公开(公告)号：US20050286032A1

公开(公告)日：2005-12-29

申请号：US10873650

申请日：2004-06-23

申请人： Joeri Lof ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Antonius Van Der Net ,  Ronald Van Der Ham ,  Nicolas Lallemant ,  Marcel Beckers

发明人： Joeri Lof ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Antonius Van Der Net ,  Ronald Van Der Ham ,  Nicolas Lallemant ,  Marcel Beckers

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70808

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed. The apparatus includes an illumination system configured to condition a beam of radiation, and a support structure configured to support a patterning device. The patterning device serves to impart the beam of radiation with a pattern in its cross-section. The apparatus also includes a substrate table configured to hold a substrate, a projection system configured to project the patterned beam onto a target portion of the substrate, and a fluid supply system configured to provide a fluid to a volume. The volume includes at least a portion of the projection system and/or at least a portion of the illumination system. The apparatus further includes a coupling device configured to couple the fluid supply system to the substrate table, substrate, support structure, patterning device, or any combination thereof.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置。 该装置包括被配置为调节辐射束的照明系统和被配置为支撑图案形成装置的支撑结构。 图案形成装置用于使辐射束在其横截面上具有图案。 该设备还包括被配置为保持基板的基板台，配置成将图案化的光束投影到基板的目标部分上的投影系统以及被配置成向流体提供流体的流体供应系统。 体积包括投影系统的至少一部分和/或照明系统的至少一部分。 该装置还包括配置成将流体供应系统耦合到衬底台，衬底，支撑结构，图案形成装置或其任何组合的耦合装置。

公开(公告)号：US07057702B2

公开(公告)日：2006-06-06

申请号：US10873650

申请日：2004-06-23

申请人： Joeri Lof ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens ,  Antonius Johannes Van Der Net ,  Ronald Van Der Ham ,  Nicolas Lallemant ,  Marcel Beckers

发明人： Joeri Lof ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens ,  Antonius Johannes Van Der Net ,  Ronald Van Der Ham ,  Nicolas Lallemant ,  Marcel Beckers

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70808

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed. The apparatus includes an illumination system configured to condition a beam of radiation, and a support structure configured to support a patterning device. The patterning device serves to impart the beam of radiation with a pattern in its cross-section. The apparatus also includes a substrate table configured to hold a substrate, a projection system configured to project the patterned beam onto a target portion of the substrate, and a fluid supply system configured to provide a fluid to a volume. The volume includes at least a portion of the projection system and/or at least a portion of the illumination system. The apparatus further includes a coupling device configured to couple the fluid supply system to the substrate table, substrate, support structure, patterning device, or any combination thereof.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置。 该装置包括被配置为调节辐射束的照明系统和被配置为支撑图案形成装置的支撑结构。 图案形成装置用于使辐射束在其横截面上具有图案。 该设备还包括被配置为保持基板的基板台，配置成将图案化的光束投影到基板的目标部分上的投影系统以及被配置成向流体提供流体的流体供应系统。 体积包括投影系统的至少一部分和/或照明系统的至少一部分。 该装置还包括配置成将流体供应系统耦合到衬底台，衬底，支撑结构，图案形成装置或其任何组合的耦合装置。

公开(公告)号：US20070132970A1

公开(公告)日：2007-06-14

申请号：US11448990

申请日：2006-06-08

申请人： Joeri Lof ,  Erik Bijlaart ,  Hans Butler ,  Sjoerd Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Aleksey Kolesnychenko ,  Erik Loopstra ,  Hendricus Meijer ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Roelof Ritsema ,  Frank Van Schaik ,  Thimotheus Sengers ,  Klaus Simon ,  Joannes De Smit ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Van Santen

发明人： Joeri Lof ,  Erik Bijlaart ,  Hans Butler ,  Sjoerd Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Aleksey Kolesnychenko ,  Erik Loopstra ,  Hendricus Meijer ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Roelof Ritsema ,  Frank Van Schaik ,  Thimotheus Sengers ,  Klaus Simon ,  Joannes De Smit ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Van Santen

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70866

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed in which a space between the projection system and the substrate is filled with a liquid. An edge seal member at least partly surrounds the substrate or other object on a substrate table to prevent liquid loss when edge portions of the substrate or other object are, for example, imaged or illuminated.

