公开(公告)号：US06882509B2

公开(公告)日：2005-04-19

申请号：US10791021

申请日：2004-03-02

申请人： Jei-Wei Chang ,  Bernard Dieny ,  Mao-Min Chen ,  Cheng T. Horng ,  Kochan Ju ,  Simon Liao

发明人： Jei-Wei Chang ,  Bernard Dieny ,  Mao-Min Chen ,  Cheng T. Horng ,  Kochan Ju ,  Simon Liao

IPC分类号： G01R33/09 ,  G11B5/31 ,  G11B5/39 ,  H01F10/00 ,  H01F10/06 ,  H01F10/12 ,  H01F10/14 ,  H01F10/16 ,  H01F10/18 ,  H01F10/30 ,  H01F10/32 ,  H01F41/30 ,  H01L43/08 ,  H01L43/12 ,  G11B5/33 ,  G11B5/127

CPC分类号： H01F10/30 ,  B82Y10/00 ,  B82Y25/00 ,  G01R33/093 ,  G11B5/3133 ,  G11B5/3903 ,  G11B5/3909 ,  H01F10/3272 ,  H01L43/08 ,  Y10T428/1121 ,  Y10T428/1129 ,  Y10T428/1157 ,  Y10T428/1171 ,  Y10T428/12944 ,  Y10T428/2495

摘要： Disclosed is a method of making a SVGMR sensor element. In the first embodiment a buffer layer is formed between a seed layer and a ferromagnetic (FM) free layer, the buffer layer being composed of alpha-Fe2O3 having a crystal lattice constant that is close to the FM free layer's crystal constant and has the same crystal structure. The metal oxide buffer layer enhances the specular scattering. In the second embodiment, a high conductivity layer (HCL) is formed over the buffer layer to create a spin filter-SVGMR. The HCL layer enhances the GMR ratio of the spin filter SVGMR. The third embodiment include a pinned FM layer comprising a three layer structure of a lower AP layer, a space layer (e.g., Ru) and an upper AP layer.

摘要翻译： 公开了一种制造SVGMR传感器元件的方法。 在第一实施例中，在种子层和不含铁磁性（FM）的层之间形成缓冲层，该缓冲层由α-Fe 2 O 3 3 N 3 晶格常数接近于FM自由层的晶体常数，具有相同的晶体结构。 金属氧化物缓冲层增强了镜面散射。 在第二实施例中，在缓冲层上形成高电导率层（HCL）以产生自旋滤波器-GVGMR。 HCL层增强了旋转过滤器SVGMR的GMR比。 第三实施例包括包括下AP层的三层结构，空间层（例如Ru）和上AP层的钉扎FM层。

公开(公告)号：US06770382B1

公开(公告)日：2004-08-03

申请号：US09443447

申请日：1999-11-22

申请人： Jei-Wei Chang ,  Bernard Dieny ,  Mao-Min Chen ,  Cheng Horng ,  Kochan Ju ,  Simon Liao

发明人： Jei-Wei Chang ,  Bernard Dieny ,  Mao-Min Chen ,  Cheng Horng ,  Kochan Ju ,  Simon Liao

IPC分类号： G11B5127

CPC分类号： H01F10/30 ,  B82Y10/00 ,  B82Y25/00 ,  G01R33/093 ,  G11B5/3133 ,  G11B5/3903 ,  G11B5/3909 ,  H01F10/3272 ,  H01L43/08 ,  Y10T428/1121 ,  Y10T428/1129 ,  Y10T428/1157 ,  Y10T428/1171 ,  Y10T428/12944 ,  Y10T428/2495

