公开(公告)号：US06254796B1

公开(公告)日：2001-07-03

申请号：US09221596

申请日：1998-12-29

申请人： David L. Rath ,  Glenn W. Gale ,  Rangarajan Jagannathan ,  Kenneth J. McCullough ,  Karen P. Madden ,  Harald F. Okorn-Schmidt ,  Keith R. Pope

发明人： David L. Rath ,  Glenn W. Gale ,  Rangarajan Jagannathan ,  Kenneth J. McCullough ,  Karen P. Madden ,  Harald F. Okorn-Schmidt ,  Keith R. Pope

IPC分类号： H01L21302

CPC分类号： H01L21/31111 ,  C03C15/00 ,  C09K13/08

摘要： A silicate glass is selectively etched employing a composition containing a fluoride containing compound and certain organic solvents. Preferred compositions also include water.

摘要翻译： 使用含有含氟化合物和某些有机溶剂的组合物选择性地蚀刻硅酸盐玻璃。 优选的组合物还包括水。

公开(公告)号：US6117796A

公开(公告)日：2000-09-12

申请号：US133424

申请日：1998-08-13

申请人： Glenn W. Gale ,  Rangarajan Jagannathan ,  Karen P. Madden ,  Kenneth J. McCullough ,  Harald F. Okorn-Schmidt ,  Keith R. Pope ,  David L. Rath

发明人： Glenn W. Gale ,  Rangarajan Jagannathan ,  Karen P. Madden ,  Kenneth J. McCullough ,  Harald F. Okorn-Schmidt ,  Keith R. Pope ,  David L. Rath

IPC分类号： H01L21/311 ,  H01L21/302

CPC分类号： H01L21/31111

摘要： Silicon oxide is removed from an article employing a liquid composition containing a fluoride-containing compound, organic solvent, and water. The methods of the invention are especially useful for removal of silicon oxide formed by thermal oxidation of a silicon substrate.

摘要翻译： 使用含有含氟化合物，有机溶剂和水的液体组合物从制品中除去氧化硅。 本发明的方法对于去除通过硅衬底的热氧化形成的氧化硅是特别有用的。

公开(公告)号：US6066267A

公开(公告)日：2000-05-23

申请号：US342710

申请日：1999-06-29

申请人： David L. Rath ,  Rangarajan Jagannathan ,  Kenneth J. McCullough ,  Harald F. Okorn-Schmidt ,  Karen P. Madden ,  Keith R. Pope

发明人： David L. Rath ,  Rangarajan Jagannathan ,  Kenneth J. McCullough ,  Harald F. Okorn-Schmidt ,  Karen P. Madden ,  Keith R. Pope

IPC分类号： H01L21/306 ,  H01L21/308 ,  H01L21/311 ,  H01L21/302

CPC分类号： H01L21/31116

摘要： Silicon nitride is etched employing a composition containing a fluoride containing compound, certain organic solvents, and water.

摘要翻译： 使用含有含氟化合物，某些有机溶剂和水的组合物来蚀刻氮化硅。

公开(公告)号：US5965465A

公开(公告)日：1999-10-12

申请号：US932865

申请日：1997-09-18

申请人： David L. Rath ,  Rangarajan Jagannathan ,  Kenneth J. McCullough ,  Harald F. Okorn-Schmidt ,  Karen P. Madden ,  Keith R. Pope

发明人： David L. Rath ,  Rangarajan Jagannathan ,  Kenneth J. McCullough ,  Harald F. Okorn-Schmidt ,  Karen P. Madden ,  Keith R. Pope

IPC分类号： H01L21/306 ,  H01L21/308 ,  H01L21/311 ,  H01L21/02

CPC分类号： H01L21/31116

摘要： Silicon nitride is etched employing a composition containing a fluoride containing compound, certain organic solvents, and water.

