公开(公告)号：US20080312356A1

公开(公告)日：2008-12-18

申请号：US12157427

申请日：2008-06-09

申请人： Boris Kobrin ,  Michael T. Grimes ,  Jeffrey D. Chinn

发明人： Boris Kobrin ,  Michael T. Grimes ,  Jeffrey D. Chinn

IPC分类号： A61L27/34 ,  C23C16/02

CPC分类号： C23C14/12 ,  A61L27/34 ,  A61L27/50 ,  B05D1/60 ,  B05D3/142 ,  B05D2201/00 ,  B05D2202/00 ,  C08L71/02

摘要： A method of providing a biocompatible PEG-comprising coating on a substrate, without the use of an underlying adhesion layer. The coating is vapor deposited onto the substrate from a precursor which includes a PEG-derived moiety and an amino silane-containing functional group which reacts with the substrate. The substrate may be metal or plastic, where plastic excludes polyimide and polycarbonate. The substrate may be plasma treated prior to deposition of the PEG-comprising coating.

摘要翻译： 在基材上提供生物相容的含PEG涂层的方法，而不使用下面的粘附层。 涂层从包含PEG衍生部分的前体和与基底反应的含氨基硅烷的官能团气相沉积到基底上。 基材可以是金属或塑料，其中塑料不包括聚酰亚胺和聚碳酸酯。 可以在沉积包含PEG的涂层之前对衬底进行等离子体处理。

公开(公告)号：US20070020392A1

公开(公告)日：2007-01-25

申请号：US11528093

申请日：2006-09-26

申请人： Boris Kobrin ,  Jeffrey Chinn ,  Romuald Nowak ,  Richard Yi

发明人： Boris Kobrin ,  Jeffrey Chinn ,  Romuald Nowak ,  Richard Yi

IPC分类号： C23C16/00 ,  B05D1/36 ,  B05D3/00

CPC分类号： C23C16/455 ,  B05D1/185 ,  B05D1/60 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C03C17/42 ,  C03C23/006 ,  C23C16/402 ,  C23C16/448

摘要： An improved vapor-phase deposition method and apparatus for the application of multilayered films/coatings on substrates is described. The method is used to deposit multilayered coatings where the thickness of an oxide-based layer in direct contact with a substrate is controlled as a function of the chemical composition of the substrate, whereby a subsequently deposited layer bonds better to the oxide-based layer. The improved method is used to deposit multilayered coatings where an oxide-based layer is deposited directly over a substrate and an organic-based layer is directly deposited over the oxide-based layer. Typically, a series of alternating layers of oxide-based layer and organic-based layer are applied.

摘要翻译： 描述了一种用于在基底上施加多层膜/涂层的改进的气相沉积方法和装置。 该方法用于沉积与衬底直接接触的氧化物基层的厚度作为衬底的化学组成的函数来控制多层涂层，由此随后沉积的层更好地结合到氧化物基层。 改进的方法用于沉积多层涂层，其中氧化物基层直接沉积在衬底上，并且基于有机的层直接沉积在基于氧化物的层上。 通常，施加一系列交替层的氧化物基层和基于有机层。

公开(公告)号：US20050271810A1

公开(公告)日：2005-12-08

申请号：US11048513

申请日：2005-01-31

申请人： Boris Kobrin ,  Jeffrey Chinn ,  Romuald Nowak ,  Richard Yi

发明人： Boris Kobrin ,  Jeffrey Chinn ,  Romuald Nowak ,  Richard Yi

IPC分类号： C23C16/00 ,  C23C16/02 ,  C23C16/40

CPC分类号： C23C16/402 ,  B05D1/185 ,  B05D1/60 ,  B05D5/04 ,  B05D7/22 ,  B05D7/222 ,  B05D2254/04 ,  B82Y30/00 ,  C23C16/0227 ,  C23C16/045 ,  Y10T29/49432 ,  Y10T428/1383 ,  Y10T436/11

摘要： We have developed an improved vapor-phase deposition method and apparatus for the application of layers and coatings on various substrates. The method and apparatus are useful in the fabrication of biotechnologically functional devices, Bio-MEMS devices, and in the fabrication of microfluidic devices for biological applications. In one important embodiment, oxide coatings providing hydrophilicity or oxide/polyethylene glycol coatings providing hydrophilicity can be deposited by the present method, over the interior surfaces of small wells in a plastic micro-plate in order to increase the hydrophilicity of these wells. Filling these channels with a precise amount of liquid consistently can be very difficult. This prevents a water-based sample from beading up and creating bubbles, so that well can fill accurately and completely, and alleviates spillage into other wells which causes contamination.

