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    Method of megasonic cleaning of an object
    1.
    发明授权
    Method of megasonic cleaning of an object 有权
    超声波清洗方法

    公开(公告)号：US09370805B2

    公开(公告)日：2016-06-21

    申请号：US13618521

    申请日：2012-09-14

    申请人： Jae-Hyuck Choi ,  Won-Jung Kim ,  Ho-Young Kim ,  Hyung-Ho Ko ,  Jong-Keun Oh ,  Chan-Uk Jeon ,  Keun-Hwan Park

    发明人： Jae-Hyuck Choi ,  Won-Jung Kim ,  Ho-Young Kim ,  Hyung-Ho Ko ,  Jong-Keun Oh ,  Chan-Uk Jeon ,  Keun-Hwan Park

    IPC分类号： B08B3/12 ,  G03F1/82 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67

    CPC分类号： B08B3/12 ,  G03F1/82 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67057

    摘要： A megasonic cleaning method and a megasonic cleaning apparatus are provided. Microcavitation bubbles may be formed by applying an electromotive force to a cleaning solution using a megasonic energy in a separate room from an object to be cleaned. The microcavitation bubbles having a stable oscillation among the formed microcavitation bubbles may be moved to the object to be cleaned. A surface of the object to be cleaned may be cleaned using the microcavitation bubbles having the stable oscillation. Particles attached onto the surface of the object to be cleaned may be effectively removed while preventing pattern damage.

    摘要翻译： 提供了一种兆声波清洗方法和一种超声波清洗装置。 微气泡可以通过使用超声波能量在与要清洁的物体分离的房间中的清洁溶液施加电动势来形成。 在形成的微气泡之间具有稳定振荡的微气泡可以移动到要清洁的物体。 可以使用具有稳定振荡的微气泡来清洁待清洁物体的表面。 可以有效地除去附着在待清洁物体表面上的颗粒，同时防止图案损坏。

    Method of megasonic cleaning of an object
    2.
    发明授权
    Method of megasonic cleaning of an object 有权
    超声波清洗方法

    公开(公告)号：US08293020B2

    公开(公告)日：2012-10-23

    申请号：US12907642

    申请日：2010-10-19

    申请人： Jae-Hyuck Choi ,  Won-Jung Kim ,  Ho-Young Kim ,  Hyung-Ho Ko ,  Jong-Keun Oh ,  Chan-Uk Jeon ,  Keun-Hwan Park

    发明人： Jae-Hyuck Choi ,  Won-Jung Kim ,  Ho-Young Kim ,  Hyung-Ho Ko ,  Jong-Keun Oh ,  Chan-Uk Jeon ,  Keun-Hwan Park

    IPC分类号： B08B3/12

    CPC分类号： B08B3/12 ,  G03F1/82 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67057

    摘要： A megasonic cleaning method and a megasonic cleaning apparatus are provided. Microcavitation bubbles may be formed by applying an electromotive force to a cleaning solution using a megasonic energy in a separate room from an object to be cleaned. The microcavitation bubbles having a stable oscillation among the formed microcavitation bubbles may be moved to the object to be cleaned. A surface of the object to be cleaned may be cleaned using the microcavitation bubbles having the stable oscillation. Particles attached onto the surface of the object to be cleaned may be effectively removed while preventing pattern damage.

    摘要翻译： 提供了一种兆声波清洗方法和一种超声波清洗装置。 微气泡可以通过使用超声波能量在与要清洁的物体分离的房间中的清洁溶液施加电动势来形成。 在形成的微气泡之间具有稳定振荡的微气泡可以移动到要清洁的物体。 可以使用具有稳定振荡的微气泡来清洁待清洁物体的表面。 可以有效地除去附着在待清洁物体表面上的颗粒，同时防止图案损坏。

    METHOD OF MEGASONIC CLEANING OF AN OBJECT
    3.
    发明申请
    METHOD OF MEGASONIC CLEANING OF AN OBJECT 有权
    物体清洗方法

    公开(公告)号：US20130008476A1

    公开(公告)日：2013-01-10

    申请号：US13618521

    申请日：2012-09-14

    申请人： Jae-Hyuck CHOI ,  Won-Jung Kim ,  Ho-Young Kim ,  Hyung-Ho Ko ,  Jong-Keun Oh ,  Chan-Uk Jeon ,  Keun-Hwan Park

    发明人： Jae-Hyuck CHOI ,  Won-Jung Kim ,  Ho-Young Kim ,  Hyung-Ho Ko ,  Jong-Keun Oh ,  Chan-Uk Jeon ,  Keun-Hwan Park

    IPC分类号： B08B3/12

    CPC分类号： B08B3/12 ,  G03F1/82 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67057

    摘要： A megasonic cleaning method and a megasonic cleaning apparatus are provided. Microcavitation bubbles may be formed by applying an electromotive force to a cleaning solution using a megasonic energy in a separate room from an object to be cleaned. The microcavitation bubbles having a stable oscillation among the formed microcavitation bubbles may be moved to the object to be cleaned. A surface of the object to be cleaned may be cleaned using the microcavitation bubbles having the stable oscillation. Particles attached onto the surface of the object to be cleaned may be effectively removed while preventing pattern damage.

