公开(公告)号：US5432049A

公开(公告)日：1995-07-11

申请号：US189822

申请日：1994-02-01

申请人： Evelyn Fischer ,  Walter Fischer ,  Jurgen Finter ,  Kurt Meier ,  Martin Roth

发明人： Evelyn Fischer ,  Walter Fischer ,  Jurgen Finter ,  Kurt Meier ,  Martin Roth

IPC分类号： G03F7/028 ,  C07D219/06 ,  C07D311/86 ,  C07D335/16 ,  C07D401/12 ,  C07D407/12 ,  C07D409/12 ,  C08F2/50 ,  C09K3/00 ,  C09K9/02 ,  G03F7/031 ,  G03F7/038 ,  H01R13/52 ,  G03C1/73 ,  G03F7/004

CPC分类号： C07D401/12 ,  C07D219/06 ,  C07D311/86 ,  C07D335/16 ,  C09K9/02 ,  G03F7/031 ,  G03F7/0388 ,  Y10S430/163

摘要： Compounds of the formula I ##STR1## in which X is O, S, SO, SO.sub.2 or NR.sub.13, R.sub.13 is, for example, methyl, and R.sub.1 to R.sub.12, independently of one another, are, for example, H, C.sub.1 -C.sub.12 alkyl, C.sub.1 14 C.sub.12 alkoxy, halogen or --CN. The compounds are photosensitive and photochromic and as suitable are photosensitizers and simultaneously as colour indicators, and as photoswitchable colour filters.

摘要翻译： 其中X为O，S，SO，SO 2或NR 13的式I（I）化合物，R 13为例如甲基，R 1至R 12彼此独立地为H， C1-C12烷基，C114 C12烷氧基，卤素或-CN。 这些化合物是光敏的和光致变色的，并且适合的是光敏剂，同时作为颜色指示剂，以及作为照片开关的滤色器。

公开(公告)号：US5310909A

公开(公告)日：1994-05-10

申请号：US616550

申请日：1990-11-21

申请人： Evelyn Fischer ,  Walter Fischer ,  Jurgen Finter ,  Kurt Meier ,  Martin Roth

发明人： Evelyn Fischer ,  Walter Fischer ,  Jurgen Finter ,  Kurt Meier ,  Martin Roth

IPC分类号： G03F7/028 ,  C07D219/06 ,  C07D311/86 ,  C07D335/16 ,  C07D401/12 ,  C07D407/12 ,  C07D409/12 ,  C08F2/50 ,  C09K3/00 ,  C09K9/02 ,  G03F7/031 ,  G03F7/038 ,  H01R13/52 ,  C07D471/22 ,  C07D409/14

CPC分类号： C07D401/12 ,  C07D219/06 ,  C07D311/86 ,  C07D335/16 ,  C09K9/02 ,  G03F7/031 ,  G03F7/0388 ,  Y10S430/163

摘要： Compounds of the formula I ##STR1## in which X is O, S, SO, SO.sub.2 or NR.sub.13, R.sub.13 is, for example, methyl, and R.sub.1 to R.sub.12, independently of one another, are, for example, H, C.sub.1 -C.sub.12 alkyl, C.sub.1 -C.sub.12 Alkoxy, halogen or --CN. The compounds are photosensitive and photochromic and are suitable as photosensitizers and simultaneously as color indicators, and as photoswitchable color filters.

摘要翻译： 其中X为O，S，SO，SO 2或NR 13的式I（I）化合物，R 13为例如甲基，R 1至R 12彼此独立地为H， C 1 -C 12烷基，C 1 -C 12烷氧基，卤素或-CN。 这些化合物是光敏的和光致变色的，并且适合作为光敏剂，同时作为颜色指示剂，以及作为可开关的滤色器。

公开(公告)号：US5001243A

公开(公告)日：1991-03-19

申请号：US356828

申请日：1989-05-24

申请人： Walter Fischer ,  Marcus Baumann ,  Jurgen Finter ,  Vratislav Kvita ,  Carl W. Mayer ,  Manfred Rembold ,  Martin Roth

发明人： Walter Fischer ,  Marcus Baumann ,  Jurgen Finter ,  Vratislav Kvita ,  Carl W. Mayer ,  Manfred Rembold ,  Martin Roth

IPC分类号： C09K3/00 ,  B05D1/20 ,  C07C323/22 ,  C07C323/25 ,  C07C323/52 ,  C08F2/50 ,  C08G61/12 ,  C09B3/58 ,  C09K9/02 ,  G03C1/73 ,  G03F7/031 ,  H01B1/12

CPC分类号： B05D1/202 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C07C323/22 ,  C07C323/25 ,  C07C323/52 ,  C08G61/123 ,  C09K9/02 ,  G03C1/73 ,  G03F7/031 ,  H01B1/121 ,  C07C2103/44

摘要： Naphthacene-5,12-diones which are substituted by at least one organic thio radical are not only photoinitiators for the photopolymerization but also sensitizers for the photodimerization of ethylenically unsaturated compounds. Compositions made of these naphthacene-5,12-diones and ethylenically unsaturated compounds are suitable for the preparation of printing inks, paints, printing plates, resist materials or as image recording material.

