公开(公告)号：US06388096B2

公开(公告)日：2002-05-14

申请号：US09777706

申请日：2001-02-07

申请人： Goon-Ho Joe ,  Ju-Young Lee ,  Sang-Who Lee ,  Jae-Hoon Jeon ,  Kun-Tai Kim ,  Hwan-Sung Cheon

发明人： Goon-Ho Joe ,  Ju-Young Lee ,  Sang-Who Lee ,  Jae-Hoon Jeon ,  Kun-Tai Kim ,  Hwan-Sung Cheon

IPC分类号： C07D33324

CPC分类号： C07D417/12 ,  C07C335/24 ,  C07D333/24

摘要： A process for pre ing a compound represented by formula (I), wherein R1 represents straight-chain or branched C1-5 alkyl, C1-5 haloalkyl, or C3-6 cycloalkyl, and R2 represents C1-3 alkyl or C1-3 haloalkyl.

摘要翻译： 一种预处理式（I）表示的化合物的方法，其中R 1表示直链或支链C 1-5烷基，C 1-5卤代烷基或C 3-6环烷基，R 2表示C 1-3烷基或C 1-3卤代烷基 。

公开(公告)号：US06277995B1

公开(公告)日：2001-08-21

申请号：US09554020

申请日：2000-05-10

申请人： Goon-Ho Joe ,  Ju-Young Lee ,  Sang-Who Lee ,  Jae-Hoon Jeon ,  Kun-Tai Kim ,  Hwan-Sung Cheon

发明人： Goon-Ho Joe ,  Ju-Young Lee ,  Sang-Who Lee ,  Jae-Hoon Jeon ,  Kun-Tai Kim ,  Hwan-Sung Cheon

IPC分类号： C07D27756

CPC分类号： C07D417/12 ,  C07C335/24 ,  C07D333/24

摘要： A process for preparing a compound represented by formula (I), wherein R1 represents straight-chain or branched C1-5 alkyl, C1-5 haloalkyl, or C3-6 cycloalkyl, and R2 represents C1-3 alkyl or C1-3 haloalkyl.

摘要翻译： 一种制备由式（I）表示的化合物的方法，其中R 1表示直链或支链C 1-5烷基，C 1-5卤代烷基或C 3-6环烷基，R 2表示C 1-3烷基或C 1-3卤代烷基。

公开(公告)号：US08741539B2

公开(公告)日：2014-06-03

申请号：US13241332

申请日：2011-09-23

申请人： Seung-Bae Oh ,  Hwan-Sung Cheon ,  Sung-Wook Cho ,  Min-Soo Kim ,  Jee-Yun Song ,  Yoo-Jeong Choi

发明人： Seung-Bae Oh ,  Hwan-Sung Cheon ,  Sung-Wook Cho ,  Min-Soo Kim ,  Jee-Yun Song ,  Yoo-Jeong Choi

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/40

CPC分类号： H01L21/31144 ,  G03F7/094 ,  H01L21/02112 ,  H01L21/0332

摘要： A hard mask composition, a method of forming a pattern, and a semiconductor integrated circuit device, the hard mask composition including a solvent; and a compound, the compound including a structural unit represented by the following Chemical Formula 1:

摘要翻译： 硬掩模组合物，形成图案的方法和半导体集成电路器件，所述硬掩模组合物包括溶剂; 和化合物，所述化合物包括由以下化学式1表示的结构单元：

公开(公告)号：US08502334B2

公开(公告)日：2013-08-06

申请号：US13236851

申请日：2011-09-20

申请人： Kil-Sung Lee ,  Jae-Hyun Kim ,  Chang-Min Lee ,  Eui-June Jeong ,  Min-Soo Kim ,  Hwan-Sung Cheon ,  Tu-Won Chang

发明人： Kil-Sung Lee ,  Jae-Hyun Kim ,  Chang-Min Lee ,  Eui-June Jeong ,  Min-Soo Kim ,  Hwan-Sung Cheon ,  Tu-Won Chang

IPC分类号： H01L31/0232 ,  H01L31/0203 ,  H01L27/146 ,  H01L21/00 ,  H01L21/302 ,  H01L21/469 ,  C07D303/40 ,  C08K3/22 ,  C08F222/40

CPC分类号： H01L27/14627 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14629 ,  H01L27/14685

摘要： Disclosed is an image sensor including a photo-sensing device, a color filter positioned on the photo-sensing device, a microlens positioned on the color filter, and an insulation layer positioned between the photo-sensing device and the color filter, and including a trench exposing the photo-sensing device and a filler filled in the trench. The filler has light transmittance of about 85% or more at a visible ray region, and a higher refractive index than the insulation layer. A method of manufacturing the image sensor is also provided.