公开(公告)号：US20070040133A1

公开(公告)日：2007-02-22

申请号：US11371235

申请日：2006-03-09

申请人： Joeri Lof ,  Joannes De Smit ,  Roelof Aeilko Ritsema ,  Klaus Simon ,  Theodorus Modderman ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Hendricus Johannes Meijer ,  Erik Roelof Loopstra

发明人： Joeri Lof ,  Joannes De Smit ,  Roelof Aeilko Ritsema ,  Klaus Simon ,  Theodorus Modderman ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Hendricus Johannes Meijer ,  Erik Roelof Loopstra

IPC分类号： G01N21/86 ,  G01V8/00

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/7085 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7034 ,  G03F9/7088

摘要： A map of the surface of a substrate is generated at a measurement station. The substrate is then moved to where a space between a projection lens and the substrate is filled with a liquid. The substrate is then aligned using, for example, a transmission image sensor and, using the previous mapping, the substrate can be accurately exposed. Thus the mapping does not take place in a liquid environment.

摘要翻译： 在测量站产生衬底表面的图。 然后将衬底移动到投影透镜和衬底之间的空间被液体填充到的位置。 然后使用例如透射图像传感器对衬底进行对准，并且使用先前的映射可以准确地暴露衬底。 因此，映射不会发生在液体环境中。

公开(公告)号：US20050036121A1

公开(公告)日：2005-02-17

申请号：US10831370

申请日：2004-04-26

申请人： Christiaan Hoogendam ,  Sjoerd Donders ,  Hans Jansen ,  Jacobus Johannus Leonardus Verspay ,  Antonius Theodorus Derksen ,  Joeri Lof ,  Erik Loopstra ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk

发明人： Christiaan Hoogendam ,  Sjoerd Donders ,  Hans Jansen ,  Jacobus Johannus Leonardus Verspay ,  Antonius Theodorus Derksen ,  Joeri Lof ,  Erik Loopstra ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70866 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916 ,  G03F9/7088

摘要： In a lithographic projection apparatus, there is provided a liquid supply system comprising a container at least partly defining a space between the projection system and the substrate, the container having a selectively openable and closeable aperture therein, and a closure configured to selectively close and open the aperture. In an embodiment, the shutter may comprise a channel in a surface of the shutter facing the aperture and/or the shutter may be displaced from the liquid supply system when connected to the liquid supply system. Further, in a lithographic apparatus, there is provided a liquid supply system configured to provide a liquid, through which the beam is to be projected, in a space between a projection system and a substrate and a controller configured to control application to the projection system of a force related to a weight transfer attributable to a member of the liquid supply system.

摘要翻译： 在光刻投影设备中，提供了一种液体供应系统，其包括至少部分地限定投影系统和基板之间的空间的容器，该容器在其中具有可选择的可开启和关闭的孔，以及关闭构造成选择性地关闭和打开 光圈。 在一个实施例中，快门可以包括位于快门面向孔的表面中的通道和/或当连接到液体供应系统时活门可以从液体供应系统移位。 此外，在光刻设备中，提供了一种液体供应系统，其配置为在投影系统和基板之间的空间中提供待投射的光束的液体，以及被配置为控制对投影系统的应用的控制器 与由液体供给系统的构件产生的重量传递有关的力。

公开(公告)号：US20050018156A1

公开(公告)日：2005-01-27

申请号：US10873648

申请日：2004-06-23

申请人： Johannes Catharinus Mulkens ,  Antonius Theodorus Anna Derksen ,  Joeri Lof ,  Klaus Simon ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk

发明人： Johannes Catharinus Mulkens ,  Antonius Theodorus Anna Derksen ,  Joeri Lof ,  Klaus Simon ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F9/7026 ,  G03F7/70341 ,  G03F9/7034

摘要： The pressure and/or height of liquid in a liquid reservoir of an immersion lithography apparatus is obtained by a measurement device. The pressure and/or height can be used to determine the height and/or tilt of the substrate.

摘要翻译： 通过测量装置获得浸没式光刻设备的储液器中的液体的压力和/或高度。 压力和/或高度可用于确定基底的高度和/或倾斜度。

公开(公告)号：US20060232756A1

公开(公告)日：2006-10-19

申请号：US11239480

申请日：2005-09-30

申请人： Joeri Lof ,  Antonius Theodorus Derksen ,  Christiaan Hoogendam ,  Aleksey Kolesnychenko ,  Erik Loopstra ,  Theodorus Modderman ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Roelof Aeilko Ritsema ,  Klaus Simon ,  Joannes De Smit ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Santen ,  Sjoerd Nicolaas Donders

发明人： Joeri Lof ,  Antonius Theodorus Derksen ,  Christiaan Hoogendam ,  Aleksey Kolesnychenko ,  Erik Loopstra ,  Theodorus Modderman ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Roelof Aeilko Ritsema ,  Klaus Simon ,  Joannes De Smit ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Santen ,  Sjoerd Nicolaas Donders

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： In a lithographic projection apparatus, a structure surrounds a space between the projection system and a substrate table of the lithographic projection apparatus. Gas is used between the structure and the surface of the substrate to contain liquid in the space.

