公开(公告)号：US07847921B2

公开(公告)日：2010-12-07

申请号：US12177715

申请日：2008-07-22

申请人： Toralf Gruner ,  Daniel Kraehmer ,  Michael Totzeck ,  Johannes Wangler ,  Markus Brotsack ,  Nils Dieckmann ,  Aksel Goehnermeier ,  Markus Schwab ,  Damian Fiolka ,  Markus Zenzinger

发明人： Toralf Gruner ,  Daniel Kraehmer ,  Michael Totzeck ,  Johannes Wangler ,  Markus Brotsack ,  Nils Dieckmann ,  Aksel Goehnermeier ,  Markus Schwab ,  Damian Fiolka ,  Markus Zenzinger

IPC分类号： G03B27/72 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70566 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70308

摘要： In an exposure method for exposing a substrate which is arranged in the area of an image plane of a projection objective as well as in a projection exposure system for performing that method, output radiation directed at the substrate and having an output polarization state is produced. Through variable adjustment of the output polarization state with the aid of at least one polarization manipulation device, the output polarization state can be formed to approach a nominal output polarization state. The polarization manipulation can be performed in a control loop on the basis of polarization-optical measuring data.

摘要翻译： 在用于曝光布置在投影物镜的像面的区域中的基板以及用于执行该方法的投影曝光系统中的曝光方法中，产生了指向基板并具有输出偏振态的输出辐射。 通过借助于至少一个偏振操纵装置对输出偏振状态的可变调节，输出偏振状态可以形成为接近标称输出偏振状态。 可以在基于偏振光学测量数据的控制回路中进行极化处理。

公开(公告)号：US20090021839A1

公开(公告)日：2009-01-22

申请号：US12186365

申请日：2008-08-05

申请人： Oliver Wolf ,  Heiko Siekmann ,  Eva Kalchbrenner ,  Siegfried Rennon ,  Johannes Wangler ,  Andre Bresan ,  Michael Gerhard ,  Nils Haverkamp ,  Axel Scholz ,  Ralf Scharnweber ,  Michael Layh ,  Stefan Burkart

发明人： Oliver Wolf ,  Heiko Siekmann ,  Eva Kalchbrenner ,  Siegfried Rennon ,  Johannes Wangler ,  Andre Bresan ,  Michael Gerhard ,  Nils Haverkamp ,  Axel Scholz ,  Ralf Scharnweber ,  Michael Layh ,  Stefan Burkart

IPC分类号： G02B27/10

CPC分类号： G03F7/70958 ,  G03F7/70075 ,  Y10T83/0304 ,  Y10T83/04

摘要： The disclosure relates to an optical integrator configured to produce a plurality of secondary light sources in an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus. The disclosure also relates to a method of manufacturing an array of elongated microlenses for use in such an illumination system. Arrays of elongated microlenses are often contained in optical integrators or scattering plates of such illumination systems.

摘要翻译： 本发明涉及一种被配置为在微光刻投影曝光装置的照明系统中产生多个次级光源的光学积分器。 本公开还涉及制造用于这种照明系统的细长微透镜阵列的方法。 细长微透镜的数组经常被包含在这种照明系统的光学积分器或散射板中。

公开(公告)号：US20050226000A1

公开(公告)日：2005-10-13

申请号：US11017375

申请日：2004-12-20

申请人： Dieter Bader ,  Norbert Reng ,  Johannes Wangler

发明人： Dieter Bader ,  Norbert Reng ,  Johannes Wangler

IPC分类号： G02B19/00 ,  G02B27/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  F21V7/04

CPC分类号： G03F7/70141 ,  G03F7/70116

摘要： An optical apparatus for illuminating an object, for example an illumination system of a microlithographic exposure system, comprises a light source that generates a plurality of individual bundles that constitute an illumination bundle. A control device controls the light source in such a way that a desired form of the illumination bundle is determined by selecting an appropriate set of individual bundles.

摘要翻译： 用于照亮物体的光学装置，例如微光刻曝光系统的照明系统，包括产生构成照明束的多个单独的束的光源。 控制装置以这样的方式控制光源，即通过选择合适的一组单独的束来确定所需形式的照明束。

公开(公告)号：US06864960B2

公开(公告)日：2005-03-08

申请号：US10234143

申请日：2002-09-05

申请人： Jess Koehler ,  Johannes Wangler

发明人： Jess Koehler ,  Johannes Wangler

IPC分类号： G02B15/177 ,  G03F7/20 ,  G03B27/54 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70183 ,  G02B15/177

摘要： A zoom system for an illumination device of a microlithographic projection exposure system is configured in the form of a focal-length zoom lens. The lenses of the zoom system define an object plane (6) and an image plane (8) that is a Fourier transform of the object plane. The zoom system is characterized by a large expansion of the illuminated area in the image plane, where expansion factors (D) in excess of four are feasible and are obtained by employing lens groups (33, 36) that are movable over large moving ranges.

