公开(公告)号：US20050263248A1

公开(公告)日：2005-12-01

申请号：US11131010

申请日：2005-05-16

申请人： Juan Rocha-Alvarez ,  Ganesh Balasubramanian ,  Tom Cho ,  Deenesh Padhi ,  Thomas Nowak ,  Bok Kim ,  Hichem M'Saad ,  Daemian Raj

发明人： Juan Rocha-Alvarez ,  Ganesh Balasubramanian ,  Tom Cho ,  Deenesh Padhi ,  Thomas Nowak ,  Bok Kim ,  Hichem M'Saad ,  Daemian Raj

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23F1/00 ,  H01J37/32

CPC分类号： C23C16/45574 ,  C23C16/4405 ,  C23C16/45565 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449

摘要： Apparatus and methods for distributing gases into a processing chamber are disclosed. In one embodiment, the apparatus includes a gas distribution plate having a plurality of apertures disposed therethrough and a blocker plate having both a plurality of apertures disposed therethrough and a plurality of feed through passageways disposed therein. A first gas pathway delivers a first gas through the plurality of apertures in the blocker plate and the gas distribution plate. A bypass gas pathway delivers a second gas through the plurality of feed through passageways in the blocker plate and to areas around the blocker plate prior to the second gas passing through the gas distribution plate.

摘要翻译： 公开了将气体分配到处理室中的装置和方法。 在一个实施例中，该装置包括一个气体分配板，该气体分配板具有穿过其中的多个孔，以及一个阻挡板，其具有设置在其间的多个孔和设置在其中的多个进给通道。 第一气体通道通过阻挡板和气体分配板中的多个孔传送第一气体。 旁路气体通道在第二气体通过气体分配板之前，通过多个进料通过阻挡板中的通道和阻塞板周围的区域输送第二气体。

公开(公告)号：US20080067425A1

公开(公告)日：2008-03-20

申请号：US11686900

申请日：2007-03-15

申请人： Andrzei Kaszuba ,  Juan Rocha-Alvarez ,  Sanjeev Baluja ,  Tom Cho ,  Hichem M'Saad ,  Scott Hendrickson ,  Dustin Ho ,  Thomas Nowak

发明人： Andrzei Kaszuba ,  Juan Rocha-Alvarez ,  Sanjeev Baluja ,  Tom Cho ,  Hichem M'Saad ,  Scott Hendrickson ,  Dustin Ho ,  Thomas Nowak

IPC分类号： G21K5/00

CPC分类号： G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067 ,  H01L21/67115

摘要： Embodiments of the invention relate generally to an ultraviolet (UV) cure chamber for curing a dielectric material disposed on a substrate and to methods of curing dielectric materials using UV radiation. A substrate processing tool according to one embodiment comprises a body defining a substrate processing region; a substrate support adapted to support a substrate within the substrate processing region; an ultraviolet radiation lamp spaced apart from the substrate support, the lamp configured to transmit ultraviolet radiation to a substrate positioned on the substrate support; and a motor operatively coupled to rotate at least one of the ultraviolet radiation lamp or substrate support at least 180 degrees relative to each other. The substrate processing tool may further comprise one or more reflectors adapted to generate a flood pattern of ultraviolet radiation over the substrate that has complementary high and low intensity areas which combine to generate a substantially uniform irradiance pattern if rotated. Other embodiments are also disclosed.

摘要翻译： 本发明的实施方案一般涉及用于固化设置在基底上的介电材料的紫外（UV）固化室和使用UV辐射固化电介质材料的方法。 根据一个实施例的基板处理工具包括限定基板处理区域的主体; 衬底支撑件，适于支撑衬底处理区域内的衬底; 与衬底支撑件间隔开的紫外线辐射灯，所述灯被配置为将紫外线辐射透射到位于所述衬底支撑件上的衬底; 以及可操作地耦合以使所述紫外线辐射灯或衬底支撑体中的至少一个相对于彼此旋转至少180度的电动机。 衬底处理工具还可以包括一个或多个反射器，其适于在衬底上产生具有互补的高和低强度区域的紫外线辐射的泛化图案，其结合以在旋转时产生基本上均匀的辐照度图案。 还公开了其他实施例。

公开(公告)号：US20060251827A1

公开(公告)日：2006-11-09

申请号：US11124908

申请日：2005-05-09

申请人： Thomas Nowak ,  Juan Rocha-Alvarez ,  Andrzej Kaszuba ,  Scott Hendrickson ,  Dustin Ho ,  Sanjeev Baluja ,  Tom Cho ,  Josephine Chang ,  Hichem M'Saad