摘要翻译： 我们已经开发了一种改进的气相沉积方法和装置，用于在各种基底上施加层和涂层。 该方法和装置可用于制造生物技术功能器件，生物MEMS装置以及用于生物应用的微流体装置的制造。 在一个重要的实施方案中，提供亲水性的氧化物涂层或提供亲水性的氧化物/聚乙二醇涂层可以通过本方法在塑料微板的小孔的内表面上沉积，以增加这些孔的亲水性。 用一定量的液体填充这些通道可能非常困难。 这样可以防止水性样品卷入并产生气泡，从而可以精确和完全地填充，并减轻溢出到其他导致污染的孔中。

公开(公告)号：US08584703B2

公开(公告)日：2013-11-19

申请号：US12949623

申请日：2010-11-18

申请人： Boris Kobrin ,  Iuliu I. Blaga ,  William Nielsen ,  Shize D. Qi ,  Ezra Van Gelder

发明人： Boris Kobrin ,  Iuliu I. Blaga ,  William Nielsen ,  Shize D. Qi ,  Ezra Van Gelder

IPC分类号： F16K11/20

CPC分类号： F16K99/0001 ,  B01F11/0071 ,  B01F13/0059 ,  B32B7/02 ,  B32B9/04 ,  B33Y80/00 ,  F16K99/0015 ,  F16K99/0059 ,  F16K2099/008 ,  F16K2099/0084 ,  F16K2099/0094 ,  Y10T137/0318 ,  Y10T137/2213 ,  Y10T137/86453 ,  Y10T137/87249 ,  Y10T156/1039 ,  Y10T428/31504

摘要： This invention provides composite plastic articles and methods of making them. The articles can be fluidic or microfluidic devices having fluidic conduits and, optionally, pneumatic conduits that regulate flow in the fluidic conduits. The articles comprise a first substrate coated with a layer of a material that comprises, or onto which have been introduced, reactive groups. For example, the substrate can be a plastic coated with an oxide or a siloxane onto which hydroxyl groups have been introduced. These articles are covalently bonded with other articles comprising reactive groups on their surfaces, for example, polysiloxanes treated to have silanol groups. Certain articles have specified locations on their surfaces that are not bonded to the other piece. For example, the coating can be removed from these locations before bonding. Such locations can be useful as functional elements of various devices, such as valve seats in valves of microfluidic devices.

摘要翻译： 本发明提供复合塑料制品及其制造方法。 制品可以是具有流体导管的流体或微流体装置，以及可选地调节流体管道中的流动的气动导管。 制品包括涂覆有材料层的第一基材，其包含或已经引入反应性基团的材料层。 例如，基底可以是涂覆有已经引入羟基的氧化物或硅氧烷的塑料。 这些制品与其表面上包含反应性基团的其它制品共价键合，例如被处理为具有硅烷醇基团的聚硅氧烷。 某些物品在其表面上指定了未粘结到另一件的位置。 例如，可以在粘合之前从这些位置去除涂层。 这样的位置可以用作各种装置的功能元件，例如微流体装置的阀中的阀座。

公开(公告)号：US08318386B2

公开(公告)日：2012-11-27

申请号：US12462625

申请日：2009-08-06

申请人： Boris Kobrin

发明人： Boris Kobrin

IPC分类号： G03F7/00 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03B27/00 ,  G03B9/10 ,  G03F1/50 ,  G03F1/60 ,  G03F7/2035

摘要： Embodiments of the invention relate to methods useful in the fabrication of nanostructured devices for optics, energy generation, displays, consumer electronics, life sciences and medicine, construction and decoration. Instead of nanostructuring using colloids of particles, special vacuum deposition methods, laser interference systems (holography), and other low-throughput limited surface area techniques, we suggest to use nanotemplate created by novel nanolithography method, “Rolling mask” lithography. This method allows fast and inexpensive fabrication of nanostructures on large areas of substrate materials in conveyor-type continuous process. Such nanotemplate is then used for selective deposition of functional materials. One of embodiments explains deposition of functional materials in the exposed and developed areas of the substrate. Another embodiment uses selective deposition of the functional material on top of such template. Alternatively, nanotemplate is deposited and patterned on functional material, and then used as an etch mask to transfer nanostructure into the functional material using dry or wet etching process.

