公开(公告)号：US08231959B2

公开(公告)日：2012-07-31

申请号：US10585738

申请日：2004-12-16

申请人： Masayuki Ooe ,  Hiroshi Komatsu ,  Yoshiko Tsumaru ,  Dai Kawasaki ,  Kouji Katou ,  Takumi Ueno

发明人： Masayuki Ooe ,  Hiroshi Komatsu ,  Yoshiko Tsumaru ,  Dai Kawasaki ,  Kouji Katou ,  Takumi Ueno

IPC分类号： B32B3/00 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/0226 ,  C08K5/03 ,  C08K5/13 ,  C08K5/138 ,  C08L77/06 ,  C08L77/10 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/039 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/24521 ,  Y10T428/24612 ,  Y10T428/24802 ,  C08L77/00

摘要： A photosensitive polymer composition includes (a) a polyamide having a repeating unit represented by the following general formula (I): wherein U represents a tetravalent organic group, V represents a bivalent organic group and p is an integer representing a number of the repeating unit; (b) a compound which generates an acid upon receiving light; and (c) a compound represented by the following general formula (II): wherein m and n are each independently integer of 1 or 2, Rs are each independently hydrogen, alkyl group or acyl group, and R1 and R2 each independently represents fluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

摘要翻译： 光敏聚合物组合物包括（a）具有由以下通式（I）表示的重复单元的聚酰胺：其中U表示四价有机基团，V表示二价有机基团，p表示重复单元数目的整数 ; （b）在接收光时产生酸的化合物; 和（c）由以下通式（II）表示的化合物：其中m和n各自独立地为1或2的整数，R 5各自独立地为氢，烷基或酰基，并且R 1和R 2各自独立地表示氟代烷基 具有1至3个碳原子。

公开(公告)号：US20100260983A1

公开(公告)日：2010-10-14

申请号：US12759475

申请日：2010-04-13

申请人： Tomonori MINEGISHI ,  Rika NOGITA ,  Dai KAWASAKI ,  Keiko SUZUKI ,  Taku KONNO

发明人： Tomonori MINEGISHI ,  Rika NOGITA ,  Dai KAWASAKI ,  Keiko SUZUKI ,  Taku KONNO

IPC分类号： B32B3/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0387 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/11 ,  H05K1/05 ,  H05K3/287

摘要： A photosensitive resin composition for an interlayer insulating film or a protective film of a substrate for circuit formation, which includes a polymer (a) having a structural unit shown by the formula (A) and a compound (b) which generates a radical when irradiated with active rays and has a structure shown by the following formula (B).

摘要翻译： 一种用于层间绝缘膜或电路形成用基板的保护膜的感光性树脂组合物，其包含具有式（A）所示的结构单元的聚合物（a）和在照射时产生自由基的化合物（b） 具有活性射线并具有下式（B）所示的结构。

公开(公告)号：US08852726B2

公开(公告)日：2014-10-07

申请号：US13528989

申请日：2012-06-21

申请人： Masayuki Ooe ,  Hiroshi Komatsu ,  Yoshiko Tsumaru ,  Dai Kawasaki ,  Kouji Katou ,  Takumi Ueno

发明人： Masayuki Ooe ,  Hiroshi Komatsu ,  Yoshiko Tsumaru ,  Dai Kawasaki ,  Kouji Katou ,  Takumi Ueno

IPC分类号： B32B3/00 ,  G03F7/00 ,  C08K5/13 ,  C08K5/138 ,  G03F7/039 ,  G03F7/40 ,  C08L77/10 ,  G03F7/022 ,  G03F7/023 ,  G03F7/004 ,  C08K5/03 ,  C08L77/06

CPC分类号： G03F7/0226 ,  C08K5/03 ,  C08K5/13 ,  C08K5/138 ,  C08L77/06 ,  C08L77/10 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/039 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/24521 ,  Y10T428/24612 ,  Y10T428/24802 ,  C08L77/00

