公开(公告)号：US08383437B2

公开(公告)日：2013-02-26

申请号：US13223958

申请日：2011-09-01

申请人： Ji-Young Park ,  Shin-Il Choi ,  Jong-Hyun Choung ,  Sang Gab Kim ,  Seon-Il Kim ,  Sang-Tae Kim ,  Joon-Woo Lee ,  Young-Chul Park ,  Young-Jun Jin ,  Kyong-Min Kang ,  Suck-Jun Lee ,  O-Byoung Kwon ,  In-Ho Yu ,  Sang-Hoon Jang ,  Min-Ki Lim ,  Yu-Jin Lee

发明人： Ji-Young Park ,  Shin-Il Choi ,  Jong-Hyun Choung ,  Sang Gab Kim ,  Seon-Il Kim ,  Sang-Tae Kim ,  Joon-Woo Lee ,  Young-Chul Park ,  Young-Jun Jin ,  Kyong-Min Kang ,  Suck-Jun Lee ,  O-Byoung Kwon ,  In-Ho Yu ,  Sang-Hoon Jang ,  Min-Ki Lim ,  Yu-Jin Lee

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： C09K13/08 ,  C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  C23F1/44 ,  H01L21/32134 ,  H01L27/1259 ,  H01L29/41733

摘要： An etchant according to exemplary embodiments of the present invention includes about 0.5 wt % to about 20 wt % of persulfate, about 0.01 wt % to about 2 wt % of a fluorine compound, about 1 wt % to about 10 wt % of inorganic acid, about 0.5 wt % to about 5 wt % of a cyclic amine compound, about 0.1 wt % to about 5 wt % of a chlorine compound, about 0.05 wt % to about 3 wt % of copper salt, about 0.1 wt % to about 10 wt % of organic acid or organic acid salt, and water.

摘要翻译： 根据本发明的示例性实施方案的蚀刻剂包括约0.5重量％至约20重量％的过硫酸盐，约0.01重量％至约2重量％的氟化合物，约1重量％至约10重量％的无机酸， 约0.5重量％至约5重量％的环胺化合物，约0.1重量％至约5重量％的氯化合物，约0.05重量％至约3重量％的铜盐，约0.1重量％至约10重量％ ％的有机酸或有机酸盐，和水。

公开(公告)号：US20120153287A1

公开(公告)日：2012-06-21

申请号：US13168408

申请日：2011-06-24

申请人： Hong-Sick PARK ,  Wang-Woo LEE ,  Sang-Tae KIM ,  Joon-Woo LEE ,  Young-Chul PARK ,  Young-Jun JIN ,  Kyong-Min KANG ,  Young-Jin YOON ,  Suck-Jun LEE ,  O-Byoung KWON ,  In-Ho YU ,  Sang-Hoon JANG ,  Min-Ki LIM ,  Dong-Ki KIM

发明人： Hong-Sick PARK ,  Wang-Woo LEE ,  Sang-Tae KIM ,  Joon-Woo LEE ,  Young-Chul PARK ,  Young-Jun JIN ,  Kyong-Min KANG ,  Young-Jin YOON ,  Suck-Jun LEE ,  O-Byoung KWON ,  In-Ho YU ,  Sang-Hoon JANG ,  Min-Ki LIM ,  Dong-Ki KIM

IPC分类号： H01L33/16 ,  C09K13/08 ,  C09K13/06

CPC分类号： H01L27/127 ,  H01L21/32134 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1259 ,  H01L29/41733

摘要： An etchant includes: 5 to 20 wt % of persulfate, 1 to 10 wt % of at least one compound of an inorganic acid, an inorganic acid salt, or a mixture thereof, 0.3 to 5 wt % of a cyclic amine compound, 1 to 10 wt % of at least one compound of an organic acid, an organic acid salt, or a mixture thereof, 0.1 to 5 wt % of p-toluenesulfonic acid, and water, based on the total weight of the etchant. A copper-titanium etchant further includes 0.01 to 2 wt % of a fluoride-containing compound. A method of forming a display device using the etchant, and a display device, are also disclosed.

