公开(公告)号：US3965299A

公开(公告)日：1976-06-22

申请号：US575909

申请日：1975-05-09

申请人： Burn Jeng Lin

发明人： Burn Jeng Lin

IPC分类号： G02F1/09 ,  G03H1/00 ,  G09F9/30 ,  G09G3/00 ,  G09G3/34 ,  G11C13/04 ,  H04N5/66

CPC分类号： G11C13/043 ,  G02F1/09 ,  G09G3/00

摘要： A dynamic pattern display and optical data processing system is provided including magnetic bubble devices which may be operated in real-time to produce two and three dimensional patterns such as holograms, kinoform lenses and complex filters. Th display pattern is obtained by directing a linearly polarized light beam through a combination including a one-quarter waveplate, a plurality of two-dimensional magnetic bubble arrays and another one-quarter wave plate, all combined in a stack arrangement. In one embodiment a combination is provided which functions as a phase filter and in another embodiment including more bubble arrays, the combination functions as a phase and intensity filter. The display patterns are multi-phase or multi-tone (gray scale) and multi-phase in character. Each magnetic bubble array in the phase and phase and intensity filter embodiments constitutes a layer which differs in thickness from the other magnetic bubble layers. Each magnetic bubble array is also electronically driven by its own bubble propagating circuit which produces, in most embodiments, a different "local phase" or "local transmissivity" which is a function of whether a bubble or an empty space is propagated to the location. The number of levels of transmitted phase or intensity and phase is an exponential function of the number of magnetic bubble layers, thus n layers provides 2.sup.n steps of transmitted phase or intensity and phase modification and a four layer structure provides a sixteen level phase or phase and intensity display. The electronic portion of the structure may be driven by signals representing mathematical expressions, patterns, manual inputs and the like to generate holograms, kineform lenses, complex filters, three-dimensional television pictures, and other display and optical information processing applications.

摘要翻译： 提供动态图案显示和光学数据处理系统，其包括可以实时操作以产生诸如全息图，kinoform透镜和复杂滤光器两种和三维图案的磁性气泡装置。 通过将线性偏振光束引导通过包括四分之一波片，多个二维磁气泡阵列和另一四分之一波片的组合来获得Th显示图案，其全部以堆叠布置组合。 在一个实施例中，提供了用作相位滤波器的组合，并且在包括更多气泡阵列的另一实施例中，该组合用作相位和强度滤波器。 显示图案是多相或多色（灰度）和多相的特征。 相位和相位和强度滤波器实施例中的每个磁气泡阵列构成厚度与其它磁性气泡层不同的层。 每个磁性气泡阵列也由其自身的气泡传播电路进行电子驱动，在大多数实施例中，其产生不同的“局部相位”或“局部透射率”，这是气泡还是空间传播到该位置的函数。 透射相位或强度和相位的数量是磁性气泡层数量的指数函数，因此n层提供了2n个阶段的透射相位或强度和相位修正，而四层结构提供了十六级的相位或相位， 强度显示。 结构的电子部分可以由表示数学表达式，图案，手动输入等的信号驱动，以产生全息图，运动形状透镜，复合滤波器，三维电视图像以及其他显示和光学信息处理应用。

公开(公告)号：US08956806B2

公开(公告)日：2015-02-17

申请号：US12562761

申请日：2009-09-18

申请人： Chien-Wei Wang ,  Ching-Yu Chang ,  Burn Jeng Lin

发明人： Chien-Wei Wang ,  Ching-Yu Chang ,  Burn Jeng Lin

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11

摘要： A method and material layer for forming a pattern are disclosed. The method includes providing a substrate; forming a first material layer over the substrate; forming a second material layer over the first material layer, wherein the second material layer comprises a photoacid generator and a photobase generator; and exposing one or more portions of the second material layer.

