公开(公告)号：US20090202924A1

公开(公告)日：2009-08-13

申请号：US12360929

申请日：2009-01-28

申请人： Hiroki YAMAMOTO ,  Masamitsu Itoh ,  Osamu Ikenaga ,  Shoji Mimotogi ,  Hideki Kanai ,  Yukiyasu Arisawa

发明人： Hiroki YAMAMOTO ,  Masamitsu Itoh ,  Osamu Ikenaga ,  Shoji Mimotogi ,  Hideki Kanai ,  Yukiyasu Arisawa

IPC分类号： G03F1/00 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F1/84

摘要： A method of evaluating a photo mask, includes measuring each dimension of a plurality of pattern portions of a mask pattern formed on a photo mask, obtaining an inter-pattern distance between the pattern portion and a pattern different from the pattern portion with respect to each of the pattern portions, obtaining a dimensional difference between the measured dimension of the pattern portion and a target dimension of the pattern portion with respect to each of the pattern portions, grouping the dimensional difference obtained for each pattern portion into a plurality of groups in accordance with the inter-pattern distance obtained for each pattern portion, obtaining an evaluation value based on the dimensional difference in each group with respect to each of the groups, and evaluating the photo mask based on the evaluation value.

摘要翻译： 一种评估光掩模的方法，包括测量形成在光掩模上的掩模图案的多个图案部分的每个尺寸，获得图案部分与不同于图案部分的图案之间的图案间距离 获得图形部分的测量尺寸与图案部分相对于每个图案部分的目标尺寸之间的尺寸差，将根据每个图案部分获得的尺寸差分成多组 对于每个图案部分获得的图案间距离，基于每个组中的每个组的尺寸差获得评估值，并且基于评估值来评估光罩。

公开(公告)号：US07912275B2

公开(公告)日：2011-03-22

申请号：US12360929

申请日：2009-01-28

申请人： Hiroki Yamamoto ,  Masamitsu Itoh ,  Osamu Ikenaga ,  Shoji Mimotogi ,  Hideki Kanai ,  Yukiyasu Arisawa

发明人： Hiroki Yamamoto ,  Masamitsu Itoh ,  Osamu Ikenaga ,  Shoji Mimotogi ,  Hideki Kanai ,  Yukiyasu Arisawa

IPC分类号： G06K9/00 ,  G03F1/00

CPC分类号： G03F1/84

摘要： A method of evaluating a photo mask, includes measuring each dimension of a plurality of pattern portions of a mask pattern formed on a photo mask, obtaining an inter-pattern distance between the pattern portion and a pattern different from the pattern portion with respect to each of the pattern portions, obtaining a dimensional difference between the measured dimension of the pattern portion and a target dimension of the pattern portion with respect to each of the pattern portions, grouping the dimensional difference obtained for each pattern portion into a plurality of groups in accordance with the inter-pattern distance obtained for each pattern portion, obtaining an evaluation value based on the dimensional difference in each group with respect to each of the groups, and evaluating the photo mask based on the evaluation value.

摘要翻译： 一种评估光掩模的方法，包括测量形成在光掩模上的掩模图案的多个图案部分的每个尺寸，获得图案部分与不同于图案部分的图案之间的图案间距离 获得图形部分的测量尺寸与图案部分相对于每个图案部分的目标尺寸之间的尺寸差，将根据每个图案部分获得的尺寸差分成多组 对于每个图案部分获得的图案间距离，基于每个组中的每个组的尺寸差获得评估值，并且基于评估值来评估光罩。

公开(公告)号：US06649310B2

公开(公告)日：2003-11-18

申请号：US09940578

申请日：2001-08-29

申请人： Masamitsu Itoh ,  Shigeki Nojima ,  Shoji Mimotogi ,  Osamu Ikenaga

发明人： Masamitsu Itoh ,  Shigeki Nojima ,  Shoji Mimotogi ,  Osamu Ikenaga

IPC分类号： G03F900

CPC分类号： G03F1/32 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70625

摘要： A method of manufacturing a photomask includes determining an average value of dimensions of a pattern in a photomask. determining an in-plane uniformity of the dimensions, determining an exposure latitude on the basis of the average value and the in-plane uniformity. The exposure latitude depends on dimensional accuracy of the pattern. Judging if the photomask is defective or non-defective is made on the basis of whether or not the exposure latitude falls within a prescribed exposure latitude

摘要翻译： 制造光掩模的方法包括确定光掩模中图案的尺寸的平均值。 确定尺寸的面内均匀性，基于平均值和平面内均匀性确定曝光宽容度。 曝光宽容度取决于图案的尺寸精度。 根据曝光宽容度是否落在规定的曝光宽容范围内，判断光掩模是否有缺陷或无缺陷

公开(公告)号：US20060190875A1

公开(公告)日：2006-08-24

申请号：US11325515

申请日：2006-01-05

申请人： Yukiyasu Arisawa ,  Osamu Ikenaga ,  Shigeki Nojima ,  Shigeru Hasebe

发明人： Yukiyasu Arisawa ,  Osamu Ikenaga ,  Shigeki Nojima ,  Shigeru Hasebe

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F7/7065 ,  G03F1/36 ,  G03F1/68 ,  G03F1/84

摘要： A pattern extracting system includes a sampler configured to sample test candidate patterns from a circuit pattern, based on a lithographic process tolerance, a space classification module configured to classify the test candidate patterns into space distance groups depending on a space distance to an adjacent pattern, a density classification module configured to classify the test candidate patterns into pattern density groups depending on a surrounding pattern density, and an assessment module configured to assess actual measurements of dimensional errors of the test candidate patterns classified into the space distance groups and the pattern density groups.