摘要翻译： 蚀刻剂包括：5〜20重量％的过硫酸盐，1〜10重量％的至少一种无机酸化合物，无机酸盐或其混合物，0.3〜5重量％的环状胺化合物，1〜 10重量％的至少一种有机酸，有机酸盐或其混合物的化合物，0.1至5重量％的对甲苯磺酸和水，基于蚀刻剂的总重量。 另外，铜 - 钛蚀刻剂还含有0.01〜2重量％的含氟化合物。 还公开了使用蚀刻剂形成显示装置的方法和显示装置。

公开(公告)号：US08785935B2

公开(公告)日：2014-07-22

申请号：US13168408

申请日：2011-06-24

申请人： Hong-Sick Park ,  Wang-Woo Lee ,  Sang-Tae Kim ,  Joon-Woo Lee ,  Young-Chul Park ,  Young-Jun Jin ,  Kyong-Min Kang ,  Young-Jin Yoon ,  Suck-Jun Lee ,  O-Byoung Kwon ,  In-Ho Yu ,  Sang-Hoon Jang ,  Min-Ki Lim ,  Dong-Ki Kim

发明人： Hong-Sick Park ,  Wang-Woo Lee ,  Sang-Tae Kim ,  Joon-Woo Lee ,  Young-Chul Park ,  Young-Jun Jin ,  Kyong-Min Kang ,  Young-Jin Yoon ,  Suck-Jun Lee ,  O-Byoung Kwon ,  In-Ho Yu ,  Sang-Hoon Jang ,  Min-Ki Lim ,  Dong-Ki Kim

IPC分类号： H01L29/04 ,  H01L27/12

CPC分类号： H01L27/127 ,  H01L21/32134 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1259 ,  H01L29/41733

摘要： An etchant includes: 5 to 20 wt % of persulfate, 1 to 10 wt % of at least one compound of an inorganic acid, an inorganic acid salt, or a mixture thereof, 0.3 to 5 wt % of a cyclic amine compound, 1 to 10 wt % of at least one compound of an organic acid, an organic acid salt, or a mixture thereof, 0.1 to 5 wt % of p-toluenesulfonic acid, and water, based on the total weight of the etchant. A copper-titanium etchant further includes 0.01 to 2 wt % of a fluoride-containing compound. A method of forming a display device using the etchant, and a display device, are also disclosed.

摘要翻译： 蚀刻剂包括：5〜20重量％的过硫酸盐，1〜10重量％的至少一种无机酸化合物，无机酸盐或其混合物，0.3〜5重量％的环状胺化合物，1〜 10重量％的至少一种有机酸化合物，有机酸盐或其混合物，0.1至5重量％的对甲苯磺酸和水，基于蚀刻剂的总重量。 另外，铜 - 钛蚀刻剂还含有0.01〜2重量％的含氟化合物。 还公开了使用蚀刻剂形成显示装置的方法和显示装置。