摘要翻译： 用于微光刻投影曝光系统的照明装置的变焦系统被配置为焦距变焦透镜的形式。 变焦系统的透镜定义物体平面（6）和作为物平面的傅里叶变换的图像平面（8）。 变焦系统的特征在于图像平面中的照明区域的大的扩展，其中超过4的扩展因子（D）是可行的，并且通过使用可在大移动范围上移动的透镜组（33,36）获得。

公开(公告)号：US06583937B1

公开(公告)日：2003-06-24

申请号：US09871636

申请日：2001-06-04

申请人： Johannes Wangler ,  Jess Köhler

发明人： Johannes Wangler ,  Jess Köhler

IPC分类号： G02B2710

CPC分类号： G03F7/70958 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70183

摘要： The invention relates to an illuminating system of a microlithographic projection exposure arrangement having a light source (1), a first objective (7), a fly-eye-integrator (11), a diaphragm plane (13), a condenser optic (15), and an image plane (21) having a field to be illuminated. The fly-eye-integrator (11) includes at least a first one-dimensional array (39) of first cylinder lenses having first cylinder axes and a second one-dimensional array (47) of second cylinder lenses having second cylinder axes. The second cylinder axes are aligned perpendicularly to the first cylinder axes. A third one-dimensional array (35) of third cylinder lenses having third cylinder axes are mounted forward of the first array (39) to increase divergence. The third cylinder axes are aligned parallelly to the first cylinder axes and a fourth one-dimensional array (43) of fourth cylinder lenses having fourth cylinder axes is arranged forward of the second array (47) for increasing divergence. The fourth cylinder axes are aligned parallel to the second cylinder axes.

摘要翻译： 本发明涉及具有光源（1），第一物镜（7），飞眼积分器（11），光阑平面（13），聚光镜（15）的微光刻投影曝光装置的照明系统 ）和具有要被照明的场的图像平面（21）。 飞眼积分器（11）至少包括具有第一气缸轴线的第一气缸透镜的第一一维阵列（39）和具有第二气缸轴线的第二气缸透镜的第二一维阵列（47）。 第二气缸轴线垂直于第一气缸轴线对准。 具有第三气缸轴线的第三圆柱透镜的第三一维阵列（35）安装在第一阵列（39）的前方以增加发散。 第三气缸轴线与第一气缸轴线平行对准，并且具有第四气缸轴线的第四气缸透镜的第四一维阵列（43）布置在第二阵列（47）的前方，用于增加发散。 第四气缸轴线平行于第二气缸轴线排列。

公开(公告)号：US5982558A

公开(公告)日：1999-11-09

申请号：US771654

申请日：1996-12-23

申请人： Gerd Furter ,  Johannes Wangler ,  Udo Dinger ,  Gerhard Ittner

发明人： Gerd Furter ,  Johannes Wangler ,  Udo Dinger ,  Gerhard Ittner

IPC分类号： G02B13/14 ,  G02B13/24 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G02B3/00 ,  G02B17/00 ,  G02B21/02

CPC分类号： G03F7/70066 ,  G02B13/14 ,  G02B13/24 ,  G03F7/70183

摘要： A REMA objective 123 images an object plane 1 onto the reticle plane 33 and has a lens group 300 disposed in the half of the objective close to the reticle. The object plane 1 lies at a finite spacing. In the lens group 300, the principal ray elevations are greater in magnitude than the elevations of the peripheral rays. A scattering surface 28 is arranged in the lens group 300 having a largest magnitude of sine of the angle of incidence of the principal ray in air with respect to the surface normal (.vertline.sin (i.sub.princ).vertline.) greater than 0.35 and preferably greater than 0.5.