摘要翻译： 模式提取系统包括：取样器，被配置为基于光刻处理容限从电路图案中取样测试候选图案;空间分类模块，被配置为根据与相邻图案的空间距离将测试候选图案分类为空间距离组; 密度分类模块，其被配置为根据周围图案密度将测试候选图案分类为图案密度组;以及评估模块，其被配置为评估分类为空间距离组和图案密度组的测试候选模式的尺寸误差的实际测量值 。

公开(公告)号：US07229721B2

公开(公告)日：2007-06-12

申请号：US10705954

申请日：2003-11-13

申请人： Shoji Mimotogi ,  Shigeki Nojima ,  Osamu Ikenaga

发明人： Shoji Mimotogi ,  Shigeki Nojima ,  Osamu Ikenaga

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： G03F7/70625 ,  G03F1/44 ,  G03F1/68 ,  G03F1/78 ,  G03F7/705

摘要： A method for evaluating a photo mask comprises preparing a photo mask including a unit drawing pattern, finding a dimensional variation relating to the photo mask, the dimensional variation including first and second dimensional variations, the first dimensional variation occurring due to a positional displacement and size mismatch of the unit drawing pattern in the photo mask and the second dimensional variation occurring due to etching and development relating to a manufacturing of the photo mask, estimating a deteriorated amount of an exposure latitude occurring due to the dimensional variation of the photo mask using the dimensional variation and a degree of influence of the dimensional variation for the exposure latitude, and judging quality of the photo mask by comparing the deteriorated amount of the exposure latitude and an allowable deteriorated amount of the exposure latitude.

摘要翻译： 一种用于评估光掩模的方法包括制备包括单元绘图图案的光掩模，找到与光掩模相关的尺寸变化，包括第一和第二尺寸变化的尺寸变化，由于位置偏移和尺寸而发生的第一尺寸变化 光掩模中的单位绘图图案的不匹配以及由于与光掩模的制造相关的蚀刻和显影而发生的第二尺寸变化，估计由于光掩膜的尺寸变化而产生的曝光宽容度的恶化量， 通过比较曝光宽容度的劣化量和曝光宽容度的允许恶化量来判断曝光宽容度的尺寸变化和影响程度，以及判断光掩模的质量。

公开(公告)号：US07090949B2

公开(公告)日：2006-08-15

申请号：US10724738

申请日：2003-12-02

申请人： Shigeki Nojima ,  Shoji Mimotogi ,  Satoshi Tanaka ,  Toshiya Kotani ,  Shigeru Hasebe ,  Koji Hashimoto ,  Soichi Inoue ,  Osamu Ikenaga

发明人： Shigeki Nojima ,  Shoji Mimotogi ,  Satoshi Tanaka ,  Toshiya Kotani ,  Shigeru Hasebe ,  Koji Hashimoto ,  Soichi Inoue ,  Osamu Ikenaga

IPC分类号： G01F9/00

CPC分类号： G03F1/36 ,  G03F1/68

摘要： Disclosed is a method of manufacturing a photo mask comprising preparing mask data for a mask pattern to be formed on a mask substrate, calculating edge moving sensitivity with respect to each of patterns included in the mask pattern using the mask data, the edge moving sensitivity corresponding to a difference between a proper exposure dose and an exposure dose to be set when a pattern edge varies, determining a monitor portion of the mask pattern, based on the calculated edge moving sensitivity, actually forming the mask pattern on the mask substrate, acquiring a dimension of a pattern included in that portion of the mask pattern formed on the mask substrate which corresponds to the monitor portion, determining evaluation value for the mask pattern formed on the mask substrate, based on the acquired dimension, and determining whether the evaluation value satisfies predetermined conditions.

摘要翻译： 公开了一种制造光掩模的方法，其包括：对掩模基板上形成的掩模图案准备掩模数据，使用掩模数据计算相对于包含在掩模图案中的每个图案的边缘移动灵敏度，边缘移动灵敏度对应 对于在图案边缘变化时要设置的适当曝光剂量和曝光剂量之间的差异，基于计算出的边缘移动灵敏度确定掩模图案的监视部分，实际在掩模基板上形成掩模图案，获取 基于所获取的尺寸，确定在掩模基板上形成的掩模图案的评估值，并且确定评估值是否满足的掩模图案的形成在掩模基板上的对应于监视部分的掩模图案的部分中的图案的尺寸 预定条件。

