公开(公告)号：US20100200938A1

公开(公告)日：2010-08-12

申请号：US12702132

申请日：2010-02-08

申请人： Chun-Ming Wang

发明人： Chun-Ming Wang

IPC分类号： H01L29/84 ,  H01L21/02 ,  H01L31/18

CPC分类号： G02B26/0841 ,  B81B3/0072 ,  B81B2201/047 ,  B81B2203/0163 ,  B81B2203/019 ,  B81B2203/0307 ,  B81B2203/053 ,  B81C1/00142 ,  B81C1/00666 ,  B81C2201/0167 ,  G02B26/001 ,  Y10S359/90

摘要： Certain MEMS devices include layers patterned to have tapered edges. One method for forming layers having tapered edges includes the use of an etch leading layer. Another method for forming layers having tapered edges includes the deposition of a layer in which the upper portion is etchable at a faster rate than the lower portion. Another method for forming layers having tapered edges includes the use of multiple iterative etches. Another method for forming layers having tapered edges includes the use of a liftoff mask layer having an aperture including a negative angle, such that a layer can be deposited over the liftoff mask layer and the mask layer removed, leaving a structure having tapered edges.

摘要翻译： 某些MEMS器件包括被图案化以具有渐缩边缘的层。 用于形成具有渐缩边缘的层的一种方法包括使用蚀刻引导层。 用于形成具有锥形边缘的层的另一种方法包括沉积一层，其中上部可以比下部更快的速度进行刻蚀。 用于形成具有渐缩边缘的层的另一种方法包括使用多个迭代蚀刻。 用于形成具有锥形边缘的层的另一种方法包括使用具有包括负角度的孔的剥离掩模层，使得可以在剥离掩模层上沉积一层，并且去除掩模层，留下具有渐缩边缘的结构。

公开(公告)号：US20100147790A1

公开(公告)日：2010-06-17

申请号：US12711634

申请日：2010-02-24

申请人： Teruo Sasagawa ,  Clarence Chui ,  Manish Kothari ,  SuryaPrakash Ganti ,  Jeffrey B. Sampsell ,  Chun-Ming Wang

发明人： Teruo Sasagawa ,  Clarence Chui ,  Manish Kothari ,  SuryaPrakash Ganti ,  Jeffrey B. Sampsell ,  Chun-Ming Wang

IPC分类号： H01B13/00

CPC分类号： G02B26/0841 ,  B81B2201/042 ,  B81B2203/0307 ,  B81C1/00595 ,  B81C2201/014 ,  G02B26/001

摘要： A microelectromechanical systems device having support structures formed of sacrificial material surrounded by a protective material. The microelectromechanical systems device includes a substrate having an electrode formed thereon. Another electrode is separated from the first electrode by a cavity and forms a movable layer, which is supported by support structures formed of a sacrificial material.

公开(公告)号：US20100105210A1

公开(公告)日：2010-04-29

申请号：US12289396

申请日：2008-10-27

申请人： Yung-Tin Chen ,  Chun-Ming Wang ,  Steven J. Radigan

发明人： Yung-Tin Chen ,  Chun-Ming Wang ,  Steven J. Radigan

IPC分类号： H01L21/311

CPC分类号： H01L21/0337

摘要： A method of making a device includes forming a first hard mask layer over an underlying layer, forming first features over the first hard mask layer, forming a first spacer layer over the first features, etching the first spacer layer to form a first spacer pattern and to expose top of the first features, removing the first features, patterning the first hard mask using the first spacer pattern as a mask to form first hard mask features, removing the first spacer pattern. The method also includes forming second features over the first hard mask features, forming a second spacer layer over the second features, etching the second spacer layer to form a second spacer pattern and to expose top of the second features, removing the second features, etching the first hard mask features using the second spacer pattern as a mask to form second hard mask features, and etching at least part of the underlying layer using the second hard mask features as a mask.

摘要翻译： 制造器件的方法包括在下层上形成第一硬掩模层，在第一硬掩模层上形成第一特征，在第一特征上形成第一间隔层，蚀刻第一间隔层以形成第一间隔图案， 为了暴露第一特征的顶部，去除第一特征，使用第一间隔图案作为掩模来图案化第一硬掩模以形成第一硬掩模特征，去除第一间隔图案。 该方法还包括在第一硬掩模特征上形成第二特征，在第二特征上形成第二间隔层，蚀刻第二间隔层以形成第二间隔图案并暴露第二特征的顶部，去除第二特征，蚀刻 第一硬掩模使用第二间隔图案作为掩模形成第二硬掩模特征，并且使用第二硬掩模特征作为掩模蚀刻至少部分下层。

公开(公告)号：US20090207473A1

公开(公告)日：2009-08-20

申请号：US12371538

申请日：2009-02-13

申请人： Ion Bita ,  Chun-Ming Wang ,  Gang Xu

发明人： Ion Bita ,  Chun-Ming Wang ,  Gang Xu

IPC分类号： G02B26/00 ,  H01L21/28 ,  H01L31/0232 ,  H01L33/00

CPC分类号： G02B26/001 ,  G02F1/133512 ,  G02F2001/13324 ,  Y02E10/52

摘要： A power generating black mask comprising an anti-reflection layer deposited over a substrate, a first electrode layer deposited over the anti-reflection layer, a semi-conductor layer deposited over the first electrode layer and a second electrode layer deposited over the semi-conductor layer.

