公开(公告)号：US07443486B2

公开(公告)日：2008-10-28

申请号：US11353235

申请日：2006-02-14

申请人： Koen Van Ingen Schenau ,  Maurice Henricus Franciscus Janssen ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Hans Van Der Laan ,  Peter Clement Paul Vanoppen

发明人： Koen Van Ingen Schenau ,  Maurice Henricus Franciscus Janssen ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Hans Van Der Laan ,  Peter Clement Paul Vanoppen

IPC分类号： G03B27/72

CPC分类号： G03F7/705 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/7085

摘要： A lithographic apparatus includes an illuminator configured to condition a beam of radiation and a support configured to hold a patterning device. The patterning device is configured to pattern the beam of radiation according to a desired pattern. The lithographic apparatus also includes a substrate table configured to hold a substrate and a projection system configured to project the patterned beam onto a target portion of the substrate to form a patterned image on the substrate. The apparatus further includes a sensor configured and arranged to intercept a portion of the beam and to measure a transmission of the beam through at least a portion of the patterning device.

摘要翻译： 光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明器和被配置为保持图案形成装置的支撑件。 图案形成装置被配置成根据期望的图案对辐射束进行图案化。 光刻设备还包括被配置为保持衬底的衬底台和配置成将图案化的光束投影到衬底的目标部分上以在衬底上形成图案化图像的投影系统。 所述装置还包括被配置和布置成拦截所述光束的一部分并且测量所述光束通过所述图案形成装置的至少一部分的透射的传感器。

公开(公告)号：US07042550B2

公开(公告)日：2006-05-09

申请号：US10716939

申请日：2003-11-20

申请人： Martin Lowisch ,  Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Koen Van Ingen Schenau ,  Hans Van Der Laan ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Elaine McCoo ,  Uwe Mickan

发明人： Martin Lowisch ,  Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Koen Van Ingen Schenau ,  Hans Van Der Laan ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Elaine McCoo ,  Uwe Mickan

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/32 ,  G03F1/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/706

摘要： System aberrations are effected in a projection system of a lithographic apparatus to optimize imaging of a thick reflective mask with a thick absorber that is obliquely illuminated. The aberrations may include Z5 astigmatism, Z9 spherical, and Z12 astigmatism.

摘要翻译： 系统像差在光刻设备的投影系统中实现，以优化具有倾斜照明的厚吸收体的厚反射掩模的成像。 像差可能包括Z 5散光，Z 9球形和Z 12散光。

公开(公告)号：US07312860B2

公开(公告)日：2007-12-25

申请号：US11594075

申请日：2006-11-08

申请人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Hans Van Der Laan ,  Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers

发明人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Hans Van Der Laan ,  Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers

IPC分类号： G01B9/00

CPC分类号： G03F7/706

摘要： In a method according to one embodiment of the invention, aberrations in a lithographic apparatus are detected by printing a test pattern having at least one degree of symmetry and being sensitive to a particular aberration in the apparatus, and using a scatterometer to derive information concerning the aberration. The test structure may comprise a two-bar grating, in which case the inner and outer duty ratios can be reconstructed to derive information indicative of comatic aberration. Alternatively, a hexagonal array of dots can be used, such that scatterometry data can be used to reconstruct dot diameters indicative of 3-wave aberration.

摘要翻译： 在根据本发明的一个实施例的方法中，通过印刷具有至少一个对称度并对装置中的特定像差敏感的测试图案来检测光刻设备中的像差，并且使用散射仪来得到关于 像差 测试结构可以包括双杆格栅，在这种情况下，可以重建内部和外部占空比以导出指示彗形像差的信息。 或者，可以使用六边形点阵列，使得散射测量数据可以用于重建指示3波像差的点直径。

公开(公告)号：US07112813B2

公开(公告)日：2006-09-26

申请号：US10665720

申请日：2003-09-22

申请人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Frank Bornebroek ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Mircea Dusa ,  Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Justin Lloyd Kreuzer ,  Maurits Van Der Schaar ,  Paul Jacques Van Wijnen ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Pieter Willem Herman De Jager ,  Hans Van Der Laan ,  Paul Frank Luehrmann

发明人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Frank Bornebroek ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Mircea Dusa ,  Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Justin Lloyd Kreuzer ,  Maurits Van Der Schaar ,  Paul Jacques Van Wijnen ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Pieter Willem Herman De Jager ,  Hans Van Der Laan ,  Paul Frank Luehrmann

IPC分类号： G01N21/86

CPC分类号： G03F9/7084 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7088 ,  G03F9/7092

摘要： A method of device inspection, the method comprising providing an asymmetric marker on a device to be inspected, the form of asymmetry of the marker being dependent upon the parameter to be inspected, directing light at the marker, obtaining a first measurement of the position of the marker via detection of diffracted light of a particular wavelength or diffraction angle, obtaining a second measurement of the position of the marker via detection of diffracted light of a different wavelength or diffraction angle, and comparing the first and second measured positions to determine a shift indicative of the degree of asymmetry of the marker.

