公开(公告)号：US07382536B2

公开(公告)日：2008-06-03

申请号：US11392027

申请日：2006-03-29

申请人： Daniel Krähmer ,  Toralf Gruner ,  Wilhelm Ulrich ,  Birgit Enkisch ,  Michael Gerhard ,  Martin Brunotte ,  Christian Wagner ,  Winfried Kaiser ,  Manfred Maul ,  Christof Zaczek

发明人： Daniel Krähmer ,  Toralf Gruner ,  Wilhelm Ulrich ,  Birgit Enkisch ,  Michael Gerhard ,  Martin Brunotte ,  Christian Wagner ,  Winfried Kaiser ,  Manfred Maul ,  Christof Zaczek

IPC分类号： G02B5/30

CPC分类号： G03F7/70966 ,  G02B1/02 ,  G02B1/08 ,  G02B5/3083 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70958 ,  Y10S359/90

摘要： An objective for a microlithography projection system has at least one fluoride crystal lens. The effects of birefringence, which are detrimental to the image quality, are reduced if the lens axis of the crystal lens is oriented substantially perpendicular to the {100}-planes or {100}-equivalent crystallographic planes of the fluoride crystal. If two or more fluoride crystal lenses are used, they should have lens axes oriented in the (100)-, (111)-, or (110)-direction of the crystallographic structure, and they should be oriented at rotated positions relative to each other. The birefringence-related effects are further reduced by using groups of mutually rotated (100)-lenses in combination with groups of mutually rotated (111)- or (110)-lenses. A further improvement is also achieved by applying a compensation coating to at least one optical element of the objective.

摘要翻译： 微光刻投影系统的目的在于至少有一个氟化物晶体透镜。 如果晶体透镜的透镜轴基本上垂直于氟化物晶体的{100} - 平面或{100}等价晶面而取向，对图像质量有害的双折射效应将被降低。 如果使用两个或多个氟化物晶体透镜，它们应该具有在晶体结构的（100） - ，（111） - 或（110）方向上定向的透镜轴，并且它们应当相对于每个 其他。 通过使用相互旋转（100） - 相互组合的组相互旋转（111） - 或（110） - 相组合来进一步减少双折射相关效应。 通过对物镜的至少一个光学元件施加补偿涂层也可实现进一步的改进。

公开(公告)号：US20070019305A1

公开(公告)日：2007-01-25

申请号：US11479574

申请日：2006-06-30

申请人： Wilhelm Ulrich ,  Thomas Okon ,  Norbert Wabra ,  Toralf Gruner ,  Boris Bittner ,  Volker Graeschus

发明人： Wilhelm Ulrich ,  Thomas Okon ,  Norbert Wabra ,  Toralf Gruner ,  Boris Bittner ,  Volker Graeschus

IPC分类号： G02B17/00 ,  G02B3/00

CPC分类号： G03F7/70308 ,  G02B17/08 ,  G02B27/0025 ,  G03F7/70216 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70266

摘要： A method for correcting at least one image defect of a projection objective of a lithography projection exposure machine, the projection objective comprising an optical arrangement composed of a plurality of lenses and at least one mirror, the at least one mirror having an optically operative surface that can be defective and is thus responsible for the at least one image defect, comprises the steps of: at least approximately determining a ratio VM of principal ray height hMH to marginal ray height hMR at the optically operative surface of the at least one mirror, at least approximately determining at least one optically operative lens surface among the lens surfaces of the lenses, at which the magnitude of a ratio VL of principal ray height hLH to marginal ray height hLR comes at least closest to the ratio VM, and selecting the at least one determined lens surface for the correction of the image defect.

摘要翻译： 一种用于校正光刻投影曝光机的投影物镜的至少一个图像缺陷的方法，所述投影物镜包括由多个透镜和至少一个反射镜构成的光学装置，所述至少一个反射镜具有光学操作表面， 可能是有缺陷的，并且因此对至少一个图像缺陷负责，包括以下步骤：至少近似地确定主光线高度h M H的比率VM与边缘光线高度h M 在至少一个反射镜的光学操作表面处至少近似地确定透镜的透镜表面中的至少一个光学透镜表面，其中主光线高度h的比值VL的大小， 对于边缘射线高度h L L至少最接近比率VM，并且选择至少一个确定的透镜表面用于校正图像缺陷。

公开(公告)号：US20050122594A1

公开(公告)日：2005-06-09

申请号：US11029788

申请日：2005-01-05

申请人： Daniel Krahmer ,  Toralf Gruner ,  Wilhelm Ulrich ,  Birgit Enkisch ,  Michael Gerhard ,  Martin Brunotte ,  Christian Wagner ,  Winfried Kaiser ,  Manfred Maul ,  Christoph Zaczek