摘要翻译： 一种功率产生黑色掩模，包括沉积在衬底上的抗反射层，沉积在抗反射层上的第一电极层，沉积在第一电极层上的半导体层和沉积在半导体上的第二电极层 层。

公开(公告)号：US07486867B2

公开(公告)日：2009-02-03

申请号：US11506622

申请日：2006-08-18

申请人： Chun-Ming Wang

发明人： Chun-Ming Wang

IPC分类号： G02B6/00

CPC分类号： G02B26/0841 ,  B81B3/0072 ,  B81B2201/047 ,  B81B2203/0163 ,  B81B2203/019 ,  B81B2203/0307 ,  B81B2203/053 ,  B81C1/00142 ,  B81C1/00666 ,  B81C2201/0167 ,  G02B26/001 ,  Y10S359/90

摘要： Certain MEMS devices include layers patterned to have tapered edges. One method for forming layers having tapered edges includes the use of an etch leading layer. Another method for forming layers having tapered edges includes the deposition of a layer in which the upper portion is etchable at a faster rate than the lower portion. Another method for forming layers having tapered edges includes the use of multiple iterative etches. Another method for forming layers having tapered edges includes the use of a liftoff mask layer having an aperture including a negative angle, such that a layer can be deposited over the liftoff mask layer and the mask layer removed, leaving a structure having tapered edges.

摘要翻译： 某些MEMS器件包括被图案化以具有渐缩边缘的层。 用于形成具有渐缩边缘的层的一种方法包括使用蚀刻引导层。 用于形成具有锥形边缘的层的另一种方法包括沉积一层，其中上部可以比下部更快的速度进行刻蚀。 用于形成具有渐缩边缘的层的另一种方法包括使用多个迭代蚀刻。 用于形成具有锥形边缘的层的另一种方法包括使用具有包括负角度的孔的剥离掩模层，使得可以在剥离掩模层上沉积一层，并且去除掩模层，留下具有渐缩边缘的结构。

公开(公告)号：US20070196040A1

公开(公告)日：2007-08-23

申请号：US11357702

申请日：2006-02-17

申请人： Chun-Ming Wang ,  Ming-Hau Tung ,  Surya Ganti

发明人： Chun-Ming Wang ,  Ming-Hau Tung ,  Surya Ganti

IPC分类号： G02F1/01

CPC分类号： G02B26/001

摘要： Methods and apparatus for providing light in an interferometric modulator device are provided. In one embodiment, a microelectromechanical system (MEMS) is provided that includes a transparent substrate and a plurality of interferometric modulators. The interferometric modulators include an optical stack coupled to the transparent substrate, a reflective layer over the optical stack, and one or more posts to support the reflective and to provide a path for light from a backlight for lighting the interferometric modulators.

摘要翻译： 提供了用于在干涉式调制器装置中提供光的方法和装置。 在一个实施例中，提供了包括透明基板和多个干涉式调制器的微机电系统（MEMS）。 干涉式调制器包括耦合到透明衬底的光学叠层，光学叠层上的反射层，以及支撑反射层的一个或多个柱，以及为来自背光源的光提供用于点亮干涉式调制器的路径。

公开(公告)号：US20070139816A1

公开(公告)日：2007-06-21

申请号：US11707524

申请日：2007-02-12

申请人： Tsung Chen ,  David Druist ,  Quang Le ,  Kim Lee ,  Chun-Ming Wang ,  Howard Zolla

发明人： Tsung Chen ,  David Druist ,  Quang Le ,  Kim Lee ,  Chun-Ming Wang ,  Howard Zolla

IPC分类号： B44C1/22 ,  G11B5/127

CPC分类号： G11B5/3163 ,  G11B5/1278 ,  G11B5/3116 ,  Y10T29/49032

摘要： A method for fabricating a magnetic head with a trapezoidal shaped pole piece tip is described. The body of the main pole piece is deposited; then one or more layers for the pole piece tip are deposited. A bed material is deposited over the pole piece tip material. A void is formed in the bed material over the area for the pole piece tip. The void is filled with an ion-milling resistant material such as alumina preferably using atomic layer deposition or atomic layer chemical vapor deposition. The excess ion-milling resistant material and the bed material are removed. The result is an ion-milling mask formed over the area for the pole piece tip. Ion milling is then used to remove the unmasked material in the pole piece tip layer and to form a beveled pole piece tip and preferably a beveled face on the main pole piece.