摘要翻译： 被至少一个有机硫基取代的并用的5-萘二氢-5,12-二酮不仅是用于光聚合的光引发剂，而且也是用于烯属不饱和化合物的光二聚化的敏化剂。 由这些并四烯-5,12-二酮和烯键式不饱和化合物制成的组合物适用于印刷油墨，油漆，印刷版，抗蚀剂材料或图像记录材料的制备。

公开(公告)号：US06479596B1

公开(公告)日：2002-11-12

申请号：US08652394

申请日：1996-05-23

申请人： Martin Roth ,  Roger Salvin ,  Kurt Meier ,  Bernhard Sailer ,  Rolf Wiesendanger

发明人： Martin Roth ,  Roger Salvin ,  Kurt Meier ,  Bernhard Sailer ,  Rolf Wiesendanger

IPC分类号： C08F28300

CPC分类号： C08G59/1466 ,  C08G59/066 ,  Y10S525/922

摘要： Novel epoxy acrylates and carboxyl group-containing epoxy acrylates of formulae II and III of the claims that are relatively highmolecular and are chemically crosslinkable can be used in photoresist formulations with the additional use of highly polymerised polymer binders. Such resist formulations are used in particular in the field of printed circuit boards and printing plates, are applicable from aqueous medium, are almost tack-free and have very good edge coverage, especially on conductors.

摘要翻译： 具有相对高分子量且化学可交联的权利要求的式II和III的新型环氧丙烯酸酯和含羧基的环氧丙烯酸酯可以用于另外使用高度聚合的聚合物粘合剂的光致抗蚀剂制剂中。 这种抗蚀剂制剂特别用于印刷电路板和印刷版领域，适用于水性介质，几乎无粘性，并且具有非常好的边缘覆盖率，特别是在导体上。

公开(公告)号：US5576399A

公开(公告)日：1996-11-19

申请号：US268095

申请日：1994-06-28

申请人： Martin Roth ,  Roger Salvin ,  Kurt Meier ,  Bernhard Sailer ,  Rolf Wiesendanger

发明人： Martin Roth ,  Roger Salvin ,  Kurt Meier ,  Bernhard Sailer ,  Rolf Wiesendanger

IPC分类号： C08F290/06 ,  C08F290/00 ,  C08F299/02 ,  C08G59/06 ,  C08G59/14 ,  C08G59/17 ,  C08G59/20 ,  C08G59/24 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038 ,  H05K1/09 ,  C08F283/00

CPC分类号： C08G59/1466 ,  C08G59/066 ,  Y10S525/922

摘要： Novel epoxy acrylates and carboxyl group-containing epoxy acrylates of formulae II and III of the claims that are relatively highmolecular and are chemically crosslinkable can be used in photoresist formulations with the additional use of highly polymerized polymer binders. Such resist formulations are used in particular in the field of printed circuit boards and printing plates, are applicable from aqueous medium, are almost tack-free and have very good edge coverage, especially on conductors.

摘要翻译： 具有相对高分子量且化学可交联的权利要求的式II和III的新型环氧丙烯酸酯和含羧基的环氧丙烯酸酯可以用于额外使用高度聚合的聚合物粘合剂的光致抗蚀剂制剂中。 这种抗蚀剂制剂特别用于印刷电路板和印刷版领域，适用于水性介质，几乎无粘性，并且具有非常好的边缘覆盖率，特别是在导体上。

公开(公告)号：US06784221B2

公开(公告)日：2004-08-31

申请号：US09932731

申请日：2001-08-17

申请人： Martin Roth ,  Roger Salvin ,  Kurt Meier ,  Bernhard Sailer ,  Rolf Wiesendanger

发明人： Martin Roth ,  Roger Salvin ,  Kurt Meier ,  Bernhard Sailer ,  Rolf Wiesendanger

IPC分类号： C08L63110

CPC分类号： C09D163/10 ,  C08F290/144 ,  C08G59/066 ,  C08G59/1466 ,  C08G59/4284 ,  C08G59/4292 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038

摘要： A carboxyl group-containing epoxy acrylate is prepared by the reaction of an epoxy resin advanced with an aromatic biphenol compound which is reacted with a polycarboxylic acid anhydride in the presence or absence of a catalyst and a polymerization inhibitor at an elevated temperature. The carboxyl group-containing epoxy acrylate is mixed with a photoinitiator to obtain a photoresist formulation.