发明人： Daniel Krahmer ,  Toralf Gruner ,  Wilhelm Ulrich ,  Birgit Enkisch ,  Michael Gerhard ,  Martin Brunotte ,  Christian Wagner ,  Winfried Kaiser ,  Manfred Maul ,  Christoph Zaczek

IPC分类号： G02B13/24 ,  G02B1/02 ,  G02B5/30 ,  G02B17/08 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G02B27/28

CPC分类号： G03F7/70966 ,  G02B1/02 ,  G02B1/08 ,  G02B5/3083 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70958 ,  Y10S359/90

摘要： An objective for a microlithography projection system has at least one fluoride crystal lens. The effects of birefringence, which are detrimental to the image quality, are reduced if the lens axis of the crystal lens is oriented substantially perpendicular to the {100}-planes or {100}-equivalent crystallographic planes of the fluoride crystal. If two or more fluoride crystal lenses are used, they should have lens axes oriented in the (100)-, (111)-, or (110)-direction of the crystallographic structure, and they should be oriented at rotated positions relative to each other. The birefringence-related effects are further reduced by using groups of mutually rotated (100)-lenses in combination with groups of mutually rotated (111)- or (110)-lenses. A further improvement is also achieved by applying a compensation coating to at least one optical element of the objective.

摘要翻译： 微光刻投影系统的目的在于至少有一个氟化物晶体透镜。 如果晶体透镜的透镜轴基本上垂直于氟化物晶体的{100} - 平面或{100}等价晶面而取向，对图像质量有害的双折射效应将被降低。 如果使用两个或多个氟化物晶体透镜，它们应该具有在晶体结构的（100） - ，（111） - 或（110）方向上定向的透镜轴，并且它们应当相对于每个 其他。 通过使用相互旋转（100） - 相互组合的组相互旋转（111） - 或（110） - 相组合来进一步减少双折射相关效应。 通过对物镜的至少一个光学元件施加补偿涂层也可实现进一步的改进。

公开(公告)号：US20130182234A1

公开(公告)日：2013-07-18

申请号：US13786134

申请日：2013-03-05

申请人： Paul Graupner ,  Olaf Conradi ,  Christoph Zaczek ,  Wilhelm Ulrich ,  Helmut Beierl ,  Toralf Gruner ,  Volker Graeschus

发明人： Paul Graupner ,  Olaf Conradi ,  Christoph Zaczek ,  Wilhelm Ulrich ,  Helmut Beierl ,  Toralf Gruner ,  Volker Graeschus

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70191 ,  G03F7/70308

摘要： A projection exposure system includes an illumination system configured to illuminate a mask with radiation. The projection exposure system also includes a projection objective configured to project an image of a pattern of the mask onto a radiation-sensitive substrate. The projection exposure system further includes an angle-selective filter arrangement arranged at or close to a field surface of the projection objective in a projection beam path optically downstream of the object surface. The angle-selective filter arrangement is effective to filter radiation incident on the filter arrangement according to an angle-selective filter function.

摘要翻译： 投影曝光系统包括被配置为用辐射照射掩模的照明系统。 投影曝光系统还包括被配置为将掩模的图案的图像投影到辐射敏感基板上的投影物镜。 投影曝光系统还包括在物镜表面光学下游的投影光束路径中布置在投影物镜的场表面处或其附近的角度选择滤光器装置。 角度选择滤波器装置可以根据角度选择滤波器功能对入射到滤波器装置上的辐射进行滤波。

公开(公告)号：US07180667B2

公开(公告)日：2007-02-20

申请号：US10817527

申请日：2004-04-01

申请人： Daniel Krähmer ,  Toralf Gruner ,  Wilhelm Ulrich ,  Birgit Enkisch ,  Michael Gerhard ,  Martin Brunotte ,  Christian Wagner ,  Winfried Kaiser ,  Manfred Maul ,  Christof Zaczek

发明人： Daniel Krähmer ,  Toralf Gruner ,  Wilhelm Ulrich ,  Birgit Enkisch ,  Michael Gerhard ,  Martin Brunotte ,  Christian Wagner ,  Winfried Kaiser ,  Manfred Maul ,  Christof Zaczek

IPC分类号： G02B5/30

CPC分类号： G03F7/70966 ,  G02B1/02 ,  G02B1/08 ,  G02B5/3083 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70958 ,  Y10S359/90

摘要： An objective for a microlithography projection system has at least one fluoride crystal lens. The effects of birefringence, which are detrimental to the image quality, are reduced if the lens axis of the crystal lens is oriented substantially perpendicular to the {100}-planes or {100}-equivalent crystallographic planes of the fluoride crystal. If two or more fluoride crystal lenses are used, they should have lens axes oriented in the (100)-, (111)-, or (110)-direction of the crystallographic structure, and they should be oriented at rotated positions relative to each other. The birefringence-related effects are further reduced by using groups of mutually rotated (100)-lenses in combination with groups of mutually rotated (111)- or (110)-lenses. A further improvement is also achieved by applying a compensation coating to at least one optical element of the objective.