摘要翻译： 本发明的实施例涉及用于制造用于光学，能量产生，显示器，消费电子，生命科学和医学，建筑和装饰的纳米结构设备的方法。 我们建议使用新型纳米光刻法制成的纳米模板，而不是使用粒子的胶体，特殊的真空沉积方法，激光干涉系统（全息术）和其他低通量限制表面积技术进行纳米结构化。 该方法允许在输送机型连续过程中在大面积的基底材料上快速且廉价地制造纳米结构。 然后将这种纳米模板用于功能材料的选择性沉积。 实施例中的一个解释了功能材料在衬底的暴露和显影区域中的沉积。 另一个实施例使用功能材料的选择性沉积在这种模板的顶部。 或者，将纳米模板沉积并在功能材料上图案化，然后用作蚀刻掩模，以使用干蚀刻或湿蚀刻工艺将纳米结构转移到功能材料中。

公开(公告)号：US20100173494A1

公开(公告)日：2010-07-08

申请号：US12587078

申请日：2009-10-01

申请人： Boris Kobrin

发明人： Boris Kobrin

IPC分类号： H01L21/3065 ,  C23F1/08 ,  H01L21/306

CPC分类号： H01L21/0337

摘要： We suggest a method of anisotropic etching of the substrates, where ultra-thin and conformable layers of materials are used to passivate sidewalls of the etched features. According to an exemplary embodiment such sidewall passivation layer is a Self-assembled monolayer (SAM) material deposited in-situ etching process from a vapor phase. According to another exemplary embodiment such sidewall passivation layer is an inorganic-based material deposited using Atomic Layer Deposition (ALD) method. SAM or ALD layers deposition can be carried out in a pulsing regime alternating with an sputtering and/or etching processes using process gasses with or without plasma. Alternatively, SAM deposition process is carried out continuously, while etch or sputtering process turns on in a pulsing regime. Alternatively, SAM deposition process and etch or sputtering processes are carried out continuously. Both types of suggested passivation materials give advantage over state-of-the-art methods in ability to carefully control thickness and uniformity of the layers, thus enable anisotropic etching process for high aspect ratio nanosize features.

摘要翻译： 我们建议对基板进行各向异性蚀刻的方法，其中使用超薄和适形的材料层来钝化蚀刻特征的侧壁。 根据示例性实施例，这种侧壁钝化层是从气相沉积原位蚀刻工艺的自组装单层（SAM）材料。 根据另一示例性实施例，这种侧壁钝化层是使用原子层沉积（ALD）方法沉积的基于无机的材料。 SAM或ALD层沉积可以使用具有或不具有等离子体的工艺气体在与溅射和/或蚀刻工艺交替的脉冲状态下进行。 或者，SAM沉积工艺是连续进行的，而蚀刻或溅射工艺在脉冲状态下开启。 或者，SAM沉积工艺和蚀刻或溅射工艺是连续执行的。 两种类型的建议的钝化材料都有优于现有技术的方法，以便仔细地控制层的厚度和均匀性，因此能够实现高纵横比纳米尺度特征的各向异性蚀刻工艺。

公开(公告)号：US20100123885A1

公开(公告)日：2010-05-20

申请号：US12384219

申请日：2009-04-01

申请人： Boris Kobrin

发明人： Boris Kobrin

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/703 ,  G03B27/42 ,  G03F7/70325 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/704

摘要： Embodiments of the invention relate to methods and apparatus useful in the nanopatterning of large area substrates, where a rotatable mask is used to image a radiation-sensitive material. Typically the rotatable mask comprises a cylinder. The nanopatterning technique makes use of Near-Field photolithography, where the mask used to pattern the substrate is in contact or close proximity with the substrate. The Near-Field photolithography may make use of an elastomeric phase-shifting mask, or may employ surface plasmon technology, where a rotating cylinder surface comprises metal nano holes or nanoparticles.