摘要翻译： REMA目标123将物平面1成像到标线板平面33上，并且具有设置在靠近光罩的物体的一半中的透镜组300。 物平面1位于有限的间距处。 在透镜组300中，主射线高度的大小大于外围射线的高度。 散射表面28布置在透镜组300中，其具有相对于表面法线（| sin（ip​​rinc）|）大于0.35且优选大于0.5的空气中主射线的入射角的最大正弦值的大小 。

公开(公告)号：US5572287A

公开(公告)日：1996-11-05

申请号：US355177

申请日：1994-12-08

申请人： Johannes Wangler ,  Gerhard Ittner

发明人： Johannes Wangler ,  Gerhard Ittner

IPC分类号： G02B19/00 ,  G02B27/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G02B19/06

CPC分类号： G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70583

摘要： The invention is directed to an illuminating arrangement for selectively providing a projection microlithographic exposure apparatus with various types of illumination including conventional illumination having an adjustable coherence factor (.sigma.), illumination via an annular aperture and symmetrically inclined illumination from two or four directions. The illuminating arrangement includes a light source for emitting light; a first light collecting device for collecting a first portion of the light in a first spatial angle region of the emitted light; a first shaping device for receiving and shaping the first portion of the light into a first shaped flux of light; a second light collecting device for collecting a second portion of the light in a second spatial angle region of the emitted light; a second shaping device for receiving and shaping the second portion of the light into a second shaped flux of light; an objective defining a pupillary plane and a reticle plane downstream of the pupillary plane; and, an imaging device for imaging images of the first and second shaped fluxes of light into sectors of the pupillary plane. The objective transmits the fluxes of light to the reticle plane and the illuminating arrangement also includes a first displacing device for operating on the first shaped flux of light so as to radially and azimuthally displace the image of the first shaped flux of light in the pupillary plane and a second displacing device for operating on the second shaped flux of light so as to radially and azimuthally displace the image of the second shaped flux of light in the pupillary plane.

摘要翻译： 本发明涉及用于选择性地提供具有各种类型照明的投影微光刻曝光设备的照明装置，包括具有可调节相干因子（sigma）的常规照明，经由环形孔的照明和来自两个或四个方向的对称倾斜照明。 照明装置包括用于发光的光源; 第一光收集装置，用于在发射的光的第一空间角度区域中收集光的第一部分; 第一成形装置，用于接收和成形第一部分光成为第一形状的光通量; 第二聚光装置，用于在发射的光的第二空间角度区域中收集第二部分的光; 第二成形装置，用于将第二部分的光接收和成形为第二形状的光束; 定义瞳孔平面和在瞳孔平面下游的光罩平面的物镜; 以及用于将第一和第二形状光束的图像成像到瞳孔平面的扇区中的成像装置。 目标将光通量传递到光罩平面，并且照明装置还包括用于在第一形状光束上操作的第一移位装置，以便径向地和方位角地置换瞳孔平面中的第一形状光通量的图像 以及第二移位装置，用于对所述第二形状光束进行操作，以便径向地和方位角地置换所述瞳孔平面中的所述第二形状光束的图像。

公开(公告)号：US09013684B2

公开(公告)日：2015-04-21

申请号：US13556408

申请日：2012-07-24

申请人： Stefan Xalter ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Andras G. Major ,  Manfred Maul ,  Johannes Eisenmenger ,  Damian Fiolka ,  Jan Horn ,  Markus Deguenther ,  Florian Bach ,  Michael Patra ,  Johannes Wangler ,  Michael Layh

发明人： Stefan Xalter ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Andras G. Major ,  Manfred Maul ,  Johannes Eisenmenger ,  Damian Fiolka ,  Jan Horn ,  Markus Deguenther ,  Florian Bach ,  Michael Patra ,  Johannes Wangler ,  Michael Layh

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B26/08 ,  G01M11/00 ,  G01N21/55

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G01B11/002 ,  G01B11/272 ,  G01M11/30 ,  G01N21/55 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70133 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/7085 ,  G05B13/048 ,  Y10S359/904

摘要： Microlithographic illumination system includes individually drivable elements to variably illuminate a pupil surface of the system. Each element deviates an incident light beam based on a control signal applied to the element. The system also includes an instrument to provide a measurement signal, and a model-based state estimator configured to compute, for each element, an estimated state vector based on the measurement signal. The estimated state vector represents: a deviation of a light beam caused by the element; and a time derivative of the deviation. The illumination system further includes a regulator configured to receive, for each element: a) the estimated state vector; and b) target values for: i) the deviation of the light beam caused by the deviating element; and ii) the time derivative of the deviation.

