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    Process for controlling cone tilt angle in mixtures of smectic liquid crystal compounds
    32.
    发明授权
    Process for controlling cone tilt angle in mixtures of smectic liquid crystal compounds 失效
    控制锥形液晶化合物混合物锥角倾斜角的过程

    公开(公告)号：US5658491A

    公开(公告)日：1997-08-19

    申请号：US542179

    申请日：1995-10-12

    申请人： John F. Kistner ,  Marc D. Radcliffe ,  Patricia M. Savu ,  Daniel C. Snustad

    发明人： John F. Kistner ,  Marc D. Radcliffe ,  Patricia M. Savu ,  Daniel C. Snustad

    IPC分类号： G02F1/13 ,  C07D239/26 ,  C07D239/34 ,  C09K19/04 ,  C09K19/34 ,  C09K19/06 ,  C09K19/12 ,  C09K19/32

    CPC分类号： C07D239/26 ,  C09K19/04 ,  C09K19/3458 ,  C09K19/3469

    摘要： A process for controlling the cone tilt angle of a tilted smectic liquid crystal composition comprises the step of combining (a) at least one liquid crystal composition comprising at least one smectic or latent smectic liquid crystal compound comprising (i) an aliphatic fluorocarbon terminal portion comprising a terminal fluoroalkyl or fluoroether group and an alkylene group having at least two carbon atoms and containing at least one catenary ether oxygen atom, (ii) an aliphatic hydrocarbon terminal portion, and (iii) a central core connecting the terminal portions; and (b) at least one liquid crystal composition comprising at least one smectic or latent smectic liquid crystal compound; with the provisos that at least one of the compositions (a) and (b) comprises at least one chiral liquid crystal compound and that the combining of compositions (a) and (b) provides an optically active, tilted chiral smectic liquid crystal composition. The process enables control of cone tilt angle and thereby control of the brightness characteristics of liquid crystal display devices.

    摘要翻译： 用于控制倾斜的近晶液晶组合物的锥体倾斜角的方法包括将（a）至少一种液晶组合物组合的步骤，所述液晶组合物包含至少一种近晶或潜暗的近晶液晶化合物，所述液晶组合物包含（i）脂族碳氟化合物末端部分， 末端氟代烷基或氟代醚基和具有至少两个碳原子并含有至少一个链烯氧原子的亚烷基，（ii）脂肪族烃末端部分和（iii）连接末端部分的中心核心; 和（b）至少一种液晶组合物，其包含至少一种近晶或潜层间的近晶液晶化合物; 条件是组合物（a）和（b）中的至少一种包含至少一种手性液晶化合物，并且组合物（a）和（b）的组合提供光学活性的倾斜手性近晶液晶组合物。 该过程能够控制锥形倾斜角度，从而控制液晶显示装置的亮度特性。

    Additive for the reduction of mottle in photothermographic and thermographic elements
    36.
    发明授权
    Additive for the reduction of mottle in photothermographic and thermographic elements 失效
    添加剂用于减少光热照相和热成像元素中的斑点

    公开(公告)号：US5380644A

    公开(公告)日：1995-01-10

    申请号：US104888

    申请日：1993-08-10

    申请人： Roger K. Yonkoski ,  Patricia M. Savu

    发明人： Roger K. Yonkoski ,  Patricia M. Savu

    IPC分类号： G03C1/04 ,  C08F20/22 ,  C08F20/26 ,  C08F20/38 ,  C08F20/52 ,  C08F220/22 ,  C08F220/26 ,  C08F220/38 ,  C08F220/56 ,  G03C1/053 ,  G03C1/38 ,  G03C1/498 ,  G03C1/494

    CPC分类号： G03C1/4989 ,  G03C1/49863 ,  G03C1/385

    摘要： A fluorinated polymer comprising at least three different groups within the polymer chain derived from reactive monomers, the monomers comprising:(a) a fluorinated, ethylenically unsaturated monomer;(b) a hydroxyl-containing, ethylenically unsaturated monomer; and(c) a polar, ethylenically unsaturated monomer.The fluorinated polymers provide a surfactant that is particularly useful in the coating of polymeric layers. The surfactants can reduce surface anomalies, such as mottle when used to coat photothermographic and thermographic elements from certain solvent systems. The present invention also provides photothermographic and thermographic elements comprising the foregoing fluorinated polymers.