摘要翻译： 微光刻投影系统的目的在于至少有一个氟化物晶体透镜。 如果晶体透镜的透镜轴基本上垂直于氟化物晶体的{100} - 平面或{100}等价晶面而取向，对图像质量有害的双折射效应将被降低。 如果使用两个或多个氟化物晶体透镜，它们应该具有在晶体结构的（100） - ，（111） - 或（110）方向上定向的透镜轴，并且它们应当相对于每个 其他。 通过使用相互旋转（100） - 相互组合的组相互旋转（111） - 或（110） - 相组合来进一步减少双折射相关效应。 通过对物镜的至少一个光学元件施加补偿涂层也可实现进一步的改进。

公开(公告)号：US08542342B2

公开(公告)日：2013-09-24

申请号：US12408577

申请日：2009-03-20

申请人： Markus Schwab ,  Aksel Goehnermeier ,  Toralf Gruner ,  Tammo Uitterdijk

发明人： Markus Schwab ,  Aksel Goehnermeier ,  Toralf Gruner ,  Tammo Uitterdijk

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/54 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/70258

摘要： A lithographic method of manufacturing a miniaturized device using a projection exposure system involves illuminating the object plane of an imaging optics of the projection exposure system with measuring light; detecting, for each of a plurality of locations on an image plane of the imaging optics, an angular distribution of an intensity of the measuring light traversing the image plane at the respective location; adjusting a telecentricity of the projection exposure system based on a selected patterning structure to be imaged and on the plurality of the detected angular distributions; disposing the selected pattern structure to be imaged in a region of the object plane of the imaging optics; disposing a substrate carrying a resist in a region of the image plane of the imaging optics and exposing the resist with imaging light using the projection exposure system with the adjusted telecentricity; and developing the exposed resist and processing the substrate with the developed resist.

摘要翻译： 使用投影曝光系统制造小型化装置的光刻方法包括用测量光照射投影曝光系统的成像光学元件的物平面; 针对所述摄像光学元件的像平面上的多个位置中的每一个检测在相应位置处穿过所述图像平面的测量光的角度分布; 基于要成像的所选择的图案化结构和所述多个所检测的角度分布来调整所述投影曝光系统的远心度; 将要成像的所选择的图案结构设置在成像光学器件的物平面的区域中; 在所述成像光学元件的像面的区域中设置携带抗蚀剂的基板，并且利用所述投影曝光系统以调节的远心度将成像光曝光; 并显影出曝光的抗蚀剂并用显影的抗蚀剂处理衬底。

公开(公告)号：US20130044303A1

公开(公告)日：2013-02-21

申请号：US13590673

申请日：2012-08-21

申请人： Bernhard Kneer ,  Markus Deguenther ,  Toralf Gruner

发明人： Bernhard Kneer ,  Markus Deguenther ,  Toralf Gruner

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70191 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/7085

摘要： A projection exposure system and a method for operating a projection exposure system for microlithography with an illumination system are disclosed. The illumination system includes at least one variably adjustable pupil-defining element. The illumination stress of at least one optical element of the projection exposure system is determined automatically in the case of an adjustment of the at least one variably adjustable pupil-defining element. From the automatically determined illumination stress, the maximum radiant power of the light source is set or determined and/or in which an illumination system is provided with which different illumination settings can be made. Usage of the projection exposure system is recorded and, from the history of the usage, at least one state parameter of at least one optical element of the projection exposure system is determined.

摘要翻译： 公开了一种用于利用照明系统操作用于微光刻的投影曝光系统的投影曝光系统和方法。 所述照明系统包括至少一个可变地调整的光瞳限定元件。 在调整至少一个可变瞳孔限定元件的情况下，自动确定投影曝光系统的至少一个光学元件的照明应力。 根据自动确定的照明应力，设置或确定光源的最大辐射功率，和/或其中提供可以进行不同照明设置的照明系统。 记录投影曝光系统的使用，并且根据使用历史确定投影曝光系统的至少一个光学元件的至少一个状态参数。

公开(公告)号：US08325322B2

公开(公告)日：2012-12-04

申请号：US12700122

申请日：2010-02-04

申请人： Markus Hauf ,  Ulrich Schoenhoff ,  Payam Tayebati ,  Michael Thier ,  Tilmann Heil ,  Ole Fluegge ,  Arif Kazi ,  Alexander Sauerhoefer ,  Gerhard Focht ,  Jochen Weber ,  Toralf Gruner ,  Aksel Goehnermeier ,  Dirk Hellweg