公开(公告)号：US06200891B1

公开(公告)日：2001-03-13

申请号：US09133537

申请日：1998-08-13

申请人： Rangarajan Jagannathan ,  Karen P. Madden ,  Kenneth J. McCullough ,  Harald F. Okorn-Schmidt ,  Keith R. Pope ,  David L. Rath

发明人： Rangarajan Jagannathan ,  Karen P. Madden ,  Kenneth J. McCullough ,  Harald F. Okorn-Schmidt ,  Keith R. Pope ,  David L. Rath

IPC分类号： H01L214763

CPC分类号： H01L21/31111

摘要： Oxides such as those commonly used in interlevel dielectrics may be removed employing a liquid composition containing a fluoride-containing compound and an organic solvent. Preferred compositions are substantially nonaqueous and include an anhydride. Improved methods for selective removal of oxides, especially for removal of silicon oxides where pre-exposed (or conductive metal - containing) features are present, where metal (conductive metal - contaimg) features are to be exposed by the desired oxide removal, or where the silcon oxide otherwise contacts metal (or conductive metal - containing) features are provided.

摘要翻译： 可以使用含有含氟化合物和有机溶剂的液体组合物来除去在层间电介质中常用的那些氧化物。 优选的组合物基本上是非水的并且包括酸酐。 改进的选择性去除氧化物的方法，特别是用于去除其中预暴露（或含导电金属）特征的氧化硅，其中金属（导电金属 - 接枝）特征将通过所需的氧化物去除而暴露，或其中 另外提供了氧化锡氧化物接触金属（或含导电金属）特征。

公开(公告)号：US6150282A

公开(公告)日：2000-11-21

申请号：US969593

申请日：1997-11-13

申请人： David L. Rath ,  Rangarajan Jagannathan ,  Kenneth J. McCullough ,  Harald F. Okorn-Schmidt ,  Karen P. Madden ,  Keith R. Pope

发明人： David L. Rath ,  Rangarajan Jagannathan ,  Kenneth J. McCullough ,  Harald F. Okorn-Schmidt ,  Karen P. Madden ,  Keith R. Pope

IPC分类号： H01L21/306 ,  H01L21/768 ,  H01L21/302

CPC分类号： H01L21/02063 ,  H01L21/76814 ,  Y10S438/906

摘要： Etching residue is selectively removed employing a substantially non-aqueous composition containing a fluoride containing compound and certain organic solvents. Preferred compositions also include an anhydride.

摘要翻译： 使用含有含氟化合物和某些有机溶剂的基本上非水性组合物选择性地除去蚀刻残渣。 优选的组合物还包括酸酐。

公开(公告)号：US6033996A

公开(公告)日：2000-03-07

申请号：US969595

申请日：1997-11-13

申请人： David L. Rath ,  Rangarajan Jagannathan ,  Kenneth J. McCullough ,  Harald F. Okorn-Schmidt ,  Karen P. Madden ,  Keith R. Pope

发明人： David L. Rath ,  Rangarajan Jagannathan ,  Kenneth J. McCullough ,  Harald F. Okorn-Schmidt ,  Karen P. Madden ,  Keith R. Pope

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/302

CPC分类号： H01L21/02071 ,  Y10S134/902 ,  Y10S438/906 ,  Y10S438/963

摘要： Etching residue, etching mask and silicon nitride and/or silicon dioxide are etched or removed employing a composition containing a fluoride containing compound, water and certain organic solvents.

摘要翻译： 使用含有含氟化合物，水和某些有机溶剂的组合物蚀刻或去除蚀刻残留物，蚀刻掩模和氮化硅和/或二氧化硅。

公开(公告)号：US08388758B2

公开(公告)日：2013-03-05

申请号：US11866255

申请日：2007-10-02

申请人： John P. Simons ,  Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  John M. Cotte ,  Keith R. Pope ,  Charles J. Taft ,  Dario L. Goldfarb

发明人： John P. Simons ,  Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  John M. Cotte ,  Keith R. Pope ,  Charles J. Taft ,  Dario L. Goldfarb

IPC分类号： B08B7/00

CPC分类号： H01L21/02101 ,  B08B7/0021 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  Y10S134/902

摘要： A surface cleaning apparatus comprising a chamber, and a thermal transfer device. The chamber is capable of holding a semiconductor structure therein. The thermal transfer device is connected to the chamber. The thermal transfer device has a surface disposed inside the chamber for contacting the semiconducting structure and controlling a temperature of the semiconductor structure in contact with the surface. The thermal transfer device has a thermal control module connected to the surface for heating and cooling the surface to thermally cycle the surface. The thermal control module effects a substantially immediate thermal response of the surface when thermally recycling the surface.