公开(公告)号：US20120290356A1

公开(公告)日：2012-11-15

申请号：US13515253

申请日：2010-12-09

申请人： In Ho Yu

发明人： In Ho Yu

IPC分类号： G06Q30/02

CPC分类号： G06Q30/02

摘要： The present invention relates to a method for operating an online service for evaluating and awarding websites. The objective for implementing the technology is to provide a method for operating an online service for evaluating and awarding websites, which enables an evaluation service operator server to invite public participation for providing an award and to receive applications from a variety of newly constructed or renewed websites in each field, and which selects, on the basis of preset evaluation criteria, a website that provides excellent service, and awards the selected website, to thereby propose website construction technologies and technical changes and direction. Therefore, to achieve the above objective, the present invention comprises the following specific means: an evaluation service operator server including an automatic information-processing unit, a registration applying unit, an evaluation board selecting unit, a review and evaluation processing unit, an information and data searching unit and an evaluation report generating unit; a website evaluation application server which applies and registers websites to be evaluated to the evaluation service operator server; and a user server which provides review and evaluation information on the applied websites. In addition, the objective of the present invention is accomplished by using the above-described system, and performing an evaluation registration applying step, a registration-type selecting step, an evaluation board selecting step, a review and evaluation preparing step, a review and evaluating step, a ranking processing step, a winner selecting step, and an award result information processing step.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于评估和授予网站的在线服务的操作方法。 实施该技术的目标是提供一种运行在线服务以评估和授予网站的方法，使评估服务运营商服务器能够邀请公众参与提供奖励，并从各种新建或更新的网站接收申请 在各个领域，根据预先设定的评估标准选择提供优质服务的网站，并对选定的网站进行奖励，从而提出网站建设技术和技术变革与方向。 因此，为了实现上述目的，本发明包括以下特定装置：包括自动信息处理单元，注册申请单元，评估板选择单元，评价和评估处理单元的评估服务运营商服务器，信息 数据搜索单元和评估报告生成单元; 网站评估应用服务器，其将评估的网站应用于评估服务运营商服务器; 以及在应用网站上提供审查和评估信息的用户服务器。 另外，本发明的目的是通过使用上述系统，执行评估登记应用步骤，登记型选择步骤，评估板选择步骤，评估和评估准备步骤，评估和 评估步骤，排名处理步骤，获胜者选择步骤和奖励结果信息处理步骤。

公开(公告)号：US20120252148A1

公开(公告)日：2012-10-04

申请号：US13223958

申请日：2011-09-01

申请人： Ji-Young PARK ,  Shin-Il CHOI ,  Jong-Hyun CHOUNG ,  Sang Gab KIM ,  Seon-Il KIM ,  Sang-Tae KIM ,  Joon-Woo LEE ,  Young-Chul PARK ,  Young-Jun JIN ,  Kyong-Min KANG ,  Suck-Jun LEE ,  O-Byoung KWON ,  In-Ho YU ,  Sang-Hoon JANG ,  Min-Ki LIM ,  Yu-Jin LEE

发明人： Ji-Young PARK ,  Shin-Il CHOI ,  Jong-Hyun CHOUNG ,  Sang Gab KIM ,  Seon-Il KIM ,  Sang-Tae KIM ,  Joon-Woo LEE ,  Young-Chul PARK ,  Young-Jun JIN ,  Kyong-Min KANG ,  Suck-Jun LEE ,  O-Byoung KWON ,  In-Ho YU ,  Sang-Hoon JANG ,  Min-Ki LIM ,  Yu-Jin LEE

IPC分类号： H01L33/36 ,  C09K13/08

CPC分类号： C09K13/08 ,  C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  C23F1/44 ,  H01L21/32134 ,  H01L27/1259 ,  H01L29/41733

摘要： An etchant according to exemplary embodiments of the present invention includes about 0.5 wt % to about 20 wt % of persulfate, about 0.01 wt % to about 2 wt % of a fluorine compound, about 1 wt % to about 10 wt % of inorganic acid, about 0.5 wt % to about 5 wt % of a cyclic amine compound, about 0.1 wt % to about 5 wt % of a chlorine compound, about 0.05 wt % to about 3 wt % of copper salt, about 0.1 wt % to about 10 wt % of organic acid or organic acid salt, and water.

摘要翻译： 根据本发明的示例性实施方案的蚀刻剂包括约0.5重量％至约20重量％的过硫酸盐，约0.01重量％至约2重量％的氟化合物，约1重量％至约10重量％的无机酸， 约0.5重量％至约5重量％的环胺化合物，约0.1重量％至约5重量％的氯化合物，约0.05重量％至约3重量％的铜盐，约0.1重量％至约10重量％ ％的有机酸或有机酸盐，和水。

公开(公告)号：US07981706B2

公开(公告)日：2011-07-19

申请号：US12891940

申请日：2010-09-28

申请人： Jeong-Min Park ,  Jung-Soo Lee ,  Won-Young Chang ,  Eun-Sang Lee ,  In-Ho Yu ,  Seong-Hyeon Kim

发明人： Jeong-Min Park ,  Jung-Soo Lee ,  Won-Young Chang ,  Eun-Sang Lee ,  In-Ho Yu ,  Seong-Hyeon Kim