摘要： A Spin Valve GMR and Spin Filter SVGMR configuration where in the first embodiment an important buffer layer is composed of an metal oxide having a crystal lattice constant that is close the 1st FM free layer's crystal lattice constant and has the same crystal structure (e.g., FCC, BCC, etc.). The metal oxide buffer layer enhances the specular scattering. The spin valve giant magnetoresistance (SVGMR) sensor comprises: a seed layer over the substrate. An important metal oxide buffer layer (buffer layer) over the seed layer. The metal oxide layer preferably is comprised of NiO or alpha-Fe2O3. A free ferromagnetic layer over the metal oxide layer. A non-magnetic conductor spacer layer over the free ferromagnetic layer. A pinned ferromagnetic layer (2nd FM pinned) over the non-magnetic conductor spacer layer and a pinning material layer over the pinned ferromagnetic layer. In the second embodiment, a high conductivity layer (HCL) is formed over the buffer layer to create a spin filter -SVGMR. The HCL layer enhances the GMR ratio of the spin filter SVGMR. The third embodiment is a pinned FM layer comprised of a three layer structure of an lower AP layer, a spacer layer (e.g., Ru) and an upper AP layer.

摘要翻译： 自旋阀GMR和自旋滤波器SVGMR配置，其中在第一实施例中，重要的缓冲层由具有接近第1个FM自由层的晶格常数的晶格常数的金属氧化物组成并且具有相同的晶体结构 例如FCC，BCC等）。 金属氧化物缓冲层增强了镜面散射。 自旋阀巨磁阻（SVGMR）传感器包括：衬底上的种子层。 种子层上重要的金属氧化物缓冲层（缓冲层）。 金属氧化物层优选由NiO或α-Fe2O3组成。 在金属氧化物层上的自由铁磁层。 在自由铁磁层上的非磁性导体间隔层。 在非磁性导体间隔层上方的钉扎铁磁层（第二个FM被钉住）和钉扎铁磁层上的钉扎材料层。 在第二实施例中，在缓冲层上形成高电导率层（HCL）以产生自旋滤波器-SVGMR。 HCL层增强了旋转过滤器SVGMR的GMR比。 第三实施例是由下AP层，间隔层（例如Ru）和上AP层组成的三层结构的钉扎FM层。

公开(公告)号：US06292336B1

公开(公告)日：2001-09-18

申请号：US09408703

申请日：1999-09-30

申请人： Cheng T. Horng ,  Ru-Ying Tong ,  Kochan Ju ,  Mao-Min Chen ,  Jei-Wei Chang ,  Simon H. Liao

发明人： Cheng T. Horng ,  Ru-Ying Tong ,  Kochan Ju ,  Mao-Min Chen ,  Jei-Wei Chang ,  Simon H. Liao

IPC分类号： G11B5127

CPC分类号： B82Y25/00 ,  B82Y10/00 ,  G01R33/093 ,  G11B5/3903 ,  G11B5/3967 ,  G11B2005/3996 ,  H01F10/3268

摘要： A method for forming a giant magnetoresistive (GMR) sensor element, and a giant magnetoresistive (GMR) sensor element formed in accord with the method. In accord with the method, there is first provided a substrate. There is then formed over the substrate a seed layer formed of a magnetoresistive (MR) resistivity sensitivity enhancing material selected from the group consisting or nickel-chromium alloys and nickel-iron-chromium alloys. There is then formed over the seed layer a nickel oxide material layer. Finally, there is then formed over the nickel oxide material layer a free ferromagnetic layer separated from a pinned ferromagnetic layer in turn formed thereover by a non-magnetic conductor spacer layer, where the pinned ferromagnetic layer in turn has a pinning material layer formed thereover. The method contemplates a giant magnetoresistive (GMR) sensor element formed in accord with the method. The nickel oxide material layer provides the giant magnetoresistive (GMR) sensor element with an enhanced magnetoresistive (MR) resistivity sensitivity.