摘要翻译： 微光刻照明系统包括单独驱动的元件以可变地照亮系统的光瞳表面。 每个元件基于施加到元件的控制信号偏离入射光束。 该系统还包括提供测量信号的仪器，以及基于模型的状态估计器，被配置为基于测量信号为每个元件计算估计状态向量。 估计状态向量表示由元件引起的光束的偏差; 和偏差的时间导数。 照明系统还包括调节器，其被配置为针对每个元件接收：a）估计的状态矢量; 和b）目标值：i）由偏差元素引起的光束的偏差; 和ii）偏差的时间导数。

公开(公告)号：US20120154895A1

公开(公告)日：2012-06-21

申请号：US13352703

申请日：2012-01-18

申请人： Holger Muenz ,  Wolfgang Merkel ,  Damian Fiolka ,  Johannes Wangler

发明人： Holger Muenz ,  Wolfgang Merkel ,  Damian Fiolka ,  Johannes Wangler

IPC分类号： G02F1/11

CPC分类号： G02B19/0014 ,  B23K26/0006 ,  B23K26/0604 ,  B23K26/0622 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/352 ,  B23K2101/40 ,  B23K2103/56 ,  G02B19/0052 ,  G02B19/0095 ,  G02B27/0927 ,  G02B27/0961 ,  G02B27/0972

摘要： An optical system for generating a light beam for treating a substrate in a substrate plane is disclosed. The light beam has a beam length in a first dimension perpendicular to the propagation direction of the light beam and a beam width in a second dimension perpendicular to the first dimension and also perpendicular to the light propagation direction.The optical system includes a mixing optical arrangement which divides the light beam in at least one of the first and second dimensions into a plurality of light paths incident in the substrate plane in a manner superimposed on one another. At least one coherence-influencing optical arrangement is present in the beam path of the light beam and acts on the light beam to at least reduce the degree of coherence of light for at least one light path distance of one light path from at least one other light path.

摘要翻译： 公开了一种用于产生用于处理衬底平面中的衬底的光束的光学系统。 光束具有垂直于光束的传播方向的第一维中的光束长度和垂直于第一维度并且也垂直于光传播方向的第二维度中的光束宽度。 光学系统包括混合光学装置，其将第一和第二维度中的至少一个中的光束以彼此叠加的方式入射到基板平面中的多个光路分离。 至少一个相干影响的光学布置存在于光束的光束路径中并且作用在光束上以至少减少光的相干程度，用于至少一个光路与至少一个其它光路的光路距离 光路。

公开(公告)号：US20100039629A1

公开(公告)日：2010-02-18

申请号：US12506364

申请日：2009-07-21

申请人： Stefan Xalter ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Andras G. Major ,  Manfred Maul ,  Johannes Eisenmenger ,  Damian Fiolka ,  Jan Horn ,  Markus Deguenther ,  Florian Bach ,  Michael Patra ,  Johannes Wangler ,  Michael Layh

发明人： Stefan Xalter ,  Yim-Bun Patrick Kwan ,  Andras G. Major ,  Manfred Maul ,  Johannes Eisenmenger ,  Damian Fiolka ,  Jan Horn ,  Markus Deguenther ,  Florian Bach ,  Michael Patra ,  Johannes Wangler ,  Michael Layh

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G01B11/002 ,  G01B11/272 ,  G01M11/30 ,  G01N21/55 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70133 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/7085 ,  G05B13/048 ,  Y10S359/904

摘要： An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus has a pupil surface and an essentially flat arrangement of desirably individually drivable beam deviating elements for variable illumination of the pupil surface. Each beam deviating element allows deviation of a projection light beam incident on it to be achieved as a function of a control signal applied to the beam deviating element. A measurement illumination instrument directs a measurement light beam, independent of the projection light beams, onto a beam deviating element. A detector instrument records the measurement light beam after deviation by the beam deviating element. An evaluation unit determines the deviation of the projection light beam from measurement signals provided by the detector instrument.

摘要翻译： 微光刻投影曝光装置的照明系统具有瞳孔表面和基本上平坦的布置，其具有期望地单独驱动的光束偏离元件，用于可变照明瞳孔表面。 每个光束偏离元件允许作为施加到光束偏离元件的控制信号的函数来实现入射到其上的投影光束的偏移。 测量照明仪器将独立于投影光束的测量光束引导到光束偏离元件上。 检测仪器在光束偏离元件偏离后记录测量光束。 评估单元确定投影光束与由检测器仪器提供的测量信号的偏差。