摘要翻译： 公开了用于形成图案的方法和材料层。 该方法包括提供基板; 在所述衬底上形成第一材料层; 在所述第一材料层上形成第二材料层，其中所述第二材料层包括光酸产生剂和光碱产生剂; 以及暴露所述第二材料层的一个或多个部分。

公开(公告)号：US08762899B2

公开(公告)日：2014-06-24

申请号：US13743087

申请日：2013-01-16

申请人： Burn Jeng Lin ,  Tsai-Sheng Gau ,  Ru-Gun Liu ,  Wen-Chun Huang

发明人： Burn Jeng Lin ,  Tsai-Sheng Gau ,  Ru-Gun Liu ,  Wen-Chun Huang

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： H01L22/10 ,  G03F1/70 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70466 ,  G06F17/5036 ,  G06F17/5072 ,  G06F17/5081 ,  H01L21/31144 ,  H01L23/5226 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A method of via patterning mask assignment for a via layer using double patterning technology, the method includes determining, using a processor, if a via of the via layer intercepts an underlying or overlaying metal structure assigned to a first metal mask. If the via intercepts the metal structure assigned to the first metal mask, assigning the via to a first via mask, wherein the first via mask aligns with the first metal mask. Otherwise, assigning the via to a second via mask, wherein the second via mask aligns with a second metal mask different from the first metal mask.

摘要翻译： 一种通过使用双重图案化技术对通孔层进行图案掩模分配的方法，所述方法包括使用处理器来确定通孔层的通孔是否拦截分配给第一金属掩模的下面或重叠的金属结构。 如果通孔截取分配给第一金属掩模的金属结构，则将通孔分配给第一通孔掩模，其中第一通孔掩模与第一金属掩模对准。 否则，将通孔分配给第二通孔掩模，其中第二通孔掩模与不同于第一金属掩模的第二金属掩模对准。

公开(公告)号：US08564759B2

公开(公告)日：2013-10-22

申请号：US11697469

申请日：2007-04-06

申请人： Ching-Yu Chang ,  Burn Jeng Lin

发明人： Ching-Yu Chang ,  Burn Jeng Lin

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： B08B3/12 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70925

摘要： A lithography apparatus includes an imaging lens module, a substrate table positioned underlying the imaging lens module and configured to hold a substrate, and a cleaning module adapted to clean the lithography apparatus. The cleaning module comprises one inlet and one outlet for providing a cleaning fluid to and from a portion of the lithography apparatus to be cleaned, and an ultrasonic unit configured to provide ultrasonic energy to the cleaning fluid.

摘要翻译： 光刻设备包括成像透镜模块，位于成像透镜模块下方并构造成保持基板的基板台，以及适于清洁光刻设备的清洁模块。 清洁模块包括一个入口和一个出口，用于向待清洁的光刻设备的一部分提供清洁流体;以及超声波单元，被配置为向清洁流体提供超声波能量。

公开(公告)号：US08216767B2

公开(公告)日：2012-07-10

申请号：US12555145

申请日：2009-09-08

申请人： Chien-Wei Wang ,  Ching-Yu Chang ,  Tsai-Sheng Gau ,  Burn Jeng Lin

发明人： Chien-Wei Wang ,  Ching-Yu Chang ,  Tsai-Sheng Gau ,  Burn Jeng Lin

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/40 ,  G03F7/028

CPC分类号： G03F7/0045 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/128

摘要： A method for fabricating an integrated circuit device is disclosed. The method includes providing a substrate; forming a first material layer over the substrate; forming a second material layer over the first material layer, wherein the second material layer comprises a photodegradable base material; and exposing at least a portion of the second material layer.

摘要翻译： 公开了一种用于制造集成电路器件的方法。 该方法包括提供基板; 在所述衬底上形成第一材料层; 在所述第一材料层上形成第二材料层，其中所述第二材料层包含可光降解的基材; 并暴露第二材料层的至少一部分。

公开(公告)号：US08180141B2

公开(公告)日：2012-05-15

申请号：US11934512

申请日：2007-11-02

申请人： Chin-Hsiang Lin ,  Burn Jeng Lin ,  Tsai-Shen Gau

发明人： Chin-Hsiang Lin ,  Burn Jeng Lin ,  Tsai-Shen Gau

IPC分类号： G06K9/00 ,  G03F1/00

CPC分类号： G03F7/7065 ,  G03F7/70383 ,  H01L22/22 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A system for wafer repair, comprising an inspection tool being capable of extracting a wafer image of a semiconductor wafer; a direct-writing tool being capable of locally exposing the semiconductor wafer; and an information processing module configured to compare the wafer image with a reference image and generate data of locations and patterns of defective regions and communicate the data of locations and patterns of defective regions to the direct-writing tool, wherein the reference image comprises a pattern consisting of a scanned image of another die having no defective region.