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： H01L27/1288 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  H01L27/1214 ,  Y10S438/948

摘要： A photoresist composition includes an alkali-soluble resin, a dissolution inhibitor including a quinone diazide compound, a first additive including a benzenol compound represented by the following Chemical Formula 1, a second additive including an acrylic copolymer represented by the following Chemical Formula 2 and an organic solvent. Accordingly, heat resistance of a photoresist pattern may be improved, and the photoresist pattern may be readily stripped. As a result, crack formation in the photoresist pattern may be reduced and/or prevented.

摘要翻译： 光致抗蚀剂组合物包括碱溶性树脂，包含醌二叠氮化合物的溶解抑制剂，包含由以下化学式1表示的苯酚化合物的第一添加剂，包含由以下化学式2表示的丙烯酸共聚物的第二添加剂和 有机溶剂。 因此，可以提高光致抗蚀剂图案的耐热性，并且可以容易地剥离光致抗蚀剂图案。 结果，可以减少和/或阻止光致抗蚀剂图案中的裂纹形成。

公开(公告)号：US09048430B2

公开(公告)日：2015-06-02

申请号：US13330657

申请日：2011-12-19

申请人： Seon-Il Kim ,  Shin-Il Choi ,  Ji-Young Park ,  Sang-Gab Kim ,  O-Byoung Kwon ,  Dong-Ki Kim ,  Sang-Tae Kim ,  Young-Chul Park ,  In-Ho Yu ,  Young-Jin Yoon ,  Suck-Jun Lee ,  Joon-Woo Lee ,  Min-Ki Lim ,  Sang-Hoon Jang ,  Young-Jun Jin

发明人： Seon-Il Kim ,  Shin-Il Choi ,  Ji-Young Park ,  Sang-Gab Kim ,  O-Byoung Kwon ,  Dong-Ki Kim ,  Sang-Tae Kim ,  Young-Chul Park ,  In-Ho Yu ,  Young-Jin Yoon ,  Suck-Jun Lee ,  Joon-Woo Lee ,  Min-Ki Lim ,  Sang-Hoon Jang ,  Young-Jun Jin

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L51/00

CPC分类号： H01L51/0023 ,  H01L2251/308

摘要： Exemplary embodiments of the present invention disclose a non-halogenated etchant for etching an indium oxide layer and a method of manufacturing a display substrate using the non-halogenated etchant, the non-halogenated etchant including nitric acid, sulfuric acid, a corrosion inhibitor including ammonium, a cyclic amine-based compound, and water.

摘要翻译： 本发明的示例性实施方案公开了用于蚀刻氧化铟层的非卤化蚀刻剂和使用非卤化蚀刻剂制造显示衬底的方法，非卤化蚀刻剂包括硝酸，硫酸，包括铵的腐蚀抑制剂 ，环胺类化合物和水。

公开(公告)号：US08409999B2

公开(公告)日：2013-04-02

申请号：US12947296

申请日：2010-11-16

申请人： Byeong-Jin Lee ,  Hong-Sick Park ,  Sang-Tae Kim ,  Joon-Woo Lee ,  Young-Chul Park ,  Young-Jun Jin ,  Suck-Jun Lee ,  Seung-Jae Yang ,  O-Byoung Kwon ,  In-Ho Yu ,  Sang-Hoon Jang ,  Min-Ki Lim ,  Hye-Ra Shin ,  Yu-Jin Lee

发明人： Byeong-Jin Lee ,  Hong-Sick Park ,  Sang-Tae Kim ,  Joon-Woo Lee ,  Young-Chul Park ,  Young-Jun Jin ,  Suck-Jun Lee ,  Seung-Jae Yang ,  O-Byoung Kwon ,  In-Ho Yu ,  Sang-Hoon Jang ,  Min-Ki Lim ,  Hye-Ra Shin ,  Yu-Jin Lee

IPC分类号： H01L21/461

CPC分类号： H01L29/401 ,  C09K13/06 ,  H01L27/124 ,  H01L31/022475 ,  H01L31/022483 ,  H01L31/1884 ,  Y02E10/50

摘要： An etchant composition for etching a transparent electrode is provided, the etchant composition includes an inorganic acid, an ammonium (NH4+)-containing compound, a cyclic amine compound, and the remaining amount of water.