公开(公告)号：US20080232671A1

公开(公告)日：2008-09-25

申请号：US12052066

申请日：2008-03-20

申请人： Mitsuyo ASANO ,  Shinji Yamaguchi ,  Satoshi Tanaka ,  Soichi Inoue ,  Masamitsu Itoh ,  Osamu Ikenaga

发明人： Mitsuyo ASANO ,  Shinji Yamaguchi ,  Satoshi Tanaka ,  Soichi Inoue ,  Masamitsu Itoh ,  Osamu Ikenaga

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G06T7/001 ,  G03F1/86 ,  G06T2207/10056 ,  G06T2207/30148

摘要： A mask pattern verifying method include obtaining first information about a hot spot from design data of a mask pattern, obtaining second information about the mask pattern actually formed on a photo mask, and determining a measuring spot of the mask pattern actually formed on the photo mask, based on the first and second information.

摘要翻译： 掩模图案验证方法包括从掩模图案的设计数据获得关于热点的第一信息，获得关于实际形成在光掩模上的掩模图案的第二信息，以及确定实际形成在光掩模上的掩模图案的测量点 基于第一和第二信息。

公开(公告)号：US08121387B2

公开(公告)日：2012-02-21

申请号：US12052066

申请日：2008-03-20

申请人： Mitsuyo Asano ,  Shinji Yamaguchi ,  Satoshi Tanaka ,  Soichi Inoue ,  Masamitsu Itoh ,  Osamu Ikenaga

发明人： Mitsuyo Asano ,  Shinji Yamaguchi ,  Satoshi Tanaka ,  Soichi Inoue ,  Masamitsu Itoh ,  Osamu Ikenaga

IPC分类号： G06Q10/00

CPC分类号： G06T7/001 ,  G03F1/86 ,  G06T2207/10056 ,  G06T2207/30148

摘要： A mask pattern verifying method include obtaining first information about a hot spot from design data of a mask pattern, obtaining second information about the mask pattern actually formed on a photo mask, and determining a measuring spot of the mask pattern actually formed on the photo mask, based on the first and second information.

摘要翻译： 掩模图案验证方法包括从掩模图案的设计数据获得关于热点的第一信息，获得关于实际形成在光掩模上的掩模图案的第二信息，以及确定实际形成在光掩模上的掩模图案的测量点 基于第一和第二信息。

公开(公告)号：US07742162B2

公开(公告)日：2010-06-22

申请号：US12187868

申请日：2008-08-07

申请人： Tomohiro Tsutsui ,  Ryoji Yoshikawa ,  Osamu Ikenaga

发明人： Tomohiro Tsutsui ,  Ryoji Yoshikawa ,  Osamu Ikenaga

IPC分类号： G01N21/00

CPC分类号： G01N21/95607 ,  G01N2021/8887 ,  G01N2021/95676

摘要： According to a mask defect inspection data generating method, a distance between inspection areas neighboring in a predetermined direction is calculated based on inspection area control information defined in photomask inspection data. It is determined whether or not the calculated distance between inspection areas is less than a predetermined distance. When it is determined that the distance between inspection areas is less than a predetermined distance, the inspection area is combined to produce an optimization inspection area. The produced optimization inspection area information is defined in inspection layout data for making a reference in die-to-database defect inspection.

摘要翻译： 根据掩模缺陷检查数据生成方法，基于光掩模检查数据中定义的检查区域控制信息来计算在预定方向上相邻的检查区域之间的距离。 确定所计算的检查区域之间的距离是否小于预定距离。 当确定检查区域之间的距离小于预定距离时，组合检查区域以产生优化检查区域。 生成的优化检查区域信息在检查布局数据中定义，用于在数据库到数据库缺陷检查中进行参考。

公开(公告)号：US20120049396A1

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：US13217698

申请日：2011-08-25

申请人： Tomohiro Tsutsui ,  Osamu Ikenaga ,  Ryoichi Inanami

发明人： Tomohiro Tsutsui ,  Osamu Ikenaga ,  Ryoichi Inanami

IPC分类号： B29C59/02

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： According to one embodiment, a pattern forming method includes transferring a first pattern area of a plurality of pattern areas to a to-be-processed substrate, by using a template on which the plurality of pattern areas, where patterns are formed on a substrate, are disposed, counting up a number of times of transfer of the first pattern area, and storing the number of times of transfer, determining whether the stored number of times of transfer of the pattern of the first pattern area has exceeded a specified number, and executing switching to a second pattern of the plurality of pattern areas when it is determined, at a time of the determining, that the stored number of times of transfer of the pattern of the first pattern area has exceeded the specified number, and transferring the second pattern area to the to-be-processed substrate.

摘要翻译： 根据一个实施例，图案形成方法包括通过使用其上在基板上形成图案的多个图案区域的模板将多个图案区域的第一图案区域转印到待处理基板， 对第一图案区域的传送次数进行计数，并存储传送次数，确定存储的第一图案区域的图案的传送次数是否超过规定数量;以及 当确定时确定存储的第一图案区域的图案的传送次数已经超过指定的数量，并且将第二图案区域的第二图案转移到第二图案区域的第二图案 图案区域到待处理的基板。