摘要翻译： 一种用于晶片修复的系统，包括能够提取半导体晶片的晶片图像的检查工具; 能够局部暴露半导体晶片的直写工具; 以及信息处理模块，被配置为将晶片图像与参考图像进行比较，并生成缺陷区域的位置和图案的数据，并将缺陷区域的位置和图案的数据传送到直接书写工具，其中参考图像包括图案 由没有缺陷区域的另一个芯片的扫描图像组成。

公开(公告)号：US08125611B2

公开(公告)日：2012-02-28

申请号：US11762651

申请日：2007-06-13

申请人： Ching-Yu Chang ,  Tsai-Sheng Gau ,  Burn Jeng Lin

发明人： Ching-Yu Chang ,  Tsai-Sheng Gau ,  Burn Jeng Lin

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： Immersion lithography apparatus and method using a shield module are provided. An immersion lithography apparatus including a lens module having an imaging lens, a substrate table positioned beneath the lens module and configured for holding a substrate for processing, a fluid module for providing an immersion fluid to a space between the lens module and the substrate on the substrate table, and a shield module for covering an edge of the substrate during processing.

摘要翻译： 提供了使用屏蔽模块的浸渍光刻设备和方法。 一种浸没式光刻设备，包括具有成像透镜的透镜模块，位于透镜模块下方的被配置用于保持用于处理的基板的基板台，用于在透镜模块和基板之间的空间中提供浸没流体的流体模块 衬底台和用于在处理期间覆盖衬底的边缘的屏蔽模块。

公开(公告)号：US20110267591A1

公开(公告)日：2011-11-03

申请号：US13176604

申请日：2011-07-05

申请人： Burn Jeng Lin

发明人： Burn Jeng Lin

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G02B7/028 ,  G02B7/04 ,  G03F7/70341

摘要： An apparatus for immersion lithography that includes an imaging lens which has a front surface, a fluid-containing wafer stage for supporting a wafer that has a top surface to be exposed positioned spaced-apart and juxtaposed to the front surface of the imaging lens, and a fluid that has a refractive index between about 1.0 and about 2.0 filling a gap formed in-between the front surface of the imaging lens and the top surface of the wafer. A method for immersion lithography can be carried out by flowing a fluid through a gap formed in-between the front surface of an imaging lens and a top surface of a wafer. The flow rate and temperature of the fluid can be controlled while particulate contaminants are filtered out by a filtering device.

公开(公告)号：US07986395B2

公开(公告)日：2011-07-26

申请号：US11427421

申请日：2006-06-29

申请人： Ching-Yu Chang ,  Burn Jeng Lin ,  Chin-Hsiang Lin

发明人： Ching-Yu Chang ,  Burn Jeng Lin ,  Chin-Hsiang Lin

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70925 ,  G03F7/70341

摘要： A lithography apparatus includes an imaging lens module; a substrate table positioned underlying the imaging lens module and configured to hold a substrate; and a cleaning module adapted to clean the lithography apparatus. The cleaning module is selected from the group consisting of an ultrasonic unit, a scrubber, a fluid jet, an electrostatic cleaner, and combinations thereof.

摘要翻译： 光刻设备包括成像透镜模块; 位于所述成像透镜模块下方且被配置为保持基板的基板台; 以及适于清洁光刻设备的清洁模块。 清洁模块选自超声波单元，洗涤器，流体射流，静电清洁器及其组合。

公开(公告)号：US07924397B2

公开(公告)日：2011-04-12

申请号：US10702664

申请日：2003-11-06

申请人： Burn Jeng Lin ,  David Lu

发明人： Burn Jeng Lin ,  David Lu

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70983 ,  G02B1/105 ,  G02B1/111 ,  G02B1/113 ,  G02B1/115 ,  G02B1/14 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70341

摘要： Disclosed is an objective lens adapted for use in liquid immersion photolithography and a method for making such a lens. In one example, the objective lens has multiple lens elements, one of which includes a transparent substrate and a layer of anti-corrosion coating (ACC). The ACC is formed proximate to the transparent substrate and is positioned between a liquid used during the liquid immersion photolithography and the transparent substrate to protect the transparent substrate from the liquid.

摘要翻译： 公开了适用于液浸光刻的物镜和制造这种透镜的方法。 在一个示例中，物镜具有多个透镜元件，其中之一包括透明基板和一层防腐涂层（ACC）。 ACC形成在透明基板附近，并且位于液浸光刻期间使用的液体和透明基板之间，以保护透明基板免于液体。