摘要翻译： 一种用于形成巨磁阻（GMR）传感器元件的方法，以及根据该方法形成的巨磁阻（GMR）传感元件。 根据该方法，首先提供基板。 然后在衬底上形成由选自镍铬合金和镍 - 铁 - 铬合金的磁阻（MR）电阻率敏感度增强材料形成的晶种层。 然后在种子层上形成氧化镍材料层。 最后，然后在氧化镍材料层上形成与被钉扎的铁磁性层分离的自由铁磁层，然后由非磁性导体间隔层形成，其中钉扎的铁磁层又形成有钉扎材料层。 该方法考虑了根据该方法形成的巨磁阻（GMR）传感器元件。 氧化镍材料层提供具有增强的磁阻（MR）电阻率敏感性的巨磁阻（GMR）传感器元件。

公开(公告)号：US06204071B1

公开(公告)日：2001-03-20

申请号：US09408491

申请日：1999-09-30

申请人： Kochan Ju ,  Mao-Min Chen ,  Cheng T. Horng ,  Jei-Wei Chang

发明人： Kochan Ju ,  Mao-Min Chen ,  Cheng T. Horng ,  Jei-Wei Chang

IPC分类号： H01L2100

CPC分类号： B82Y25/00 ,  B82Y10/00 ,  G11B5/3163 ,  G11B5/3903 ,  G11B5/3932 ,  G11B5/3948 ,  G11B2005/3996

摘要： A method for forming a longitudinally magnetically biased dual stripe magnetoresistive (DSMR) sensor element comprises forming a first patterned magnetoresistive (MR) layer. Contact the opposite ends of the patterned magnetoresistive (MR) layer with a first pair of stacks defining a track width of the first magnetoresistive (MR) layer, each of the stacks including a first Anti-Ferro-Magnetic (AFM) layer and a first lead layer. Then anneal the device in the presence of a longitudinal external magnetic field. Next, form a second patterned magnetoresistive (MR) layer above the previous structure. Contact the opposite ends of the second patterned magnetoresistive (MR) layer with a second pair of stacks defining a second track width of the second patterned magnetoresistive (MR) layer. Each of the second pair of stacks includes spacer layer composed of a metal, a Ferro-Magnetic (FM) layer, a second Anti-Ferro-Magnetic (AFM) layer and a second lead layer. Then anneal the device in the presence of a second longitudinal external magnetic field.

摘要翻译： 用于形成纵向磁偏置双条磁阻（DSMR）传感器元件的方法包括形成第一图案化磁阻（MR）层。 用限定第一磁阻（MR）层的轨道宽度的第一对叠层接触图案化磁阻（MR）层的相对端，每个堆叠包括第一抗铁磁（AFM）层和第一 铅层。 然后在存在纵向外部磁场的情况下退火该器件。 接下来，在先前的结构之上形成第二图案化磁阻（MR）层。 用限定第二图案化磁阻（MR）层的第二磁道宽度的第二对叠层接触第二图案化磁阻（MR）层的相对端。 第二对堆叠中的每一个包括由金属，铁磁（FM）层，第二抗铁磁（AFM）层和第二引线层组成的间隔层。 然后在存在第二纵向外部磁场的情况下退火该器件。

公开(公告)号：US06430015B2

公开(公告)日：2002-08-06

申请号：US09773743

申请日：2001-02-02

申请人： Kochan Ju ,  Mao-Min Chen ,  Cheng T. Horng ,  Jei-Wei Chang

发明人： Kochan Ju ,  Mao-Min Chen ,  Cheng T. Horng ,  Jei-Wei Chang

IPC分类号： G11B539

CPC分类号： B82Y25/00 ,  B82Y10/00 ,  G11B5/3163 ,  G11B5/3903 ,  G11B5/3932 ,  G11B5/3948 ,  G11B2005/3996

摘要： A longitudinally magnetically biased dual stripe magnetoresistive (DSMR) sensor element comprises a first patterned magnetoresistive (MR) layer. There are contacts at the opposite ends of the patterned magnetoresistive (MR) layer with a first pair of stacks defining a track width of the first magnetoresistive (MR) layer with a first pair of stacks defining a track width of the first magnetoresistive (MR) layer, each of the stacks including a first Anti-Ferro-Magnetic (AFM) layer and a first lead layer. With the first MR layer in place the device was annealed in the presence of a longitudinal external magnetic field. A second patterned magnetoresistive (MR) layer was formed above the previous structure. There are contacts at the opposite ends of the second patterned magnetoresistive (MR) layer with a second pair of stacks defining a second track width of the second patterned magnetoresistive (MR) layer. Each of the second pair of stacks includes spacer layer is composed of a metal, a Ferro-Magnetic (FM) layer, a second Anti-Ferro-Magnetic (AFM) layer and a second lead layer. With the second MR layer in place, the device was annealed in the presence of a second longitudinal external magnetic field.