发明人： Thomas Nowak ,  Juan Rocha-Alvarez ,  Andrzej Kaszuba ,  Scott Hendrickson ,  Dustin Ho ,  Sanjeev Baluja ,  Tom Cho ,  Josephine Chang ,  Hichem M'Saad

IPC分类号： B05D3/06 ,  B05B5/00

CPC分类号： B05D3/067 ,  B05D3/0209 ,  B05D3/0493 ,  H01L21/31058

摘要： An ultraviolet (UV) cure chamber enables curing a dielectric material disposed on a substrate and in situ cleaning thereof. A tandem process chamber provides two separate and adjacent process regions defined by a body covered with a lid having windows aligned respectively above each process region. One or more UV bulbs per process region that are covered by housings coupled to the lid emit UV light directed through the windows onto substrates located within the process regions. The UV bulbs can be an array of light emitting diodes or bulbs utilizing a source such as microwave or radio frequency. The UV light can be pulsed during a cure process. Using oxygen radical/ozone generated remotely and/or in-situ accomplishes cleaning of the chamber. Use of lamp arrays, relative motion of the substrate and lamp head, and real-time modification of lamp reflector shape and/or position can enhance uniformity of substrate illumination.

摘要翻译： 紫外线（UV）固化室可固化设置在基底上的电介质材料并进行原位清洁。 串联处理室提供由覆盖有盖的主体限定的两个单独的和相邻的过程区域，所述盖子具有分别位于每个处理区域上方的窗口。 每个处理区域的一个或多个UV灯泡被耦合到盖的壳体覆盖，将通过窗口的UV光发射到位于处理区域内的衬底上。 UV灯泡可以是利用诸如微波或射频的源的发光二极管或灯泡阵列。 紫外光可以在固化过程中被脉冲。 使用远程生成的氧自由基/臭氧和/或原位实现清洁室。 灯阵列的使用，基板和灯头的相对运动以及灯反射器形状和/或位置的实时修改可以增强基板照明的均匀性。

公开(公告)号：US20060249078A1

公开(公告)日：2006-11-09

申请号：US11424368

申请日：2006-06-15

申请人： Thomas Nowak ,  Juan Rocha-Alvarez ,  Andrzej Kaszuba ,  Scott Hendrickson ,  Dustin Ho ,  Sanjeev Baluja ,  Tom Cho ,  Josephine Chang ,  Hichem M'Saad

发明人： Thomas Nowak ,  Juan Rocha-Alvarez ,  Andrzej Kaszuba ,  Scott Hendrickson ,  Dustin Ho ,  Sanjeev Baluja ,  Tom Cho ,  Josephine Chang ,  Hichem M'Saad

IPC分类号： B05D3/06 ,  B01J3/04 ,  C23C16/00

CPC分类号： B05D3/067 ,  B05D3/0209 ,  B05D3/0493 ,  H01L21/31058

摘要： An ultraviolet (UV) cure chamber enables curing a dielectric material disposed on a substrate and in situ cleaning thereof. A tandem process chamber provides two separate and adjacent process regions defined by a body covered with a lid having windows aligned respectively above each process region. One or more UV bulbs per process region that are covered by housings coupled to the lid emit UV light directed through the windows onto substrates located within the process regions. The UV bulbs can be an array of light emitting diodes or bulbs utilizing a source such as microwave or radio frequency. The UV light can be pulsed during a cure process. Using oxygen radical/ozone generated remotely and/or in-situ accomplishes cleaning of the chamber. Use of lamp arrays, relative motion of the substrate and lamp head, and real-time modification of lamp reflector shape and/or position can enhance uniformity of substrate illumination.

摘要翻译： 紫外线（UV）固化室可固化设置在基底上的电介质材料并进行原位清洁。 串联处理室提供由覆盖有盖的主体限定的两个单独的和相邻的过程区域，所述盖子具有分别位于每个处理区域上方的窗口。 每个处理区域的一个或多个UV灯泡被耦合到盖的壳体覆盖，将通过窗口的UV光发射到位于处理区域内的衬底上。 UV灯泡可以是利用诸如微波或射频的源的发光二极管或灯泡阵列。 紫外光可以在固化过程中被脉冲。 使用远程生成的氧自由基/臭氧和/或原位实现清洁室。 灯阵列的使用，基板和灯头的相对运动以及灯反射器形状和/或位置的实时修改可以增强基板照明的均匀性。

公开(公告)号：US08492170B2

公开(公告)日：2013-07-23

申请号：US13093351

申请日：2011-04-25

申请人： Bo Xie ,  Alexandros T. Demos ,  Kang Sub Yim ,  Thomas Nowak ,  Kelvin Chan