摘要翻译： 公开了一种图像传感器，其包括光敏元件，位于感光元件上的滤色器，位于滤色器上的微透镜，以及位于感光元件与滤色片之间的绝缘层， 沟槽暴露感光装置和填充在沟槽中的填充物。 填料在可见光区域的透光率约为85％以上，折射率高于绝缘层。 还提供了一种制造图像传感器的方法。

公开(公告)号：US20110027722A1

公开(公告)日：2011-02-03

申请号：US12848459

申请日：2010-08-02

申请人： Sung-Wook Cho ,  Kyong-Ho Yoon ,  Min-Soo Kim ,  Seung-Bae Oh ,  Jee-Yun Song ,  Hwan-Sung Cheon

发明人： Sung-Wook Cho ,  Kyong-Ho Yoon ,  Min-Soo Kim ,  Seung-Bae Oh ,  Jee-Yun Song ,  Hwan-Sung Cheon

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08G77/00 ,  C08L83/00

CPC分类号： C08G77/60 ,  C08G77/04 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11

摘要： An aromatic ring-containing polymer for a resist underlayer, the polymer including a unit represented by the following Chemical Formula 1: wherein, R1 and R2 are independently hydrogen, a C1 to C10 alkyl group, or an aromatic group, A is a functional group derived from an aromatic compound with a heteroatom or without a heteroatom, and n is an integer of one or more.

摘要翻译： 用于抗蚀剂底层的含芳环的聚合物，所述聚合物包含由以下化学式1表示的单元：其中，R 1和R 2独立地为氢，C 1至C 10烷基或芳族基团，A为官能团 衍生自具有杂原子或不含杂原子的芳香族化合物，n为1以上的整数。

公开(公告)号：US08841064B2

公开(公告)日：2014-09-23

申请号：US13294223

申请日：2011-11-11

申请人： Myoung-Hwan Cha ,  Jong-Hwa Lee ,  Mi-Ra Im ,  Min-Kook Chung ,  Ji-Young Jeong ,  Hyun-Yong Cho ,  Hwan-Sung Cheon

发明人： Myoung-Hwan Cha ,  Jong-Hwa Lee ,  Mi-Ra Im ,  Min-Kook Chung ,  Ji-Young Jeong ,  Hyun-Yong Cho ,  Hwan-Sung Cheon

IPC分类号： G03C1/06 ,  G03C1/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/008 ,  G03F7/016 ,  G03F7/031 ,  G03F7/023 ,  H01L23/29 ,  G03F7/022 ,  G03F7/075

CPC分类号： H01L23/296 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0751 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed are a positive photosensitive resin composition that includes (A) an alkali soluble resin; (B) a dissolution controlling agent including the compound represented by Chemical Formula 6; (C) a photosensitive diazoquinone compound; (D) a silane compound; and (E) a solvent, and a photosensitive resin film prepared by using the same.

摘要翻译： 公开了包含（A）碱溶性树脂的正型感光性树脂组合物， （B）包含由化学式6表示的化合物的溶解控制剂; （C）光敏重氮醌化合物; （D）硅烷化合物; 和（E）溶剂，以及使用其制备的感光性树脂膜。

公开(公告)号：US08697341B2

公开(公告)日：2014-04-15

申请号：US13151531

申请日：2011-06-02

申请人： Kyong-Ho Yoon ,  Jin-Kuk Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Min-Soo Kim ,  Jee-Yun Song

发明人： Kyong-Ho Yoon ,  Jin-Kuk Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Min-Soo Kim ,  Jee-Yun Song

IPC分类号： G03F7/11

CPC分类号： C08L65/00 ,  C08G61/02 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/1067 ,  C08G2261/3424 ,  C08L79/08 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094