摘要翻译： 一种设备检查方法，所述方法包括在要检查的设备上提供不对称标记，标记的不对称形式取决于待检查的参数，将光引导到标记处，获得第一测量位置 通过检测特定波长或衍射角的衍射光，通过检测不同波长或衍射角的衍射光来获得标记的位置的第二测量，并且比较第一和第二测量位置以确定偏移 指示标记物的不对称程度。

公开(公告)号：US08773657B2

公开(公告)日：2014-07-08

申请号：US10590352

申请日：2005-02-22

申请人： Hans Van Der Laan ,  Rene Hubert Jacobus Carpaij ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers

发明人： Hans Van Der Laan ,  Rene Hubert Jacobus Carpaij ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers

IPC分类号： G01J1/10

CPC分类号： G01N21/278 ,  G01N21/274 ,  G01N21/4785 ,  G01N21/4788 ,  G01N2021/95615 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70683

摘要： A method according to an embodiment includes obtaining calibration measurement data, with an optical detection apparatus, from a plurality of marker structure sets provided on a calibration substrate. Each marker structure set includes at least one calibration marker structure created using different known values of the process parameter. The method includes obtaining measurement data, with the optical detection apparatus, from at least one marker structure provided on a substrate and exposed using an unknown value of the process parameter; and determining the unknown value of the process parameter from the obtained measurement data by employing regression coefficients in a model based on the known values of the process parameter and the calibration measurement data.

摘要翻译： 根据实施例的方法包括从设置在校准基板上的多个标记结构集合，利用光学检测装置获得校准测量数据。 每个标记结构集包括使用过程参数的不同已知值创建的至少一个校准标记结构。 该方法包括使用光学检测装置从设置在基板上的至少一个标记结构获得测量数据，并使用未知的工艺参数值进行曝光; 以及基于所述过程参数和所述校准测量数据的已知值，通过使用模型中的回归系数，从所获得的测量数据中确定所述过程参数的未知值。

公开(公告)号：US07151594B2

公开(公告)日：2006-12-19

申请号：US10696742

申请日：2003-10-30

申请人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Hans Van Der Laan ,  Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers

发明人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Hans Van Der Laan ,  Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers

IPC分类号： G01B9/00

CPC分类号： G03F7/706

摘要： In a method according to one embodiment of the invention, aberrations in a lithographic apparatus are detected by printing a test pattern having at least one degree of symmetry and being sensitive to a particular aberration in the apparatus, and using a scatterometer to derive information concerning the aberration. The test structure may comprise a two-bar grating, in which case the inner and outer duty ratios can be reconstructed to derive information indicative of comatic aberration. Alternatively, a hexagonal array of dots can be used, such that scatterometry data can be used to reconstruct dot diameters indicative of 3-wave aberration.

摘要翻译： 在根据本发明的一个实施例的方法中，通过印刷具有至少一个对称度并对装置中的特定像差敏感的测试图案来检测光刻设备中的像差，并且使用散射仪来得到关于 像差 测试结构可以包括双杆格栅，在这种情况下，可以重建内部和外部占空比以导出指示彗形像差的信息。 或者，可以使用六边形点阵列，使得散射测量数据可以用于重建指示3波像差的点直径。

公开(公告)号：US08279405B2

公开(公告)日：2012-10-02

申请号：US12709151

申请日：2010-02-19

申请人： Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Hans Van Der Laan ,  Hendrikus Robertus Marie Van Greevenbroek

发明人： Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Hans Van Der Laan ,  Hendrikus Robertus Marie Van Greevenbroek

IPC分类号： G03B27/72 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70075 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702

摘要： A lithographic apparatus includes a radiation system having reflective optical elements constructed and arranged to condition a beam of radiation. The reflective optical elements include a first faceted mirror constructed and arranged to generate a plurality of source images on a second mirror. The lithographic apparatus also includes a facet mask constructed and arranged to selectively mask one or more of the facets of the first faceted mirror. The facet mask includes a masking blade selectively interposable into the beam.