摘要翻译： 纵向磁偏置双条磁阻（DSMR）传感器元件包括第一图案化磁阻（MR）层。 在图案化磁阻（MR）层的相对端处存在触点，第一对叠层限定第一磁阻（MR）层的轨道宽度，第一对堆叠限定第一磁阻（MR）的磁道宽度， 层，每个堆叠包括第一抗铁磁（AFM）层和第一引线层。 在第一MR层就位的情况下，器件在存在纵向外部磁场的情况下退火。 在先前结构之上形成第二图案化磁阻（MR）层。 在第二图案化磁阻（MR）层的相对端具有限定第二图案化磁阻（MR）层的第二磁道宽度的第二对叠层的触点。 第二对堆叠中的每一个包括间隔层由金属，铁磁（FM）层，第二抗铁磁（AFM）层和第二引线层组成。 在第二MR层就位的情况下，器件在第二纵向外部磁场的存在下退火。

公开(公告)号：US06228276B1

公开(公告)日：2001-05-08

申请号：US09244882

申请日：1999-02-05

申请人： Kochan Ju ,  Jei-Wei Chang ,  Cheng T. Horng

发明人： Kochan Ju ,  Jei-Wei Chang ,  Cheng T. Horng

IPC分类号： G11B5127

CPC分类号： B82Y25/00 ,  B82Y10/00 ,  G01R33/09 ,  G11B5/3163 ,  G11B5/3903 ,  G11B5/3967 ,  G11B2005/3996

摘要： A method for forming a magnetoresistive (MR) sensor element. There is first provided a substrate. There is then formed over the substrate a seed layer. There is then formed contacting a pair of opposite ends of the seed layer a pair of patterned conductor lead layer structures. There is then etched, while employing an ion etch method, the seed layer and the pair of patterned conductor lead layer structures to form an ion etched seed layer and a pair of ion etched patterned conductor lead layer structures. Finally, there is then formed upon the ion etched seed layer and the pair of ion etched patterned conductor lead layers structures a magnetoresistive (MR) layered structure. Within the magnetoresistive (MR) sensor element, the pair of patterned conductor lead layer structures may be formed within a pair of recesses within an ion etch recessed dielectric isolation layer.

摘要翻译： 一种用于形成磁阻（MR）传感器元件的方法。 首先提供基板。 然后在衬底上形成种子层。 然后形成一对图案化的导体引线层结构使种子层的一对相对端接触。 然后蚀刻，同时采用离子蚀刻方法，种子层和一对图案化的导体引线层结构，以形成离子蚀刻种子层和一对离子蚀刻图案化导体引线层结构。 最后，然后形成在离子蚀刻种子层上，并且一对离子蚀刻图案化的导体引线层构成磁阻（MR）层状结构。 在磁阻（MR）传感器元件内，一对图案化的导体引线层结构可以形成在离子蚀刻凹陷的介电隔离层内的一对凹槽内。

公开(公告)号：US06287476B1

公开(公告)日：2001-09-11

申请号：US09332429

申请日：1999-06-14

申请人： Kochan Ju ,  Shou-Chen Kao ,  Cherng-Chyi Han ,  Jei-Wei Chang ,  Mao-Min Chen

发明人： Kochan Ju ,  Shou-Chen Kao ,  Cherng-Chyi Han ,  Jei-Wei Chang ,  Mao-Min Chen