摘要翻译： 在光刻投影装置中，结构围绕投影系统与光刻投影装置的基板台之间的空间。 在结构和衬底的表面之间使用气体以在空间中容纳液体。

公开(公告)号：US20090002652A1

公开(公告)日：2009-01-01

申请号：US12153276

申请日：2008-05-15

申请人： Joeri Lof ,  Antonius Theodorus Derksen ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Aleksey Kolesnychenko ,  Erik Roelof Loopstra ,  Theodorus Marinus Modderman ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Roelof Aeilko Ritsema ,  Klaus Simon ,  Joannes Theodoor De Smit ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Van Santen

发明人： Joeri Lof ,  Antonius Theodorus Derksen ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Aleksey Kolesnychenko ,  Erik Roelof Loopstra ,  Theodorus Marinus Modderman ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Roelof Aeilko Ritsema ,  Klaus Simon ,  Joannes Theodoor De Smit ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Van Santen

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/7085 ,  G03F9/7088

摘要： In a lithographic projection apparatus, a structure surrounds a space between the projection system and a substrate table of the lithographic projection apparatus. A gas seal is formed between said structure and the surface of said substrate to contain liquid in the space.

摘要翻译： 在光刻投影装置中，结构围绕投影系统与光刻投影装置的基板台之间的空间。 在所述结构和所述基板的表面之间形成气体密封，以在该空间内容纳液体。

公开(公告)号：US20060023189A1

公开(公告)日：2006-02-02

申请号：US11239493

申请日：2005-09-30

申请人： Joeri Lof ,  Antonius Theodorus Derksen ,  Christiaan Hoogendam ,  Aleksey Kolesnychenko ,  Erik Loopstra ,  Theodorus Modderman ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Roelof Aeilko Ritsema ,  Klaus Simon ,  Joannes De Smit ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Santen

发明人： Joeri Lof ,  Antonius Theodorus Derksen ,  Christiaan Hoogendam ,  Aleksey Kolesnychenko ,  Erik Loopstra ,  Theodorus Modderman ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Roelof Aeilko Ritsema ,  Klaus Simon ,  Joannes De Smit ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Santen

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/7085 ,  G03F9/7088

摘要： In a lithographic projection apparatus, a structure surrounds a space between the projection system and a substrate table of the lithographic projection apparatus. A gas seal is formed between said structure and the surface of said substrate to contain liquid in the space.

公开(公告)号：US20050007569A1

公开(公告)日：2005-01-13

申请号：US10844575

申请日：2004-05-13

申请人： Bob Streefkerk ,  Levinus Bakker ,  Johannes Baselmans ,  Hendrikus Cox ,  Antonius Theodorus Derksen ,  Sjoerd Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Joeri Lof ,  Erik Loopstra ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Frits Van Der Meulen ,  Johannes Mulkens ,  Gerardus Van Nunen ,  Klaus Simon ,  Bernardus Slaghekke ,  Alexander Straaijer ,  Jan-Gerard Van Der Toorn ,  Martijn Houkes

发明人： Bob Streefkerk ,  Levinus Bakker ,  Johannes Baselmans ,  Hendrikus Cox ,  Antonius Theodorus Derksen ,  Sjoerd Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Joeri Lof ,  Erik Loopstra ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Frits Van Der Meulen ,  Johannes Mulkens ,  Gerardus Van Nunen ,  Klaus Simon ,  Bernardus Slaghekke ,  Alexander Straaijer ,  Jan-Gerard Van Der Toorn ,  Martijn Houkes

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/709

摘要： In a lithographic apparatus, a localized area of the substrate surface under a projection system is immersed in liquid. The height of a liquid supply system above the surface of the substrate can be varied using actuators. A control system uses feedforward or feedback control with input of the surface height of the substrate to maintain the liquid supply system at a predetermined height above the surface of the substrate.

摘要翻译： 在光刻设备中，将投影系统下的基板表面的局部区域浸入液体中。 可以使用致动器来改变衬底表面上方的液体供应系统的高度。 控制系统使用前馈或反馈控制输入基板的表面高度，以将液体供应系统保持在基板表面上方的预定高度。