摘要翻译： 提供了用于蚀刻透明电极的蚀刻剂组合物，蚀刻剂组合物包括无机酸，含铵（NH 4 +）的化合物，环胺化合物和剩余量的水。

公开(公告)号：US20110183476A1

公开(公告)日：2011-07-28

申请号：US12947296

申请日：2010-11-16

申请人： Byeong-Jin LEE ,  Hong-Sick Park ,  Sang-Tae Kim ,  Joon-Woo Lee ,  Young-Chul Park ,  Young-Jun Jin ,  Suck-Jun Lee ,  Seung-Jae Yang ,  O-Byoung Kwon ,  In-Ho Yu ,  Sang-Hoon Jang ,  Min-Ki Lim ,  Hye-Ra Shin ,  Yu-Jin Lee

发明人： Byeong-Jin LEE ,  Hong-Sick Park ,  Sang-Tae Kim ,  Joon-Woo Lee ,  Young-Chul Park ,  Young-Jun Jin ,  Suck-Jun Lee ,  Seung-Jae Yang ,  O-Byoung Kwon ,  In-Ho Yu ,  Sang-Hoon Jang ,  Min-Ki Lim ,  Hye-Ra Shin ,  Yu-Jin Lee

IPC分类号： H01L21/336 ,  C09K13/06 ,  H01B13/00

CPC分类号： H01L29/401 ,  C09K13/06 ,  H01L27/124 ,  H01L31/022475 ,  H01L31/022483 ,  H01L31/1884 ,  Y02E10/50

摘要： An etchant composition for etching a transparent electrode is provided, the etchant composition includes an inorganic acid, an ammonium (NH4+)-containing compound, a cyclic amine compound, and the remaining amount of water.

摘要翻译： 提供了用于蚀刻透明电极的蚀刻剂组合物，蚀刻剂组合物包括无机酸，含铵（NH 4 +）的化合物，环胺化合物和剩余量的水。

公开(公告)号：US20120208310A1

公开(公告)日：2012-08-16

申请号：US13330657

申请日：2011-12-19

申请人： Seon-Il KIM ,  Shin-Il Choi ,  Ji-Young Park ,  Sang-Gab Kim ,  O-Byoung Kwon ,  Dong-Ki Kim ,  Sang-Tae Kim ,  Young-Chul Park ,  In-Ho Yu ,  Young-Jin Yoon ,  Suck-Jun Lee ,  Joon-Woo Lee ,  Min-Ki Lim ,  Sang-Hoon Jang ,  Young-Jun JIN

发明人： Seon-Il KIM ,  Shin-Il Choi ,  Ji-Young Park ,  Sang-Gab Kim ,  O-Byoung Kwon ,  Dong-Ki Kim ,  Sang-Tae Kim ,  Young-Chul Park ,  In-Ho Yu ,  Young-Jin Yoon ,  Suck-Jun Lee ,  Joon-Woo Lee ,  Min-Ki Lim ,  Sang-Hoon Jang ,  Young-Jun JIN

IPC分类号： H01L33/08

CPC分类号： H01L51/0023 ,  H01L2251/308

摘要： Exemplary embodiments of the present invention disclose a non-halogenated etchant for etching an indium oxide layer and a method of manufacturing a display substrate using the non-halogenated etchant, the non-halogenated etchant including nitric acid, sulfuric acid, a corrosion inhibitor including ammonium, a cyclic amine-based compound, and water.

摘要翻译： 本发明的示例性实施方案公开了用于蚀刻氧化铟层的非卤化蚀刻剂和使用非卤化蚀刻剂制造显示衬底的方法，非卤化蚀刻剂包括硝酸，硫酸，包括铵的腐蚀抑制剂 ，环胺类化合物和水。