IPC分类号： G11B5127

CPC分类号： B82Y25/00 ,  B82Y10/00 ,  G01R33/09 ,  G11B5/3106 ,  G11B5/3133 ,  G11B5/3903 ,  G11B5/40 ,  G11B2005/3996

摘要： A method to form a passivation layer using an electrochemical process over a MR Sensor so that the passivation layer defines the MR track width. The passivation layer is formed by anodizing the MR sensor. The passivation layer is an electrical insulator (preventing Sensor current (I) from shunting through the overspray) and a heat conductor to allow MR heat to dissipate away from the MR sensor through the overspray. The method comprises: forming a passivation layer on the MR sensor; the passivation layer formed using an electrochemical process. Then we spinning-on and printing a lift-off photoresist structure over the passivation layer. The passivation layer is etched to remove the passivation layer not covered by the lift-off structure thereby defining a track width of the MR sensor. Then we deposit a lead layer over the passivation layer and MR sensor. The lift-off structure is removed where by the passivation layer defines a track width. The passivation layer is an electrical insulator that prevents sensor current (I) form shunting through overspray layers while allowing heat to dissipate through to the lead layer.

摘要翻译： 使用MR传感器上的电化学过程形成钝化层的方法，使得钝化层限定MR磁道宽度。 通过阳极氧化MR传感器形成钝化层。 钝化层是电绝缘体（防止传感器电流（I）通过过喷）分流）和热导体，以允许MR热量通过过喷器散射离开MR传感器。 该方法包括：在MR传感器上形成钝化层; 使用电化学工艺形成钝化层。 然后我们旋转并在钝化层上印刷剥离光致抗蚀剂结构。 蚀刻钝化层以除去未被剥离结构覆盖的钝化层，从而限定MR传感器的轨道宽度。 然后我们在钝化层和MR传感器上沉积铅层。 去除剥离结构，其中钝化层限定轨道宽度。 钝化层是电绝缘体，其防止传感器电流（I）通过过喷层形成分流，同时允许热量散发到引线层。

公开(公告)号：US06274025B1

公开(公告)日：2001-08-14

申请号：US09332433

申请日：1999-06-14

申请人： Jei-Wei Chang ,  Shou-Chen Kao ,  Cherng-Chyi Han ,  Kochan Ju ,  Mao-Min Chen

发明人： Jei-Wei Chang ,  Shou-Chen Kao ,  Cherng-Chyi Han ,  Kochan Ju ,  Mao-Min Chen

IPC分类号： C25D502

CPC分类号： B82Y25/00 ,  B82Y10/00 ,  G11B5/3106 ,  G11B5/3163 ,  G11B5/3903 ,  G11B2005/3996

摘要： A method to form a passivation layer over a MR Sensor so that the passivation layer defines the track width. The passivation layer is formed simultaneously with the development of the lift off structure in a novel developing/oxidizing solution that oxidizes the MR sensor and develops the photoresist. The passivation layer is an electrical insulator that prevents sensor current from shunting through the overspray of the leads and a heat conductor to allow MR heat to dissipate through the overspray. The method comprises: spinning-on and printing a lift-off photoresist structure over the MR sensor. Next, the lift-off photoresist structure is developed. The MR sensor is anodized in a developing/oxidizing solution to: (1) remove portions of the lower photoresist and (2) to form a (e.g., thin NiFeO) passivation layer on the MR layer at least partially under the upper photoresist layer. The passivation layer is etched to remove the passivation layer not covered by the lift-off structure. Then, a lead layer is deposited over the passivation layer and MR sensor. The lift-off structure is removed.

摘要翻译： 在MR传感器上形成钝化层的方法，使得钝化层限定轨道宽度。 钝化层与氧化MR传感器并显影光致抗蚀剂的新型显影/氧化溶液中的剥离结构的发展同时形成。 钝化层是电绝缘体，其防止传感器电流通过引线的过度喷射和热导体分流，以允许MR热量通过过喷器消散。 该方法包括：在MR传感器上旋转并打印剥离光致抗蚀剂结构。 接下来，开发剥离光致抗蚀剂结构。 将MR传感器在显影/氧化溶液中进行阳极氧化，以：（1）去除下部光致抗蚀剂的部分，和（2）在MR层上至少部分地在上部光致抗蚀剂层下形成（例如，薄的NiFeO）钝化层。 钝化层被蚀刻以除去未被剥离结构覆盖的钝化层。 然后，在钝化层和MR传感器上沉积引线层。 剥离结构被去除。