摘要翻译： 通过环氧树脂与芳族联苯酚化合物的反应制备含羧基的环氧丙烯酸酯，所述芳香族联苯酚化合物在存在或不存在催化剂的条件下与聚羧酸酐反应，在高温下进行。 将含羧基的环氧丙烯酸酯与光引发剂混合以获得光致抗蚀剂制剂。

公开(公告)号：US06747101B2

公开(公告)日：2004-06-08

申请号：US08268094

申请日：1994-06-28

申请人： Martin Roth ,  Roger Salvin ,  Kurt Meier ,  Bernhard Sailer ,  Rolf Wiesendanger

发明人： Martin Roth ,  Roger Salvin ,  Kurt Meier ,  Bernhard Sailer ,  Rolf Wiesendanger

IPC分类号： C08G5917

CPC分类号： C09D163/10 ,  C08F290/144 ,  C08G59/066 ,  C08G59/1466 ,  C08G59/4284 ,  C08G59/4292 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038

摘要： Epoxy acrylates and carboxyl group-containing epoxy acrylates of formulae III and IV of the claims that are relatively polymolecular and are chemically crosslinkable can be used in photoresist formulations with the additional use of highly polymerized polymer binders. Such resist formulations are used in particular in the field of printed circuit boards and printing plates, are applicable from aqueous medium, are almost tack-free and have very good edge coverage, especially on conductors.

摘要翻译： 具有相对多分子且具有化学交联性的权利要求中的式III和IV的环氧丙烯酸酯和含羧基的环氧丙烯酸酯可以用于另外使用高度聚合的聚合物粘合剂的光致抗蚀剂制剂中。 这种抗蚀剂制剂特别用于印刷电路板和印刷版领域，适用于水性介质，几乎无粘性，并且具有非常好的边缘覆盖率，特别是在导体上。

公开(公告)号：US5300380A

公开(公告)日：1994-04-05

申请号：US947899

申请日：1992-09-17

申请人： Martin Roth ,  Kurt Meier

发明人： Martin Roth ,  Kurt Meier

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/30 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/0388

摘要： The present invention relates to a negative photoresist consisting essentially of a process for the production of relief structures usinga) at least one solid film-forming polyphenol,b) at least one compound which contains at least two epoxide groups or at least two vinyl ether groups or at least one epoxide and vinyl ether group in the molecule,c) at least one cationic photoinitiator for component b) andd) if appropriate customary additives.The resist can be developed under aqueous-alkaline conditions.

摘要翻译： 本发明涉及一种负光致抗蚀剂，其基本上由生产浮雕结构的方法组成，该方法使用a）至少一种固体成膜多酚，b）至少一种含有至少两个环氧基或至少两个乙烯基醚的化合物 基团或至少一个环氧化物和乙烯基醚基团，c）至少一种用于组分b）的阳离子光引发剂和d）如果合适的常规添加剂。 抗蚀剂可以在水 - 碱性条件下显影。

公开(公告)号：US5079129A

公开(公告)日：1992-01-07

申请号：US445134

申请日：1989-11-30

申请人： Martin Roth ,  Kurt Meier

发明人： Martin Roth ,  Kurt Meier

IPC分类号： C08L61/06 ,  A61K38/00 ,  C08L61/04 ,  G03F7/023 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  H04N5/232

CPC分类号： G03F7/0388 ,  H04N5/23203 ,  A61K38/00 ,  Y10S430/106

摘要： The present invention relates to a negative photoresist consisting essentially ofa) at least one solid film-forming polyphenol,b) at least one compound which contains at least two epoxide groups or at least two vinyl ether groups or at least one epoxide and vinyl ether group in the molecule,c) at least one cationic photoinitiator for component b) andd) if appropriate customary additives.The resist can be developed under aqueous-alkaline conditions.

摘要翻译： 本发明涉及基本上由a）至少一种固体成膜多酚组成的负性光致抗蚀剂，b）至少一种含有至少两个环氧基团或至少两个乙烯基醚基团的化合物或至少一种环氧化物和乙烯基醚 c）至少一种用于组分b）的阳离子光引发剂和d）如果合适的常规添加剂。 抗蚀剂可以在水 - 碱性条件下显影。

公开(公告)号：US4994346A

公开(公告)日：1991-02-19

申请号：US221846

申请日：1988-07-20

申请人： Kurt Meier ,  Martin Roth ,  Adrian Schulthess ,  Heinz Wolleb

发明人： Kurt Meier ,  Martin Roth ,  Adrian Schulthess ,  Heinz Wolleb

IPC分类号： C08G59/62 ,  C08F2/48 ,  C08G59/00 ,  C08G59/18 ,  C08L63/00 ,  G03F7/023 ,  G03F7/027 ,  G03F7/032 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0385 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/115

摘要： The present invention relates to a negative photoresist essentially comprising(a) at least one solid, film-folrming polyphenol,(b) at least one polyfunctional epoxy resin and/or one polyfunctional vinyl ether compound, each of which can be dissolved, in the uncured state, in aqueous alkaline media with salt formation,(c) at least one cationic photoinitiator for component (b) and(d) customary additives, if desired.Components (a) and (b) can also be combined in one molecule. The resist can be developed in aqueous alkaline media.

摘要翻译： 本发明涉及一种负性光致抗蚀剂，其基本上包括（a）至少一种固体，薄膜多元酚，（b）至少一种可以溶解的多官能环氧树脂和/或一种多官能乙烯基醚化合物 未固化的状态，在具有盐形成的含水碱性介质中，（c）如果需要，组分（b）和（d）至少一种阳离子光引发剂是常规添加剂。 组分（a）和（b）也可以在一个分子中组合。 抗蚀剂可以在碱性水溶液中显影。