发明人： Markus Hauf ,  Ulrich Schoenhoff ,  Payam Tayebati ,  Michael Thier ,  Tilmann Heil ,  Ole Fluegge ,  Arif Kazi ,  Alexander Sauerhoefer ,  Gerhard Focht ,  Jochen Weber ,  Toralf Gruner ,  Aksel Goehnermeier ,  Dirk Hellweg

IPC分类号： G03B27/68 ,  G03B27/52

CPC分类号： G02B7/008 ,  G02B7/1815 ,  G02B26/06 ,  G02B27/0025 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891

摘要： The disclosure relates to an optical correction device with thermal actuators for influencing the temperature distribution in the optical correction device. The optical correction device is constructed from at least two partial elements which differ with regard to their ability to transport heat. Furthermore, the disclosure relates to methods for influencing the temperature distribution in an optical element.

摘要翻译： 本发明涉及具有用于影响光学校正装置中的温度分布的热致动器的光学校正装置。 光学校正装置由至少两个部分元件构成，这些部分元素关于其传送热量的能力而不同。 此外，本公开涉及影响光学元件中的温度分布的方法。

公开(公告)号：US07961297B2

公开(公告)日：2011-06-14

申请号：US12065451

申请日：2006-09-02

申请人： Joern Greif-Wuestenbecker ,  Beate Boehme ,  Ulrich Stroessner ,  Michael Totzeck ,  Vladimir Kamenov ,  Olaf Dittmann ,  Daniel Kraehmer ,  Toralf Gruner ,  Bernd Geh

发明人： Joern Greif-Wuestenbecker ,  Beate Boehme ,  Ulrich Stroessner ,  Michael Totzeck ,  Vladimir Kamenov ,  Olaf Dittmann ,  Daniel Kraehmer ,  Toralf Gruner ,  Bernd Geh

IPC分类号： G03B27/72 ,  G03B27/32 ,  G03B27/68 ,  G03B27/42 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70666 ,  G03F7/70308

摘要： A method for determining intensity distribution in the focal plane of a projection exposure arrangement, in which a large aperture imaging system is emulated and a light from a sample is represented on a local resolution detector by an emulation imaging system. A device for carrying out the method and emulated devices are also described. The invention makes it possible to improve a reproduction quality since the system apodisation is taken into consideration. The inventive method includes determining the integrated amplitude distribution in an output pupil, combining the integrated amplitude distribution with a predetermined apodization correction and calculating a corrected apodization image according to the modified amplitude distribution.

摘要翻译： 一种用于确定投影曝光装置的焦平面中的强度分布的方法，其中大面积成像系统被仿真并且来自样品的光由仿真成像系统在局部分辨率检测器上表示。 还描述了用于执行该方法和仿真装置的装置。 由于考虑到系统变迹，本发明使得可以提高再现质量。 本发明的方法包括确定输出光瞳中的积分幅度分布，将积分幅度分布与预定的变迹校正相结合，并根据修改的振幅分布计算校正的变迹图像。

公开(公告)号：US07808615B2

公开(公告)日：2010-10-05

申请号：US11427183

申请日：2006-06-28

申请人： Toralf Gruner ,  Olaf Conradi ,  Nils Dieckmann ,  Markus Schwab ,  Olaf Dittmann ,  Michael Totzeck ,  Daniel Kraehmer ,  Vladimir Kamenov

发明人： Toralf Gruner ,  Olaf Conradi ,  Nils Dieckmann ,  Markus Schwab ,  Olaf Dittmann ,  Michael Totzeck ,  Daniel Kraehmer ,  Vladimir Kamenov

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70958 ,  G02B13/143 ,  G02B17/0856 ,  G02B17/0892 ,  G02B27/0012 ,  G03F7/70091

摘要： The invention concerns a method for operating a projection exposure apparatus to project the image of a structure of an object (5) arranged in an object plane (6) onto a substrate (10) arranged in an image plane (8). The object (5) is illuminated with light of an operating wavelength of the projection exposure apparatus according to one of several adjustable exposure modes. The light produces changes in at least one optical element (9) of the projection exposure apparatus, by which the optical properties of the projection exposure apparatus are influenced. The operation of the projection exposure apparatus makes allowance for the influencing of the optical properties of the projection exposure apparatus or a quantity dependent on the former, being calculated approximately on the basis of the exposure mode used and the structure of the object (5).

摘要翻译： 本发明涉及一种用于操作投影曝光装置以将布置在物平面（6）中的物体（5）的结构的图像投影到布置在图像平面（8）中的基板（10）上的方法。 根据多种可调曝光模式之一，物体（5）被投影曝光装置的工作波长的光照射。 该光在投影曝光装置的至少一个光学元件（9）中产生变化，由此影响投影曝光装置的光学特性。 投影曝光装置的操作允许基于所使用的曝光模式和对象（5）的结构大致计算投影曝光装置的光学特性或取决于前者的光学特性的影响。