摘要： A photosensitive polymer composition includes (a) a polyamide having a repeating unit represented by the following general formula (I): wherein U represents a tetravalent organic group, V represents a bivalent organic group and p is an integer representing a number of the repeating unit; (b) a compound which generates an acid upon receiving light; and (c) a compound represented by the following general formula (II): wherein m and n are each independently integer of 1 or 2, Rs are each independently hydrogen, alkyl group or acyl group, and R1 and R2 each independently represents fluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

摘要翻译： 光敏聚合物组合物包括（a）具有由以下通式（I）表示的重复单元的聚酰胺：其中U表示四价有机基团，V表示二价有机基团，p表示重复单元数目的整数 ; （b）在接收光时产生酸的化合物; 和（c）由以下通式（II）表示的化合物：其中m和n各自独立地为1或2的整数，R 5各自独立地为氢，烷基或酰基，并且R 1和R 2各自独立地表示氟代烷基 具有1至3个碳原子。

公开(公告)号：US08614051B2

公开(公告)日：2013-12-24

申请号：US13535552

申请日：2012-06-28

申请人： Tomonori Minegishi ,  Rika Nogita ,  Dai Kawasaki ,  Keiko Suzuki ,  Taku Konno

发明人： Tomonori Minegishi ,  Rika Nogita ,  Dai Kawasaki ,  Keiko Suzuki ,  Taku Konno

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/0387 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/11 ,  H05K1/05 ,  H05K3/287

摘要： A photosensitive resin composition for an interlayer insulating film or a protective film of a substrate for circuit formation, which includes a polymer (a) having a structural unit shown by the formula (A) and a compound (b) which generates a radical when irradiated with active rays and has a structure shown by the following formula (B).

摘要翻译： 一种用于层间绝缘膜或电路形成用基板的保护膜的感光性树脂组合物，其包含具有式（A）所示的结构单元的聚合物（a）和在照射时产生自由基的化合物（b） 具有活性射线并具有下式（B）所示的结构。

公开(公告)号：US20120328856A1

公开(公告)日：2012-12-27

申请号：US13535552

申请日：2012-06-28

申请人： Tomonori MINEGISHI ,  Rika NOGITA ,  Dai KAWASAKI ,  Keiko SUZUKI ,  Taku KONNO

发明人： Tomonori MINEGISHI ,  Rika NOGITA ,  Dai KAWASAKI ,  Keiko SUZUKI ,  Taku KONNO

IPC分类号： H05K1/05 ,  G03F7/20 ,  B32B3/10 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0387 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/11 ,  H05K1/05 ,  H05K3/287

摘要： A photosensitive resin composition for an interlayer insulating film or a protective film of a substrate for circuit formation, which includes a polymer (a) having a structural unit shown by the formula (A) and a compound (b) which generates a radical when irradiated with active rays and has a structure shown by the following formula (B).

摘要翻译： 一种用于层间绝缘膜或电路形成用基板的保护膜的感光性树脂组合物，其包含具有式（A）所示的结构单元的聚合物（a）和在照射时产生自由基的化合物（b） 具有活性射线并具有下式（B）所示的结构。

公开(公告)号：US20070218400A1

公开(公告)日：2007-09-20

申请号：US11688610

申请日：2007-03-20

申请人： Dai Kawasaki ,  Nagatoshi Fujieda ,  Nori Sasaki ,  Noriyuki Yamazaki

发明人： Dai Kawasaki ,  Nagatoshi Fujieda ,  Nori Sasaki ,  Noriyuki Yamazaki

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/0387 ,  G11B5/855

摘要： A photosensitive resin composition includes (a) a polymer mainly composed of a repeating unit represented by the following general formula (I); (b) a dissolution accelerator for a developing solution; and (c) a solvent: wherein R1 is a trivalent or tetravalent organic group, R2 is a bivalent organic group, R is a monovalent organic group having a carbon-carbon unsaturated double bond or a group represented by O−M+ (M+ represents a hydrogen ion or a cation composed of hydrogen and a compound having the carbon-carbon unsaturated double bond) in which the compound having the carbon-carbon unsaturated double bond is ionically bonded, at least one carbon-carbon unsaturated double bond is contained in all repeating units, m is an integer of 2 or more, and n is 1 or 2.