发明人： Bo Xie ,  Alexandros T. Demos ,  Kang Sub Yim ,  Thomas Nowak ,  Kelvin Chan

IPC分类号： H01L21/30

CPC分类号： H01L21/3105 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02337 ,  H01L21/0234 ,  H01L21/02348 ,  H01L21/76814 ,  H01L21/76825 ,  H01L21/76826

摘要： Methods for the repair of damaged low k films are provided. Damage to the low k films occurs during processing of the film such as during etching, ashing, and planarization. The processing of the low k film causes water to store in the pores of the film and further causes hydrophilic compounds to form in the low k film structure. Repair processes incorporating ultraviolet (UV) radiation and silylation compounds remove the water from the pores and further remove the hydrophilic compounds from the low k film structure.

摘要翻译： 提供修复损坏的低k膜的方法。 在薄膜的处理期间，例如在蚀刻，灰化和平坦化期间，低k膜的损伤发生。 低k膜的处理导致水存储在膜的孔中，并进一步在低k膜结构中形成亲水性化合物。 包含紫外线（UV）辐射和甲硅烷基化合物的修复过程从孔中除去水分，并从低k膜结构中进一步除去亲水性化合物。

公开(公告)号：US20060094351A1

公开(公告)日：2006-05-04

申请号：US10977402

申请日：2004-11-01

申请人： Thomas Nowak ,  Srinivasan Ranganathan ,  Manoj Chauhan ,  Christopher Taylor ,  Anthony Massaro ,  John Schramm ,  Kevin Moscatiello ,  Nicholas Chilelli

发明人： Thomas Nowak ,  Srinivasan Ranganathan ,  Manoj Chauhan ,  Christopher Taylor ,  Anthony Massaro ,  John Schramm ,  Kevin Moscatiello ,  Nicholas Chilelli

IPC分类号： H04B7/19

CPC分类号： H04B7/19

摘要： An N-Tiered enterprise and/or N-Tiered Web-based enterprise system and methods for managing, monitoring, coordinating the procedures of and optionally controlling a fleet of geosynchronous satellites through a distributed network such as the Internet. The system and associated object oriented software architecture seamlessly supports monitoring and analyzing real-time, near real-time, historical/playback, simulated and archived satellite telemetry as well as Tracking, Telemetry and Control (TT&C) ground system generated data products such as real-time alerts, archived alerts and ground system server statuses from a group of legacy distributed TT&C wide area network (WAN) ground station systems located around the world.

摘要翻译： 一个N层次的企业和/或N层次的基于Web的企业系统和方法，用于通过分布式网络（如因特网）来管理，监控，协调地球同步卫星队列的过程和可选地控制。 系统和相关的面向对象的软件架构无缝支持监控和分析实时，近实时，历史/播放，模拟和存档的卫星遥测以及跟踪，遥测和控制（TT＆C）地面系统生成的数据产品，如真实 来自位于世界各地的一组传统分布式TT＆C广域网（WAN）地面站系统的时间警报，归档警报和地面系统服务器状态。

公开(公告)号：US20060027165A1

公开(公告)日：2006-02-09

申请号：US10910269

申请日：2004-08-03

申请人： Soovo Sen ,  Inna Shmurun ,  Thomas Nowak ,  Nancy Fung ,  Brian Hopper ,  Andrzej Kaszuba ,  Eller Juco

发明人： Soovo Sen ,  Inna Shmurun ,  Thomas Nowak ,  Nancy Fung ,  Brian Hopper ,  Andrzej Kaszuba ,  Eller Juco

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： H01L21/67103

摘要： Method and apparatus for obtaining a tailored heat transfer profile in a chamber housing a microprocessor manufacturing process, including estimating heat transfer properties of the chamber; estimating heat absorptive properties of a wafer; adjusting the physical characteristics of the chamber to correct the heat transfer properties; and utilizing the chamber for manufacturing microprocessors.

摘要翻译： 用于在容纳微处理器制造过程的腔室中获得定制的传热轮廓的方法和装置，包括估计腔室的传热特性; 估计晶片的吸热性能; 调整室的物理特性以校正传热性能; 并利用该腔室制造微处理器。

公开(公告)号：US06366346B1

公开(公告)日：2002-04-02

申请号：US09196459

申请日：1998-11-19

申请人： Thomas Nowak ,  Sebastien Raoux ,  Dave Silvetti ,  Stefan Wolff ,  Russ Newman ,  Imad Yousif ,  Ned Matthew

发明人： Thomas Nowak ,  Sebastien Raoux ,  Dave Silvetti ,  Stefan Wolff ,  Russ Newman ,  Imad Yousif ,  Ned Matthew

IPC分类号： G01R3100

CPC分类号： H01J37/32834 ,  C23C16/4401 ,  H01J37/32935

摘要： A method and apparatus for determining the composition of an effluent stream from a vacuum processing chamber. A cell placed in the effluent stream from the vacuum processing chamber creates a glow discharge from the constituents in the effluent stream. An optical detector measures a particular wavelength corresponding to the presence of a particular species. In one embodiment the output from the optical detector is used to determine the endpoint of a chamber cleaning process.