摘要翻译： 光刻设备包括具有构造和布置成调节辐射束的反射光学元件的辐射系统。 反射光学元件包括构造和布置成在第二反射镜上产生多个源图像的第一刻面镜。 光刻设备还包括构造和布置成选择性地掩蔽第一分面镜的一个或多个面的小面掩模。 小面掩模包括选择性地相对于梁的掩模刀片。

公开(公告)号：US20070115449A1

公开(公告)日：2007-05-24

申请号：US11636586

申请日：2006-12-11

申请人： Marcel Mathijs Dierichs ,  Hans Van Der Laan ,  Hendrikus Van Greevenbroek

发明人： Marcel Mathijs Dierichs ,  Hans Van Der Laan ,  Hendrikus Van Greevenbroek

IPC分类号： G03B27/80

CPC分类号： G03F7/70075 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702

摘要： A lithographic apparatus includes a device having a blade selectively insertable into the beam. The device is in a first plane intermediate a second plane conjugate to a plane of the substrate and a third plane conjugate to a pupil plane of the projection system. The blade may include a partially opaque blade and a solid blade or have a predetermined transmissibility pattern. The transmissibility may vary in a second direction perpendicular to the first direction in which the substrate and the patterning device are movable. In an illumination system including a field faceted mirror and a pupil faceted mirror, a reflecting blade is selectively insertable into the beam to reflect a portion of the beam to a beam dump that may be cooled to reduce a heat load. The reflecting element may have a coating that scatters the portion of radiation or changes the phase.

摘要翻译： 光刻设备包括具有可选择性地插入光束中的刀片的装置。 该装置处于第一平面中间，与第二平面共轭于基板平面，第三平面与投影系统的光瞳平面共轭。 刀片可以包括部分不透明的刀片和固体刀片，或者具有预定的传递性图案。 透射率可以在垂直于衬底和图案形成装置可移动的第一方向的第二方向上变化。 在包括场分面镜和瞳孔刻面镜的照明系统中，反射片可选择性地插入光束中，以将光束的一部分反射到可以被冷却以减少热负荷的光束倾倒。 反射元件可以具有散射辐射部分或改变相位的涂层。

公开(公告)号：US07075620B2

公开(公告)日：2006-07-11

申请号：US10820103

申请日：2004-04-08

申请人： Jan Evert Van Der Werf ,  Mark Kroon ,  Wilhelmus Cornelis Keur ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Hans Van Der Laan ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Erik Roelof Loopstra

发明人： Jan Evert Van Der Werf ,  Mark Kroon ,  Wilhelmus Cornelis Keur ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Hans Van Der Laan ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Erik Roelof Loopstra

IPC分类号： G01B11/00

CPC分类号： G03F7/70558 ,  G01J1/58 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70983

摘要： A lithographic projection apparatus includes a radiation system for providing a projection beam of radiation having a wavelength λ1 smaller than 50 nm; a support structure for supporting patterning structure, the patterning structure serving to pattern the projection beam according to a desired pattern; a substrate table for holding a substrate; and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate. The apparatus further includes a radiation sensor which is located so as to be able to receive radiation out of the projection beam, said sensor comprising a radiation-sensitive material which converts incident radiation of wavelength λ1 into secondary radiation; and sensing means capable of detecting said secondary radiation emerging from said layer.

摘要翻译： 光刻投影设备包括用于提供具有小于50nm的波长λ1的辐射的投影光束的辐射系统; 用于支撑图案形成结构的支撑结构，用于根据期望图案对投影光束进行图案化的图案形成结构; 用于保持衬底的衬底台; 以及用于将图案化的光束投影到基板的目标部分上的投影系统。 该装置还包括辐射传感器，其被定位成能够将辐射从投影光束中接收，所述传感器包括辐射敏感材料，其将波长λ1的入射辐射转换成二次辐射 ; 以及能够检测从所述层出射的所述次级辐射的感测装置。

公开(公告)号：US06710856B2

公开(公告)日：2004-03-23

申请号：US09943088

申请日：2001-08-31

申请人： Hans Van Der Laan ,  Marcel Dierichs ,  Hendrikus Robertus Marie Van Greevenbroek ,  Markus Franciscus Antonius Eurlings

发明人： Hans Van Der Laan ,  Marcel Dierichs ,  Hendrikus Robertus Marie Van Greevenbroek ,  Markus Franciscus Antonius Eurlings

IPC分类号： G03B2772

CPC分类号： G03F7/70133

摘要： A method of operating a lithographic projection apparatus including forming a spot of radiation at the wafer level using a pinhole at reticle level. A sensor is defocused with respect to the spot such that it is spaced apart from the wafer level. The sensor is scanned beneath the spot to measure the angular intensity distribution of radiation at the spot and to determine the intensity distribution at the pupil plane of the projection lens system.

摘要翻译： 一种操作光刻投影设备的方法，包括在标线片级使用针孔在晶片级形成辐射点。 传感器相对于斑点散焦，使得其与晶片级间隔开。 传感器被扫描在现场以下，以测量在现场的辐射的角度强度分布，并确定在投影透镜系统的光瞳平面处的强度分布。