公开(公告)号：US06590751B1

公开(公告)日：2003-07-08

申请号：US09408700

申请日：1999-09-30

申请人： Cheng T. Horng ,  Rongfu Xiao ,  Ru-Ying Tong ,  Jei-Wei Chang ,  Kochan Ju ,  Simon H. Liao

发明人： Cheng T. Horng ,  Rongfu Xiao ,  Ru-Ying Tong ,  Jei-Wei Chang ,  Kochan Ju ,  Simon H. Liao

IPC分类号： G11B5127

CPC分类号： B82Y25/00 ,  G01R33/093 ,  G01R33/096 ,  G11B5/3903 ,  G11B5/3954

摘要： A method for forming an anisotropic magnetoresistive (MR) sensor element, and the anisotropic magnetoresistive (MR) sensor element formed in accord with the method. In accord with the method, there is first provided a substrate. There is then formed over the substrate a seed layer formed of a magnetoresistive (MR) resistivity sensitivity enhancing material selected from the group consisting or nickel-chromium alloys and nickel-iron-chromium alloys. There is then formed over the seed layer a nickel oxide material layer. Finally, there is then formed over the nickel oxide material layer a magnetoresistive (MR) layer. The method contemplates the anisotropic magnetoresistive (MR) sensor element formed in accord with the method. The nickel oxide material layer provides the anisotropic magnetoresistive (MR) sensor element with an enhanced magnetoresistive (MR) resistivity sensitivity.

摘要翻译： 一种用于形成各向异性磁阻（MR）传感器元件的方法和根据该方法形成的各向异性磁阻（MR）传感器元件。 根据该方法，首先提供基板。 然后在衬底上形成由选自镍铬合金和镍 - 铁 - 铬合金的磁阻（MR）电阻率敏感度增强材料形成的晶种层。 然后在种子层上形成氧化镍材料层。 最后，在氧化镍材料层上形成磁阻（MR）层。 该方法考虑了根据该方法形成的各向异性磁阻（MR）传感器元件。 氧化镍材料层提供具有增强的磁阻（MR）电阻率敏感性的各向异性磁阻（MR）传感器元件。

公开(公告)号：US06393692B1

公开(公告)日：2002-05-28

申请号：US09283840

申请日：1999-04-01

申请人： Kochan Ju ,  Cherng-Chyi Han ,  Po-Kang Wang ,  Mao-Min Chen ,  Chun Liu ,  Jei-Wei Chang

发明人： Kochan Ju ,  Cherng-Chyi Han ,  Po-Kang Wang ,  Mao-Min Chen ,  Chun Liu ,  Jei-Wei Chang

IPC分类号： H04R3100

CPC分类号： G11B5/3912 ,  G11B5/3967 ,  Y10T29/49044 ,  Y10T29/49046

摘要： A merged read/write magnetic recording head comprises a low magnetic moment first magnetic shield layer over a substrate. A read gap layer with a magnetoresistive head is formed over the first shield layer. A shared pole comprises a low magnetic moment second magnetic shield layer plated on a sputtered seed PLM layer over the read gap layer, a non-magnetic layer plated over the PLM layer and a HMM lower pole layer plated over the second magnetic shield layer. A write gap layer is formed over the first high magnetic moment pole layer of the shared pole. An upper pole comprises a high magnetic moment pole layer over the write gap layer.

摘要翻译： 合并的读/写磁记录头包括在衬底上的低磁矩第一磁屏蔽层。 在第一屏蔽层上形成具有磁阻头的读取间隙层。 共享极包括电镀在读取间隙层上的溅射种子PLM层上的低磁矩第二磁屏蔽层，镀在PLM层上的非磁性层和镀在第二磁屏蔽层上的HMM下极层。 在共享极的第一高磁矩极点上形成写间隙层。 上极包括写间隙层上的高磁矩极点层。