公开(公告)号：US09217919B2

公开(公告)日：2015-12-22

申请号：US13062285

申请日：2009-08-26

申请人： Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Toru Tsuchihashi ,  Katsuhiro Yamashita ,  Naoyuki Nishikawa

发明人： Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Toru Tsuchihashi ,  Katsuhiro Yamashita ,  Naoyuki Nishikawa

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/30 ,  C08F12/32 ,  G03F7/039 ,  C09D125/18

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/30 ,  C08F12/32 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  C08F212/14 ,  C08F222/36 ,  C08F212/32 ,  C08F2220/1883

摘要： A radiation-sensitive composition including a compound (P) having a partial structure (A) having an ionic structural site and capable of decomposing upon irradiation with an actinic ray or radiation to generate an acid and a partial structure (B) having at least one phenolic hydroxyl group, a part or all of hydrogen atoms of the hydroxyl group or groups each being protected by a group capable of leaving by the action of an acid, wherein the ionic structural site of the partial structure (A) contained in the compound (P) is a structure capable of generating an acid anion in the compound (P) upon irradiation with an actinic ray or radiation; a pattern-forming method using the same; and a resin which is used in the composition.

摘要翻译： 一种辐射敏感性组合物，其包含具有离子结构位点的部分结构（A）的化合物（P），并且能够在用光化射线或辐射照射时分解以产生酸和部分结构（B），其具有至少一个 酚羟基，羟基的一部分或全部氢原子或各自被能够通过酸的作用而离开的基团保护的基团，其中化合物中包含的部分结构（A）的离子结构位点（ P）是在通过光化射线或辐射照射时能够在化合物（P）中产生酸阴离子的结构; 使用其的图案形成方法; 和用于组合物中的树脂。

公开(公告)号：US20110159433A1

公开(公告)日：2011-06-30

申请号：US13062285

申请日：2009-08-26

申请人： Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Toru Tsuchihashi ,  Katsuhiro Yamashita ,  Naoyuki Nishikawa

发明人： Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Toru Tsuchihashi ,  Katsuhiro Yamashita ,  Naoyuki Nishikawa

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07C309/00 ,  C08F228/02 ,  G03F7/004 ,  C08F214/18 ,  C08F222/40

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/30 ,  C08F12/32 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  C08F212/14 ,  C08F222/36 ,  C08F212/32 ,  C08F2220/1883

摘要： Provided are a radiation-sensitive composition including a compound (P) having a partial structure (A) having an ionic structural site and capable of decomposing upon irradiation with an actinic ray or radiation to generate an acid and a partial structure (B) having at least one phenolic hydroxyl group, a part or all of hydrogen atoms of the hydroxyl group or groups each being protected by a group capable of leaving by the action of an acid, wherein the ionic structural site of the partial structure (A) contained in the compound (P) is a structure capable of generating an acid anion in the compound (P) upon irradiation with an actinic ray or radiation; a pattern-forming method using the same; and a resin which is used in the composition.

摘要翻译： 本发明提供一种辐射敏感性组合物，其包含具有离子结构位点的部分结构（A）的化合物（P），并且能够在用光化射线或辐射照射时分解以产生酸和部分结构（B） 至少一个酚羟基，羟基的一部分或全部氢原子或各自被能够通过酸的作用离开的基团保护，其中部分结构（A）的离子结构位点包含在 化合物（P）是在用光化射线或辐射照射时能够在化合物（P）中产生酸阴离子的结构; 使用其的图案形成方法; 和用于组合物中的树脂。

公开(公告)号：US08852845B2

公开(公告)日：2014-10-07

申请号：US12641877

申请日：2009-12-18

申请人： Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Toru Tsuchihashi ,  Katsuhiro Yamashita ,  Hideaki Tsubaki

发明人： Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Toru Tsuchihashi ,  Katsuhiro Yamashita ,  Hideaki Tsubaki

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

摘要： Provided is a actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including (P) a resin containing (A) a repeating unit having an ionic structure moiety that contains a cation represented by formula (Ia) and is capable of producing an acid anion on the side chain upon irradiation with an actinic ray or radiation: wherein each of R1a to R13a independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent and may combine together to form a ring, and Z represents a single bond or a divalent linking group.