摘要翻译： 一种表面清洁装置，包括腔室和热转印装置。 该室能够在其中保持半导体结构。 热传递装置连接到腔室。 热传递装置具有设置在室内的表面，用于接触半导体结构并控制与表面接触的半导体结构的温度。 热转印装置具有连接到表面的热控制模块，用于加热和冷却表面以使表面热循环。 当热再循环表面时，热控制模块会对表面产生实质上即时的热响应。

公开(公告)号：US06927393B2

公开(公告)日：2005-08-09

申请号：US10320835

申请日：2002-12-16

申请人： John M. Cotte ,  Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  Keith R. Pope ,  Robert J. Purtell ,  John P. Simons ,  Charles J. Taft

发明人： John M. Cotte ,  Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  Keith R. Pope ,  Robert J. Purtell ,  John P. Simons ,  Charles J. Taft

IPC分类号： G01N21/35 ,  G01J5/02

CPC分类号： G01N21/359 ,  G01N21/3504

摘要： A method and apparatus are provided for in situ monitoring and analyzing of process parameters for semiconductor fabrication processes including cleaning semiconductor wafers utilizing a supercritical fluid or a high pressure liquid such as CO2. The method and apparatus utilize a spectrometer having a reflective mirror proximate the vessel holding the high pressure fluid. NIR radiation transmitted into the vessel through a window and out of the vessel through an opposed window is reflected and detected and measured and the composition of the fluid in the pressure vessel is determined allowing the user to control process parameters based on the measured composition.

摘要翻译： 提供了一种用于半导体制造工艺的工艺参数的原位监测和分析的方法和装置，包括利用超临界流体或诸如CO 2的高压液体清洗半导体晶片。 该方法和装置利用具有靠近保持高压流体的容器的反射镜的光谱仪。 通过窗口传输到容器中并通过相对的窗口传出容器的NIR辐射被反射和检测和测量，并且确定压力容器中的流体的组成，允许用户基于测量的组成来控制工艺参数。

公开(公告)号：US06736906B2

公开(公告)日：2004-05-18

申请号：US10120309

申请日：2002-04-10

申请人： John M. Cotte ,  Matteo Flotta ,  Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  Keith R. Pope ,  John P. Simons ,  Charles J. Taft

发明人： John M. Cotte ,  Matteo Flotta ,  Kenneth J. McCullough ,  Wayne M. Moreau ,  Keith R. Pope ,  John P. Simons ,  Charles J. Taft

IPC分类号： B08B300

CPC分类号： B08B7/0021 ,  B08B3/10 ,  B08B13/00

摘要： A workpiece holder for processing a workpiece in a chamber of a liquified fluid. In one embodiment, the workpiece holder includes a cylindrically shaped rotator having an exterior wall and at least one fluid guide on the exterior wall. The rotator is adapted to rotate and provide fluid flow across a first end of the rotator, and is adapted to provide fluid flow and mixing perpendicular to a surface of the first end of the rotator. A fixture is coupled to the first end of the rotator for securing the workpiece to the first end of the rotator.

摘要翻译： 一种用于处理液化液体室中的工件的工件保持器。 在一个实施例中，工件保持器包括具有外壁和在外壁上的至少一个流体引导件的圆柱形旋转器。 旋转器适于旋转并提供流过旋转器的第一端的流体流，并且适于提供垂直于旋转体的第一端的表面的流体流动和混合。 固定装置联接到转子的第一端，用于将工件固定到转子的第一端。