摘要： An aromatic ring-containing polymer, an underlayer composition including the same, and associated methods, the aromatic ring-containing polymer including a group represented by one of the following Chemical Formulae 1-1, 1-2, 2-1, and 2-2:

摘要翻译： 含有芳环的聚合物，含有该芳香族环的聚合物，含有该芳香族环的聚合物，下层组合物及其相关方法，含有芳香族环的聚合物包括由以下化学式1-1,1-2,2-1和2- 2：

公开(公告)号：US08592131B2

公开(公告)日：2013-11-26

申请号：US13239441

申请日：2011-09-22

申请人： Min-Kook Chung ,  Ji-Young Jeong ,  Hyun-Yong Cho ,  Yong-Sik Yoo ,  Jeong-Woo Lee ,  Jong-Hwa Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Soo-Young Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim ,  Su-Min Park

发明人： Min-Kook Chung ,  Ji-Young Jeong ,  Hyun-Yong Cho ,  Yong-Sik Yoo ,  Jeong-Woo Lee ,  Jong-Hwa Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Soo-Young Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim ,  Su-Min Park

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  C07C69/94

CPC分类号： C07C205/42 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/0755

摘要： An ortho-nitrobenzyl ester compound including a compound represented by Chemical Formula 1, and a positive photosensitive resin composition including the same are provided.

摘要翻译： 提供了包括由化学式1表示的化合物的邻硝基苄基酯化合物和包含该化合物的正性感光性树脂组合物。

公开(公告)号：US08501375B2

公开(公告)日：2013-08-06

申请号：US13241612

申请日：2011-09-23

申请人： Hyun-Yong Cho ,  Min-Kook Chung ,  Ji-Young Jeong ,  Jong-Hwa Lee ,  Yong-Sik Yoo ,  Jeong-Woo Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Soo-Young Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim ,  Su-Min Park

发明人： Hyun-Yong Cho ,  Min-Kook Chung ,  Ji-Young Jeong ,  Jong-Hwa Lee ,  Yong-Sik Yoo ,  Jeong-Woo Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Soo-Young Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim ,  Su-Min Park

IPC分类号： G03F7/023

CPC分类号： G03F7/0233 ,  H01L23/293 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed is a positive photosensitive resin composition that includes (A) a polybenzoxazole precursor including a repeating unit represented by the following Chemical Formula 1; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (C) a silane compound; (D) a phenol compound; and (E) a solvent. In the above Chemical Formula 1, each substituent is the same as defined in the specification.

摘要翻译： 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）包含由以下化学式1表示的重复单元的聚苯并恶唑前体; （B）光敏重氮醌化合物; （C）硅烷化合物; （D）酚化合物; 和（E）溶剂。 在上述化学式1中，各取代基与说明书中的定义相同。

公开(公告)号：US08420287B2

公开(公告)日：2013-04-16

申请号：US12834933

申请日：2010-07-13

申请人： Ji-Young Jeong ,  Min-Kook Chung ,  Hyun-Yong Cho ,  Doo-Young Jung ,  Jong-Hwa Lee ,  Yong-Sik Yoo ,  Jeong-Woo Lee ,  Hwan-Sung Cheon

发明人： Ji-Young Jeong ,  Min-Kook Chung ,  Hyun-Yong Cho ,  Doo-Young Jung ,  Jong-Hwa Lee ,  Yong-Sik Yoo ,  Jeong-Woo Lee ,  Hwan-Sung Cheon

IPC分类号： G03F7/023

CPC分类号： G03F7/0233 ,  G03F7/40

摘要： Disclosed is a positive photosensitive resin composition that includes: (A) a polybenzoxazole precursor including a repeating unit represented by the Chemical Formula 1, a repeating unit represented by the Chemical Formula 2, or a combination thereof, and a thermally polymerizable functional group at least one terminal end of the polybenzoxazole precursor; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (C) a silane compound; (D) a phenol compound including a cross-linking functional group; and (E) a solvent.

摘要翻译： 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含：（A）包含由化学式1表示的重复单元，由化学式2表示的重复单元或其组合的聚苯并恶唑前体和至少可热聚合的官能团 聚苯并恶唑前体的一个末端; （B）光敏重氮醌化合物; （C）硅烷化合物; （D）包含交联官能团的酚化合物; 和（E）溶剂。