摘要翻译： 描述了制造具有梯形极片尖端的磁头的方法。 主极片的主体被沉积; 然后沉积用于极片尖端的一个或多个层。 床材料沉积在极片末端材料上。 在用于极片尖端的区域上的床材料中形成空隙。 空隙填充有耐离子碾磨材料，例如氧化铝，优选使用原子层沉积或原子层化学气相沉积。 除去过量的抗离子碾磨材料和床料。 结果是在极片尖端的区域上形成离子铣削掩模。 然后使用离子铣削去除极片末端层中的未掩模材料，并且在主极片上形成斜面极片末端，并且优选地形成斜面。

公开(公告)号：US20070041703A1

公开(公告)日：2007-02-22

申请号：US11506622

申请日：2006-08-18

申请人： Chun-Ming Wang

发明人： Chun-Ming Wang

IPC分类号： G02B6/00

CPC分类号： G02B26/0841 ,  B81B3/0072 ,  B81B2201/047 ,  B81B2203/0163 ,  B81B2203/019 ,  B81B2203/0307 ,  B81B2203/053 ,  B81C1/00142 ,  B81C1/00666 ,  B81C2201/0167 ,  G02B26/001 ,  Y10S359/90

摘要： Certain MEMS devices include layers patterned to have tapered edges. One method for forming layers having tapered edges includes the use of an etch leading layer. Another method for forming layers having tapered edges includes the deposition of a layer in which the upper portion is etchable at a faster rate than the lower portion. Another method for forming layers having tapered edges includes the use of multiple iterative etches. Another method for forming layers having tapered edges includes the use of a liftoff mask layer having an aperture including a negative angle, such that a layer can be deposited over the liftoff mask layer and the mask layer removed, leaving a structure having tapered edges.

摘要翻译： 某些MEMS器件包括被图案化以具有渐缩边缘的层。 用于形成具有渐缩边缘的层的一种方法包括使用蚀刻引导层。 用于形成具有锥形边缘的层的另一种方法包括沉积一层，其中上部可以比下部更快的速度进行刻蚀。 用于形成具有渐缩边缘的层的另一种方法包括使用多个迭代蚀刻。 用于形成具有锥形边缘的层的另一种方法包括使用具有包括负角度的孔的剥离掩模层，使得可以在剥离掩模层上沉积一层，并且去除掩模层，留下具有渐缩边缘的结构。

公开(公告)号：US20060002307A1

公开(公告)日：2006-01-05

申请号：US11147737

申请日：2005-06-08

申请人： Yi-Ming Wang ,  Chun-Ming Wang

发明人： Yi-Ming Wang ,  Chun-Ming Wang

IPC分类号： H04L1/00

CPC分类号： H04L1/24

摘要： A test apparatus for testing a to-be-tested network connection device is disclosed. The to-be-tested network connection device has a number of to-be-tested ports. The test apparatus includes a packet generator and a switch fixture. The packet generator is for generating a test packet having a VLAN ID (VID). The switch fixture, having VLAN function, includes a number of fixture ports. The to-be-tested ports are respectively one-to-one electrically coupled to the fixture ports. The switch fixture receives the test packet and transmits the test packet from one of the fixture ports to the corresponding to-be-tested port according to its VID in order to verify the to-be-tested network connection device.

摘要翻译： 公开了一种用于测试待测试网络连接设备的测试设备。 待测试的网络连接设备具有多个待测试端口。 测试装置包括分组发生器和开关夹具。 分组生成器用于生成具有VLAN ID（VID）的测试分组。 具有VLAN功能的开关灯具包括多个灯具端口。 待测试的端口分别一对一地电耦合到固定端口。 开关夹具接收测试包，并根据其VID将其中一个灯具端口的测试包发送到相应的待测试端口，以验证待测试的网络连接设备。

公开(公告)号：US20050032248A1

公开(公告)日：2005-02-10

申请号：US10633765

申请日：2003-08-04

申请人： Marie-Claire Cyrille ,  Kim Lee ,  Jui-Lung Li ,  Chun-Ming Wang

发明人： Marie-Claire Cyrille ,  Kim Lee ,  Jui-Lung Li ,  Chun-Ming Wang

IPC分类号： G11B5/39 ,  H01L21/00 ,  H01L21/302 ,  H01L21/461

CPC分类号： G11B5/3906

摘要： A method for providing a liftoff process using a single layer resist and chemical mechanical polishing and sensor formed therewith are disclosed. Chemical mechanical polishing is combined with liftoff using only a single resist layer to allow the removal of leftover fencing on the side of a lifted resist pattern.

摘要翻译： 公开了一种使用单层抗蚀剂提供剥离工艺的方法和由其形成的化学机械抛光和传感器。 化学机械抛光与仅使用单个抗蚀剂层的剥离相结合，以允许在提升的抗蚀剂图案侧面去除剩余的栅栏。