摘要翻译： 本发明的实施例涉及在大面积基板的纳米图案中有用的方法和装置，其中使用可旋转掩模来对辐射敏感材料成像。 通常，可旋转掩模包括圆筒。 纳米图案技术利用近场光刻技术，其中用于图案化衬底的掩模与衬底接触或接近。 近场光刻可以使用弹性体相移掩模，或者可以采用表面等离子体激元技术，其中旋转圆柱表面包括金属纳米孔或纳米颗粒。

公开(公告)号：US06888979B2

公开(公告)日：2005-05-03

申请号：US09834744

申请日：2001-04-12

申请人： Behrang Behin ,  Michael J. Daneman ,  Chuang-Chia Lin ,  Boris Kobrin ,  Murali Chaparala ,  Gary Zalewski

发明人： Behrang Behin ,  Michael J. Daneman ,  Chuang-Chia Lin ,  Boris Kobrin ,  Murali Chaparala ,  Gary Zalewski

IPC分类号： B81B3/00 ,  B81C99/00 ,  G02B6/12 ,  G02B6/32 ,  G02B6/35 ,  G02B26/08 ,  G02B6/26

CPC分类号： G02B26/0841 ,  B81B3/0008 ,  B81B2201/045 ,  B81B2203/0181 ,  B81B2203/058 ,  B81C1/00214 ,  G02B6/32 ,  G02B6/3514 ,  G02B6/3518 ,  G02B6/3548 ,  G02B6/357 ,  G02B6/358 ,  G02B6/3584 ,  G02B2006/12104

摘要： A microelectromechanical (MEMS) apparatus has a base and a flap with a portion coupled to the base so that the flap may move out of the plane of the base between first and second position. The base may have a cavity with largely vertical sidewalls that contact a portion of the flap when the flap is in the second position Electrodes may be placed on the vertical sidewalls and electrically isolated from the base to provide electrostatic clamping of the flap to the sidewall. The base may be made from a substrate portion of a silicon-on-insulator (SOI) wafer and the flap defined from a device layer of the SOI wafer. The flap may be connected to the base by one or more flexures such as torsional beams. An array of one or more of such structures may be used to form an optical switch.

摘要翻译： 微机电（MEMS）装置具有底座和翼片，其中一部分联接到基座，使得翼片可在第一和第二位置之间移动离开基座的平面。 底座可以具有一个具有很大垂直侧壁的空腔，当翼片处于第二位置时，电极可以被放置在垂直侧壁上并与基座电隔离以提供瓣片向侧壁的静电夹持。 基底可以由绝缘体上硅（SOI）晶片的衬底部分和从SOI晶片的器件层限定的瓣形成。 翼片可以通过一个或多个挠曲件（例如扭转梁）连接到基座。 可以使用一个或多个这样的结构的阵列来形成光学开关。

公开(公告)号：US09645504B2

公开(公告)日：2017-05-09

申请号：US13416716

申请日：2012-03-09

申请人： Boris Kobrin

发明人： Boris Kobrin

IPC分类号： G03F1/26 ,  G03F1/92 ,  G03F7/20 ,  G03F7/22 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/703 ,  G03B27/42 ,  G03F7/70325 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/704

摘要： Embodiments of the invention relate to methods and apparatus useful in the nanopatterning of large area substrates, where a rotatable mask is used to image a radiation-sensitive material. Typically the rotatable mask comprises a cylinder. The nanopatterning technique makes use of Near-Field photolithography, where the mask used to pattern the substrate is in contact or close proximity with the substrate. The Near-Field photolithography may make use of an elastomeric phase-shifting mask, or may employ surface plasmon technology, where a rotating cylinder surface comprises metal nano holes or nanoparticles.

公开(公告)号：US20120282554A1

公开(公告)日：2012-11-08

申请号：US13553602

申请日：2012-07-19

申请人： Boris Kobrin ,  Ian McMackin

发明人： Boris Kobrin ,  Ian McMackin

IPC分类号： G03F7/22 ,  G03B27/58

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70325 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/704

摘要： Embodiments of the invention relate to methods and apparatus useful in the nanopatterning of large area substrates, where a rotatable mask is used to image a radiation-sensitive material. Typically the rotatable mask comprises a cylinder. The nanopatterning technique makes use of Near-Field photolithography, where the mask used to pattern the substrate is in contact or close proximity with the substrate. The Near-Field photolithography may make use of an elastomeric phase-shifting mask, or may employ surface plasmon technology, where a rotating cylinder surface comprises metal nano holes or nanoparticles.

摘要翻译： 本发明的实施例涉及在大面积基板的纳米图案中有用的方法和装置，其中使用可旋转掩模来对辐射敏感材料成像。 通常，可旋转掩模包括圆筒。 纳米图案技术利用近场光刻技术，其中用于图案化衬底的掩模与衬底接触或接近。 近场光刻可以使用弹性体相移掩模，或者可以采用表面等离子体激元技术，其中旋转圆柱表面包括金属纳米孔或纳米颗粒。