摘要翻译： 感光性树脂组合物包含（a）主要由下述通式（I）表示的重复单元构成的聚合物。 （b）显影液的溶解促进剂; 和（c）溶剂：其中R 1是三价或四价有机基团，R 2是二价有机基团，R是具有碳 - 碳不饱和双键或由-O - O +表示的基团表示氢离子或由氢和化合物组成的阳离子 具有碳 - 碳不饱和双键），其中具有碳 - 碳不饱和双键的化合物离子键合，所有重复单元包含至少一个碳 - 碳不饱和双键，m为2以上的整数， n为1或2。

公开(公告)号：US5811218A

公开(公告)日：1998-09-22

申请号：US503274

申请日：1995-07-17

申请人： Makoto Kaji ,  Yasunori Kojima ,  Shigeki Katogi ,  Masataka Nunomura ,  Hideo Hagiwara ,  Dai Kawasaki ,  Mitsumasa Kojima ,  Hiroshi Suzuki ,  Hidetaka Satou

发明人： Makoto Kaji ,  Yasunori Kojima ,  Shigeki Katogi ,  Masataka Nunomura ,  Hideo Hagiwara ,  Dai Kawasaki ,  Mitsumasa Kojima ,  Hiroshi Suzuki ,  Hidetaka Satou

IPC分类号： G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/037 ,  G03C1/735 ,  C08F2/50

CPC分类号： G03F7/031 ,  G03F7/029 ,  G03F7/037 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/125 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/127

摘要： An N-aryl-.alpha.-amino acid (I), which is a novel compound, is effective as a photoinitiator. The photoinitiator composition including this photoinitiator is effective for improving photosensitive properties of photosensitive materials containing poly(amic acid) and an addition polymerizable compound used for pattern formation. Further, a photoinitiator composition (A) comprising an N-aryl-.alpha.-amino acid (I) or (I'), a 3-substituted coumarin (II) and/or an azabenzalcyclohexanone (III), or a photoinitiator composition (B) comprising an N-aryl-.alpha.-amino acid (I) or (I'), a 3-substituted coumarin (II) and a titanocene (IV), or a photoinitiator composition (C) comprising a 3-substituted coumarin (II), a titanocene (IV) and an oxime ester (V), is effective for improving photosensitive properties of photosensitive materials containing poly(amic acid) and an addition polymerizable compound used for pattern formation.

摘要翻译： 作为新型化合物的N-芳基-α-氨基酸（I）作为光引发剂是有效的。 包含该光引发剂的光引发剂组合物对于改善含有聚（酰胺酸）的感光材料和用于图案形成的加成聚合性化合物的感光性能是有效的。 此外，包含N-芳基-α-氨基酸（I）或（I'），3-取代香豆素（II）和/或氮杂苯并环己酮（III）的光引发剂组合物（A）或光引发剂组合物 ）包含N-芳基-α-氨基酸（I）或（I'），3-取代香豆素（II）和二茂钛（IV）或包含3-取代香豆素（II）的光引发剂组合物（C） ），二茂钛（IV）和肟酯（V））对于改善含有聚（酰胺酸）的感光材料和用于图案形成的加成聚合性化合物的感光性能是有效的。

公开(公告)号：US08304160B2

公开(公告)日：2012-11-06

申请号：US12759475

申请日：2010-04-13

申请人： Tomonori Minegishi ,  Rika Nogita ,  Dai Kawasaki ,  Keiko Suzuki ,  Taku Konno

发明人： Tomonori Minegishi ,  Rika Nogita ,  Dai Kawasaki ,  Keiko Suzuki ,  Taku Konno

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/0387 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/11 ,  H05K1/05 ,  H05K3/287

摘要： A photosensitive resin composition for an interlayer insulating film or a protective film of a substrate for circuit formation, which includes a polymer (a) having a structural unit shown by the formula (A) and a compound (b) which generates a radical when irradiated with active rays and has a structure shown by the following formula (B).

