/027 ,  G06F17/50

CPC分类号： G03F7/70633 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70525 ,  G03F9/7092 ,  G05B2219/32018 ,  Y02P90/22

摘要： A management apparatus which manages a parameter for an industrial device acquires AGA measurement results obtained by operating the industrial device with an operation job parameter value and non-operation job parameter value. An inspection apparatus acquires an “inspection result” obtained by inspecting the result of operating the industrial device in the operation job. A change in inspection result upon a change in parameter value is estimated on the basis of the AGA measurement result and inspection result. A variable which minimizes (extreme) both or at least one of the sensitivity (slope) of the inspection result upon a change in parameter value and variations (3σ) in inspection result between objects to be processed (e.g., wafers) is set as an optimal parameter.

摘要翻译： 管理工业设备的参数的管理装置获取通过操作工作装置具有操作作业参数值和非操作作业参数值而获得的AGA测量结果。 检查装置获取通过检查操作工作中的工业装置的操作结果而获得的“检查结果”。 根据AGA测量结果和检查结果估计参数值变化时检查结果的变化。 将待处理对象（例如，晶片）之间的参数值和检查结果中的变化（3sigma）的检查结果的灵敏度（斜率）两者或至少一个最小化（极端）的变量设置为 最优参数。

公开(公告)号：US08532366B2

公开(公告)日：2013-09-10

申请号：US13156993

申请日：2011-06-09

申请人： Satoru Oishi

发明人： Satoru Oishi

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G03F9/7046 ,  G03F9/7092 ,  H01L21/681 ,  H01L21/682

摘要： A method detects a position of a mark based on an image signal of the mark. The method includes steps of obtaining a first position of the mark by performing a first process for the image signal, extracting plural feature values from the image signal based on the first position, and detecting the position of the mark by obtaining an offset value for the first position based on the plural feature values.

摘要翻译： 方法基于标记的图像信号来检测标记的位置。 该方法包括以下步骤：通过对图像信号执行第一处理来获得标记的第一位置，基于第一位置从图像信号中提取多个特征值，以及通过获得标记的偏移值来检测标记的位置 基于多个特征值的第一位置。

公开(公告)号：US20090286172A1

公开(公告)日：2009-11-19

申请号：US12465567

申请日：2009-05-13

申请人： Koichi Sentoku ,  Takahiro Matsumoto ,  Satoru Oishi ,  Hideki Ina

发明人： Koichi Sentoku ,  Takahiro Matsumoto ,  Satoru Oishi ,  Hideki Ina

IPC分类号： G03F7/20 ,  G01B11/24 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03B27/54 ,  G01B11/24 ,  G01J3/45 ,  G01J2003/1213 ,  G01J2003/1226 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7015 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7088

摘要： A surface shape measurement apparatus is configured to measure a surface shape of an object to be measured, and includes a beam splitter configured to split white light from a light source into two light beams, a pair of prisms each configured to increase an incident angle of each light beam that has been split by the beam splitter and directed to the object or a reference surface, each prism having an antireflection part that is formed at a period of a wavelength of the white light or smaller and has a moth-eye shape, a superimposition unit configured to superimpose object light from the object with reference light from the reference surface and has passed the second prism, and to generate white interference light, and a Lyot filter configured to discretely separate the white interference light for each of a plurality of wavelengths.

摘要翻译： 表面形状测量装置被配置为测量待测物体的表面形状，并且包括：分束器，被配置为将来自光源的白光分成两束光束;一对棱镜，每个棱镜被配置为增加入射角 已经被分束器分离并被引导到物体或参考表面的每个光束，每个棱镜具有在白色光的波长或更小的周期形成并具有蛾眼形状的抗反射部分， 叠加单元，被配置为用来自所述参考表面的参考光叠加来自所述物体的物体光并且已经通过所述第二棱镜，并且产生白色干涉光;以及Lyot滤波器，其被配置为离散地分离所述白色干涉光， 波长。