摘要翻译： 一种用于确定来自真空处理室的流出物流的组成的方法和装置。 从真空处理室放置在流出物流中的电池从流出物流中的成分产生辉光放电。 光学检测器测量对应于特定物种的存在的特定波长。 在一个实施例中，来自光学检测器的输出用于确定腔室清洁过程的终点。

公开(公告)号：US5634716A

公开(公告)日：1997-06-03

申请号：US550462

申请日：1995-10-30

申请人： Thomas L. Westall ,  Thomas Nowak ,  David R. Griffith ,  Earl L. Maltbie ,  Curtis L. Crandall

发明人： Thomas L. Westall ,  Thomas Nowak ,  David R. Griffith ,  Earl L. Maltbie ,  Curtis L. Crandall

IPC分类号： B01F13/00 ,  B01F13/10 ,  B28C7/04 ,  B65D88/30 ,  B01F15/04

CPC分类号： B28C7/0495 ,  B01F13/0016 ,  B01F13/0032 ,  B65D88/30 ,  B01F13/10 ,  Y10S414/132

摘要： A portable PVC resin blending system mounted in a semi-monocoque steel silo having multiple levels therein. The various components of the blending system are mounted within and attached to the silo and lifting lugs on the silo capable of lifting and tilting the silo from a vertical to a horizontal position for transportation and re-erection.

摘要翻译： 一种便携式PVC树脂混合系统，其安装在其中具有多个水平的半单壳式钢筒仓中。 混合系统的各种部件安装在筒仓中并连接到筒仓上，并将其连接到筒仓上，能够将料仓从垂直位置提升并倾斜以进行运输和重新安装。

公开(公告)号：US08563095B2

公开(公告)日：2013-10-22

申请号：US12724396

申请日：2010-03-15

申请人： Nagarajan Rajagopalan ,  Xinhai Han ,  Ryan Yamase ,  Ji Ae Park ,  Shamik Patel ,  Thomas Nowak ,  Zhengjiang “David” Cui ,  Mehul Naik ,  Heung Lak Park ,  Ran Ding ,  Bok Hoen Kim

发明人： Nagarajan Rajagopalan ,  Xinhai Han ,  Ryan Yamase ,  Ji Ae Park ,  Shamik Patel ,  Thomas Nowak ,  Zhengjiang “David” Cui ,  Mehul Naik ,  Heung Lak Park ,  Ran Ding ,  Bok Hoen Kim

IPC分类号： H05H1/24 ,  C23C16/34

CPC分类号： H01L21/02068 ,  C23C16/345 ,  C23C16/45523 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/02271 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/0234 ,  H01L21/56 ,  H01L21/76832 ,  H01L21/76834 ,  H01L23/291 ,  H01L23/3171 ,  H01L24/11 ,  H01L24/13 ,  H01L24/742 ,  H01L2224/1181 ,  H01L2224/1182 ,  H01L2224/11827 ,  H01L2224/11831 ,  H01L2224/119 ,  H01L2224/11901 ,  H01L2224/13025 ,  H01L2224/131 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/13562 ,  H01L2224/1358 ,  H01L2224/13583 ,  H01L2224/13687 ,  H01L2224/742 ,  H01L2924/0001 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01032 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01074 ,  H01L2924/01075 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/351 ,  H01L2924/05042 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2224/13099 ,  H01L2924/00

摘要： A method of forming a passivation layer comprising silicon nitride on features of a substrate is described. In a first stage of the deposition method, a dielectric deposition gas, comprising a silicon-containing gas and a nitrogen-containing gas, is introduced into the process zone and energized to deposit a silicon nitride layer. In a second stage, a treatment gas, having a different composition than that of the dielectric deposition gas, is introduced into the process zone and energized to treat the silicon nitride layer. The first and second stages can be performed a plurality of times.

摘要翻译： 描述了在衬底的特征上形成包括氮化硅的钝化层的方法。 在沉积方法的第一阶段中，将包含含硅气体和含氮气体的介电沉积气体引入工艺区域并通电以沉积氮化硅层。 在第二阶段中，将具有不同于介电沉积气体的组成不同的处理气体引入处理区并通电以处理氮化硅层。 第一和第二阶段可以执行多次。