摘要翻译： 一种用于层间绝缘膜或电路形成用基板的保护膜的感光性树脂组合物，其包含具有式（A）所示的结构单元的聚合物（a）和在照射时产生自由基的化合物（b） 具有活性射线并具有下式（B）所示的结构。

公开(公告)号：US08097386B2

公开(公告)日：2012-01-17

申请号：US12377419

申请日：2006-08-14

申请人： Hajime Nakano ,  Noriyuki Yamazaki ,  Yoshiko Futagawa ,  Yoshika Satou ,  Dai Kawasaki ,  Takumi Ueno

发明人： Hajime Nakano ,  Noriyuki Yamazaki ,  Yoshiko Futagawa ,  Yoshika Satou ,  Dai Kawasaki ,  Takumi Ueno

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/30 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/085 ,  G03F7/11 ,  Y10T428/24802

摘要： A positive-type photosensitive resin composition for electronic materials having good film adhesiveness and sensitivity without causing a corrosion reaction to copper and copper alloys in metal wirings, a method for producing patterns and electronic parts are provided. The positive-type photosensitive resin composition includes (A) a polybenzoxazole precursor having a structure represented by the following general formula (I): wherein X represents a bivalent organic group, Y represents a tetravalent organic group, R1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and m represents an integer of 2 to 500 which represents a repeating unit number of the polymer, (B) a solvent, (C) a tetrazole derivative and (D) a compound which generates an acid by light.

摘要翻译： 提供了一种具有良好的膜粘附性和灵敏度的不会对金属布线中的铜和铜合金产生腐蚀反应的电子材料的正型感光性树脂组合物，制造图案和电子部件的方法。 正型感光性树脂组合物包括（A）具有以下通式（I）所示结构的聚苯并恶唑前体：其中X表示二价有机基团，Y表示四价有机基团，R 1表示氢原子或一价 有机基团，m表示2〜500的整数，表示聚合物的重复单元数，（B）溶剂，（C）四唑衍生物和（D）通过光产生酸的化合物。

公开(公告)号：US07642018B2

公开(公告)日：2010-01-05

申请号：US11688610

申请日：2007-03-20

申请人： Dai Kawasaki ,  Nagatoshi Fujieda ,  Nori Sasaki ,  Noriyuki Yamazaki

发明人： Dai Kawasaki ,  Nagatoshi Fujieda ,  Nori Sasaki ,  Noriyuki Yamazaki

IPC分类号： G03F7/037 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/0387 ,  G11B5/855

摘要： A photosensitive resin composition includes (a) a polymer mainly composed of a repeating unit represented by the following general formula (I); (b) a dissolution accelerator for a developing solution; and (c) a solvent: wherein R1 is a trivalent or tetravalent organic group, R2 is a bivalent organic group, R is a monovalent organic group having a carbon-carbon unsaturated double bond or a group represented by O−M+ (M+ represents a hydrogen ion or a cation composed of hydrogen and a compound having the carbon-carbon unsaturated double bond) in which the compound having the carbon-carbon unsaturated double bond is ionically bonded, at least one carbon-carbon unsaturated double bond is contained in all repeating units, m is an integer of 2 or more, and n is 1 or 2.

摘要翻译： 感光性树脂组合物包含（a）主要由下述通式（I）表示的重复单元构成的聚合物。 （b）显影液的溶解促进剂; 和（c）溶剂：其中R1是三价或四价有机基团，R2是二价有机基团，R是具有碳 - 碳不饱和双键的一价有机基团或由O-M +表示的基团（M +表示 氢离子或由氢和具有碳 - 碳不饱和双键的化合物构成的阳离子），其中具有碳 - 碳不饱和双键的化合物离子键合，至少一个碳 - 碳不饱和双键包含在所有重复 单元，m为2以上的整数，n为1或2。