摘要翻译： 本发明提供一种光化学射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含（P）含有（A）具有离子性结构部分的重复单元的树脂，所述重复单元含有式（Ia）所示的阳离子，并且能够在 侧光在照射光化学射线或辐射时：其中R 1a至R 13a各自独立地表示氢原子或一价取代基，并且可以结合在一起形成环，Z表示单键或二价连接基团。

公开(公告)号：US20120094235A1

公开(公告)日：2012-04-19

申请号：US13320116

申请日：2010-05-20

申请人： Toru Tsuchihashi ,  Hideaki Tsubaki ,  Koji Shirakawa ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura

发明人： Toru Tsuchihashi ,  Hideaki Tsubaki ,  Koji Shirakawa ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/027

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin (A) whose solubility in an alkali developer is increased by the action of an acid, the resin containing any of the units of general formula (AI) below and any of the units of general formula (AII) below, and a compound (B) that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid with any of the structures of general formula (BI) below.

摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括其在碱性显影剂中的溶解度通过酸的作用而增加的树脂（A），所述树脂包含任何通式（AI）的单元， 和下述通式（AII）的任何单元和当暴露于光化射线或辐射时产生具有以下通式（BI）的任何结构的酸的化合物（B）。

公开(公告)号：US08895222B2

公开(公告)日：2014-11-25

申请号：US12729336

申请日：2010-03-23

申请人： Tomotaka Tsuchimura ,  Hidenori Takahashi ,  Takayuki Ito ,  Takeshi Inasaki ,  Shohei Kataoka

发明人： Tomotaka Tsuchimura ,  Hidenori Takahashi ,  Takayuki Ito ,  Takeshi Inasaki ,  Shohei Kataoka

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/029 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C08F224/00

CPC分类号： C08F224/00 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F12/30 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/029 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2037 ,  Y10S430/122 ,  C08F220/16 ,  C08F212/32 ,  C08F2220/1883 ,  C08F2220/1825

摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including (P) a resin which contains (A) a repeating unit having an ionic structure moiety capable of producing an acid anion on the side chain upon irradiation with an actinic ray or radiation, wherein a cation moiety of the ionic structure moiety has an acid-decomposable group or an alkali-decomposable group.

摘要翻译： 本发明提供一种光活性射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含（P）树脂，该树脂含有（A）具有离子结构部分的重复单元，该离子结构部分能够在照射光化学射线或辐射时在侧链上产生酸性阴离子 ，其中所述离子结构部分的阳离子部分具有酸可分解基团或碱可分解基团。

公开(公告)号：US20100248149A1

公开(公告)日：2010-09-30

申请号：US12729336

申请日：2010-03-23

申请人： Tomotaka Tsuchimura ,  Hidenori Takahashi ,  Takayuki Ito ,  Takeshi Inasaki ,  Shohei Kataoka

发明人： Tomotaka Tsuchimura ,  Hidenori Takahashi ,  Takayuki Ito ,  Takeshi Inasaki ,  Shohei Kataoka

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08F12/24 ,  C08F214/16 ,  C08F224/00

CPC分类号： C08F224/00 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F12/30 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/029 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2037 ,  Y10S430/122 ,  C08F220/16 ,  C08F212/32 ,  C08F2220/1883 ,  C08F2220/1825

摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including (P) a resin which contains (A) a repeating unit having an ionic structure moiety capable of producing an acid anion on the side chain upon irradiation with an actinic ray or radiation, wherein a cation moiety of the ionic structure moiety has an acid-decomposable group or an alkali-decomposable group.

