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    Lithographic apparatus and device manufacturing method
    8.
    发明申请
    Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
    平版印刷设备和器件制造方法

    公开(公告)号：US20060001855A1

    公开(公告)日：2006-01-05

    申请号：US10879522

    申请日：2004-06-30

    申请人： Joeri Lof ,  Joannes De Smit

    发明人： Joeri Lof ,  Joannes De Smit

    IPC分类号： G03B27/72

    CPC分类号： G03F7/70291 ,  G03F7/70275

    摘要： A system and method for use in a lithographic environment include an illumination system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements for patterning the beam, a projection system for projecting the patterned beam onto a target plane, and a substrate table for supporting a substrate such that a target surface of the substrate is coincident with the target plane. The projection system comprises at least one component, including at least an array of lenses arranged so that each lens receives and focuses a respective portion of the patterned beam. The array of lenses projects a radiation pattern onto the target plane. The apparatus also includes a sensor system arranged to detect an intensity distribution of the projected radiation pattern and to provide a corresponding intensity signal, and a positioning system controllable to adjust a position and/or an orientation of at least one of the following: the array of elements; a component of the projection system; and the illumination system. The apparatus also includes a control system which controls the array of elements to pattern the beam, and which also to receives the intensity signal and controls the positioning system according to the detected intensity distribution to adjust the projected radiation pattern, for example to align the patterned beam with the lens array.

    摘要翻译： 在光刻环境中使用的系统和方法包括用于提供投射辐射束的照明系统，用于图案化束的独立可控元件的阵列，用于将图案化的光束投影到靶平面上的投影系统，以及衬底台 用于支撑基板，使得基板的目标表面与目标平面重合。 投影系统包括至少一个部件，包括至少一组透镜，其布置成使得每个透镜接收并聚焦图案化光束的相应部分。 透镜阵列将辐射图投影到目标平面上。 所述装置还包括传感器系统，其被布置成检测投影辐射图案的强度分布并提供对应的强度信号;以及定位系统，其可控制以调整以下至少一个的位置和/或取向：阵列 元素; 投影系统的一个组件; 和照明系统。 该装置还包括一个控制系统，该控制系统控制元件阵列以对该光束进行图案化，并且还控制该强度信号并根据检测到的强度分布来控制该定位系统，以调整该投射的辐射图案，以使该图案化 光束与透镜阵列。

    Methods and systems for lithographic gray scaling
    9.
    发明申请
    Methods and systems for lithographic gray scaling 有权
    光刻灰度法的方法和系统

    公开(公告)号：US20060139597A1

    公开(公告)日：2006-06-29

    申请号：US11024030

    申请日：2004-12-29

    申请人： Joeri Lof ,  Pieter De Jager ,  Joannes De Smit

    发明人： Joeri Lof ,  Pieter De Jager ,  Joannes De Smit

    IPC分类号： G03B27/52

    CPC分类号： G03F7/70283

    摘要： Improved gray scaling imaging methods and systems include a group of elements within an array of individually controllable elements that project a part of a radiation beam onto a lens in an array of microlenses, and are individually controllable so that any number of the individually controllable elements may be switched on or off to generate a gray scale.

    摘要翻译： 改进的灰度成像方法和系统包括在独立可控元件阵列内的一组元件，其将辐射束的一部分投影到微透镜阵列中的透镜上，并且是可单独控制的，使得任何数量的独立可控元件可以 打开或关闭以生成灰度级。

    Lithographic apparatus and device manufacturing method
    10.
    发明申请
    Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
    平版印刷设备和器件制造方法

    公开(公告)号：US20060138358A1

    公开(公告)日：2006-06-29

    申请号：US11022923

    申请日：2004-12-28

    申请人： Joeri Lof ,  Joannes De Smit

    发明人： Joeri Lof ,  Joannes De Smit

    IPC分类号： G21K5/10

    CPC分类号： G03F7/70275 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70291

    摘要： A projection system comprises an array of lenses MLA, each lens transmitting a unique part of a patterned beam. Measuring devices measure a distance between the array of lenses MLA and a substrate W. A controller controls an actuator to adjust a position (e.g., height and/or tilt) of the microlens array MLA.

    摘要翻译： 投影系统包括透镜阵列MLA，每个透镜透射图案化束的唯一部分。 测量装置测量透镜阵列MLA和基底W之间的距离。控制器控制致动器来调节微透镜阵列MLA的位置（例如，高度和/或倾斜）。