    摘要翻译： 包含衍生自反应性单体的聚合物链内至少三个不同基团的氟化聚合物，所述单体包含：（a）氟化烯属不饱和单体; （b）含羟基的烯属不饱和单体; 和（c）极性烯属不饱和单体。 氟化聚合物提供了在聚合物层的涂覆中特别有用的表面活性剂。 表面活性剂可以减少表面异常现象，例如用于从某些溶剂体系涂布光热照相和热成像元素时的斑点。 本发明还提供包含上述氟化聚合物的光热照相和热成像元件。

    Low refractive index plastics for optical fiber cladding
    37.
    发明授权
    Low refractive index plastics for optical fiber cladding 失效
    用于光纤包层的低折射率塑料

    公开(公告)号：US5148511A

    公开(公告)日：1992-09-15

    申请号：US787107

    申请日：1991-11-04

    申请人： Patricia M. Savu ,  Jerome W. McAllister

    发明人： Patricia M. Savu ,  Jerome W. McAllister

    IPC分类号： C03C25/24 ,  C03C25/10 ,  C08F20/20 ,  C08F20/22 ,  C08F220/28 ,  G02B1/04 ,  G02B6/00

    CPC分类号： G02B1/048 ,  C03C25/105

    摘要： A cladding composition comprising a fluorine-containing methacrylic monomer or a mixture of such monomers, and methyl methacrylate, such that the cladding composition is polymerized and then extruded or solution coated onto an optical fiber core, and an optical fiber comprising a core coated with such cladding composition, having a lower refractive index than the optical fiber core.

    摘要翻译： 包含含氟甲基丙烯酸单体或这些单体的混合物和甲基丙烯酸甲酯的包层组合物，使得包层组合物聚合然后挤出或溶液涂覆到光纤芯上，以及包含涂覆有这种材料的芯的光纤 包层组成，折射率低于光纤纤芯。

    Perfluoroalkyl sulfonamides surfactants for photoresist rinse solutions
    39.
    发明授权
    Perfluoroalkyl sulfonamides surfactants for photoresist rinse solutions 有权
    用于光刻胶冲洗溶液的全氟烷基磺酰胺表面活性剂

    公开(公告)号：US09551936B2

    公开(公告)日：2017-01-24

    申请号：US14237193

    申请日：2012-08-01

    申请人： Jason M. Kehren ,  Patricia M. Savu ,  Matthew J. Pinnow

    发明人： Jason M. Kehren ,  Patricia M. Savu ,  Matthew J. Pinnow

    IPC分类号： G03F7/32 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/405 ,  H01L21/0273

    摘要： A method of modifying a surface of a photoresist material including exposing the photoresist material to an aqueous ionic surfactant solution and varying the pH of the aqueous ionic surfactant solution until a fluorochemical layer is formed in or on the photoresist material. The aqueous ionic surfactant solution includes a perfluoroalkyl sulfonamide the formula: RfS02NH—R′ where Rf=CnF2n+1— and n=1 to 6, R′=—H, —CH3, and —CH2CH2OH. The aqueous ionic surfactant solution has a pH of within about 3 pH units of a pKa of the perfluoroalkyl sulfonamide.

    摘要翻译： 一种修饰光致抗蚀剂材料的表面的方法，包括将光致抗蚀剂材料暴露于水性离子表面活性剂溶液并改变离子表面活性剂水溶液的pH，直到在光致抗蚀剂材料中或其上形成含氟化合物层。 所述含水离子表面活性剂溶液包括式RfS02NH-R'的全氟烷基磺酰胺，其中Rf = CnF2n + 1-和n = 1-6，R'= -H，-CH3和-CH2CH2OH。 所述离子表面活性剂水溶液的pH值为所述全氟烷基磺酰胺的pKa的约3个pH单位。

    COMPOSITION, METHOD AND PROCESS FOR POLISHING A WAFER
    40.
    发明申请
    COMPOSITION, METHOD AND PROCESS FOR POLISHING A WAFER 审中-公开
    用于抛光抛光的组合物，方法和方法

    公开(公告)号：US20100243471A1

    公开(公告)日：2010-09-30

    申请号：US12739804

    申请日：2008-08-25

    申请人： Naichao Li ,  John J. Gagliardi ,  Philip G. Clark ,  Patricia M. Savu

    发明人： Naichao Li ,  John J. Gagliardi ,  Philip G. Clark ,  Patricia M. Savu

    IPC分类号： C09K13/00 ,  H01L21/302 ,  C25F3/30

    CPC分类号： H01L21/31053 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02

    摘要： A composition for use in polishing a wafer is disclosed. The composition includes an aqueous solution of initial components substantially free of loose abrasive particles and having a pH in the range of about 2 to 7, the aqueous solution including at least one polyelectrolyte and a surfactant. In certain embodiments, the wafer polishing composition can be adjusted to control cut rate and selectivity for modifying semiconductor wafers using a fixed abrasive Chemical Mechanical Polishing (CMP) process. Also disclosed is a CMP method and a process for polishing a wafer using the polishing composition.

    摘要翻译： 公开了一种用于抛光晶片的组合物。 所述组合物包含初始组分的水溶液，其基本上不含松散的磨料颗粒，并且pH在约2-7范围内，所述水溶液包含至少一种聚电解质和表面活性剂。 在某些实施方案中，可以调整晶片抛光组合物以控制使用固定磨料化学机械抛光（CMP）工艺修改半导体晶片的切割速率和选择性。 还公开了CMP方法和使用抛光组合物研磨晶片的方法。