    摘要翻译： 提供了一种兆声波清洗方法和一种超声波清洗装置。 微气泡可以通过使用超声波能量在与要清洁的物体分离的房间中的清洁溶液施加电动势来形成。 在形成的微气泡之间具有稳定振荡的微气泡可以移动到要清洁的物体。 可以使用具有稳定振荡的微气泡来清洁待清洁物体的表面。 可以有效地除去附着在待清洁物体表面上的颗粒，同时防止图案损坏。

    METHOD OF MEGASONIC CLEANING OF AN OBJECT
    4.
    发明申请
    METHOD OF MEGASONIC CLEANING OF AN OBJECT 有权
    物体清洗方法

    公开(公告)号：US20110297182A1

    公开(公告)日：2011-12-08

    申请号：US12907642

    申请日：2010-10-19

    申请人： Jae-Hyuck Choi ,  Won-Jung Kim ,  Ho-Young Kim ,  Hyung-Ho Ko ,  Jong-Keun Oh ,  Chan-Uk Jeon ,  Keun-Hwan Park

    发明人： Jae-Hyuck Choi ,  Won-Jung Kim ,  Ho-Young Kim ,  Hyung-Ho Ko ,  Jong-Keun Oh ,  Chan-Uk Jeon ,  Keun-Hwan Park

    IPC分类号： B08B3/12

    CPC分类号： B08B3/12 ,  G03F1/82 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67057

    摘要： A megasonic cleaning method and a megasonic cleaning apparatus are provided. Microcavitation bubbles may be formed by applying an electromotive force to a cleaning solution using a megasonic energy in a separate room from an object to be cleaned. The microcavitation bubbles having a stable oscillation among the formed microcavitation bubbles may be moved to the object to be cleaned. A surface of the object to be cleaned may be cleaned using the microcavitation bubbles having the stable oscillation. Particles attached onto the surface of the object to be cleaned may be effectively removed while preventing pattern damage.

    摘要翻译： 提供了一种兆声波清洗方法和一种超声波清洗装置。 微气泡可以通过使用超声波能量在与要清洁的物体分离的房间中的清洁溶液施加电动势来形成。 在形成的微气泡之间具有稳定振荡的微气泡可以移动到要清洁的物体。 可以使用具有稳定振荡的微气泡来清洁待清洁物体的表面。 可以有效地除去附着在待清洁物体表面上的颗粒，同时防止图案损坏。

    Method of cleaning semiconductor substrate
    8.
    发明授权
    Method of cleaning semiconductor substrate 失效
    半导体衬底的清洗方法

    公开(公告)号：US07318870B2

    公开(公告)日：2008-01-15

    申请号：US10421740

    申请日：2003-04-24

    申请人： Dong-Gyun Han ,  Hyung-Ho Ko ,  Young-Jun Kim ,  Ki-Jong Park

    发明人： Dong-Gyun Han ,  Hyung-Ho Ko ,  Young-Jun Kim ,  Ki-Jong Park

    IPC分类号： B08B7/00

    CPC分类号： H01L21/02065 ,  B08B7/00

    摘要： A cleaning method for a semiconductor substrate including placing the semiconductor substrate into a cleaning chamber and injecting ozone gas (O3) into the cleaning chamber. This process operates to cleanse the semiconductor substrate without corrosion or etching of the semiconductor substrate; even when the substrate has metal layer made of tungsten.

    摘要翻译： 一种用于半导体衬底的清洁方法，包括将半导体衬底放置在清洁室中并将臭氧气体（O 3 3）注入到清洁室中。 该过程用于清洁半导体衬底而不会腐蚀或蚀刻半导体衬底; 即使当基板具有由钨制成的金属层时。

    Methods for cleaning a semiconductor substrate having a recess channel region
    9.
    发明申请
    Methods for cleaning a semiconductor substrate having a recess channel region 失效
    用于清洁具有凹槽通道区域的半导体衬底的方法

    公开(公告)号：US20060030117A1

    公开(公告)日：2006-02-09

    申请号：US11194794

    申请日：2005-08-01

    申请人： Hyung-Ho Ko ,  Chang-Ki Hong ,  Sang-Jun Choi ,  Dong-Gyun Han

    发明人： Hyung-Ho Ko ,  Chang-Ki Hong ,  Sang-Jun Choi ,  Dong-Gyun Han

    IPC分类号： H01L21/76 ,  H01L21/302

    CPC分类号： H01L21/30604 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/76224 ,  H01L21/823412 ,  H01L21/823481 ,  Y10S438/906

    摘要： A method for cleaning a semiconductor substrate forming device isolation layers in a predetermined region of a semiconductor substrate to define active regions; etching predetermined areas of the active regions to form a recess channel region and such that sidewalls of the device isolation layers are exposed; and selectively etching a surface of the recess channel region using a predetermined cleaning solution to clean the semiconductor substrate where the recess channel region has been formed.

    摘要翻译： 一种用于清洁在半导体衬底的预定区域中形成器件隔离层的半导体衬底以限定有源区域的方法; 蚀刻有源区域的预定区域以形成凹陷沟道区域，并且使得器件隔离层的侧壁被暴露; 并且使用预定的清洗溶液选择性地蚀刻凹槽通道区域的表面，以清洁已经形成凹槽通道区域的半导体衬底。