摘要翻译： 本发明提供一种光活性射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含（P）树脂，该树脂含有（A）具有离子结构部分的重复单元，该离子结构部分能够在照射光化学射线或辐射时在侧链上产生酸性阴离子 ，其中所述离子结构部分的阳离子部分具有酸可分解基团或碱可分解基团。

公开(公告)号：US20140127627A1

公开(公告)日：2014-05-08

申请号：US13669530

申请日：2012-11-06

申请人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

发明人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20

摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a resist film formed with the composition, and a pattern-forming method using the same. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (P) a resin that contains the following repeating units (A), (B) and (C); and a solvent having a boiling temperature of 150° C. or less, (A) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming a carboxylic acid by the action of an acid, and (C) a repeating unit containing a carbon-carbon unsaturated bond.

摘要翻译： 提供了一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，由该组合物形成的抗蚀剂膜和使用其的图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（P）含有以下重复单元（A），（B）和（C）的树脂; 和沸点为150℃以下的溶剂，（A）含有能够在光化射线或辐射照射时能够分解形成酸的基团的重复单元，（B）含有能够具有基团的重复单元 通过酸的作用分解和形成羧酸，和（C）含有碳 - 碳不饱和键的重复单元。

公开(公告)号：US08642245B2

公开(公告)日：2014-02-04

申请号：US13421684

申请日：2012-03-15

申请人： Kana Fujii ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Toru Fujimori ,  Hidenori Takahashi ,  Takayuki Ito

发明人： Kana Fujii ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Toru Fujimori ,  Hidenori Takahashi ,  Takayuki Ito

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/12

摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin that is decomposed when acted on by an acid to thereby increase its solubility in an alkali developer, a compound that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation, and any of basic compounds of general formula (1) below.

摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括当被酸作用时分解的树脂，从而增加其在碱性显影剂中的溶解度，当暴露于光化射线时产生酸的化合物或 辐射和下述通式（1）的任何碱性化合物。

公开(公告)号：US08603727B2

公开(公告)日：2013-12-10

申请号：US13252657

申请日：2011-10-04

申请人： Takeshi Kawabata ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shuji Hirano ,  Hideaki Tsubaki

发明人： Takeshi Kawabata ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shuji Hirano ,  Hideaki Tsubaki

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26

CPC分类号： C08F220/38 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： An active light ray sensitive or radioactive ray sensitive resin composition which satisfies high sensitivity, high resolution, good pattern configuration, and good line edge roughness at the same time to a great extent, while having sufficiently good outgassing performance during exposure, and an active light ray sensitive or radioactive ray sensitive film formed by using the composition, and a pattern-forming method, are provided.The active light ray sensitive or radioactive ray sensitive resin composition according to the present invention includes a resin (P) containing a repeating unit (A) which decomposes by irradiation with active light ray or radioactive ray to generate an acid, and a repeating unit (C) containing a primary or secondary hydroxyl group.

摘要翻译： 一种主动光线敏感或放射线敏感性树脂组合物，同时在很大程度上满足高灵敏度，高分辨率，良好的图案构造和良好的线边缘粗糙度，同时在曝光期间具有足够好的除气性能，以及活性光 提供通过使用该组合物形成的射线敏感或放射线敏感膜和图案形成方法。 根据本发明的活性光线敏感或放射线敏感性树脂组合物包括含有通过用活性光线照射或放射线分解以产生酸的重复单元（A）的树脂（P）和重复单元（ C）含有伯或仲羟基。

公开(公告)号：US09223204B2

公开(公告)日：2015-12-29

申请号：US13669530

申请日：2012-11-06

申请人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

发明人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20

摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a resist film formed with the composition, and a pattern-forming method using the same. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (P) a resin that contains the following repeating units (A), (B) and (C); and a solvent having a boiling temperature of 150° C. or less, (A) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming a carboxylic acid by the action of an acid, and (C) a repeating unit containing a carbon-carbon unsaturated bond.

摘要翻译： 提供了一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，由该组合物形成的抗蚀剂膜和使用其的图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（P）含有以下重复单元（A），（B）和（C）的树脂; 和沸点为150℃以下的溶剂，（A）含有能够在光化射线或辐射照射时能够分解形成酸的基团的重复单元，（B）含有能够具有基团的重复单元 通过酸的作用分解和形成羧酸，和（C）含有碳 - 碳不饱和键的重复单元。