公开(公告)号：US07112813B2

公开(公告)日：2006-09-26

申请号：US10665720

申请日：2003-09-22

申请人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Frank Bornebroek ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Mircea Dusa ,  Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Justin Lloyd Kreuzer ,  Maurits Van Der Schaar ,  Paul Jacques Van Wijnen ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Pieter Willem Herman De Jager ,  Hans Van Der Laan ,  Paul Frank Luehrmann

发明人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Frank Bornebroek ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Mircea Dusa ,  Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Justin Lloyd Kreuzer ,  Maurits Van Der Schaar ,  Paul Jacques Van Wijnen ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Pieter Willem Herman De Jager ,  Hans Van Der Laan ,  Paul Frank Luehrmann

IPC分类号： G01N21/86

CPC分类号： G03F9/7084 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7088 ,  G03F9/7092

摘要： A method of device inspection, the method comprising providing an asymmetric marker on a device to be inspected, the form of asymmetry of the marker being dependent upon the parameter to be inspected, directing light at the marker, obtaining a first measurement of the position of the marker via detection of diffracted light of a particular wavelength or diffraction angle, obtaining a second measurement of the position of the marker via detection of diffracted light of a different wavelength or diffraction angle, and comparing the first and second measured positions to determine a shift indicative of the degree of asymmetry of the marker.

摘要翻译： 一种设备检查方法，所述方法包括在要检查的设备上提供不对称标记，标记的不对称形式取决于待检查的参数，将光引导到标记处，获得第一测量位置 通过检测特定波长或衍射角的衍射光，通过检测不同波长或衍射角的衍射光来获得标记的位置的第二测量，并且比较第一和第二测量位置以确定偏移 指示标记物的不对称程度。

公开(公告)号：US20090135424A1

公开(公告)日：2009-05-28

申请号：US12258719

申请日：2008-10-27

申请人： Antoine Gaston Marie Kiers ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer

发明人： Antoine Gaston Marie Kiers ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer

IPC分类号： G06F15/00 ,  G01B11/00

CPC分类号： G03F7/70633 ,  G01N21/47 ,  G03F1/36 ,  G03F1/68

摘要： In a method for determining a structure parameter of a target pattern, a first series of calibration spectra are determined from at least one reference pattern, each spectra being determined using a different known value of at least one structure parameter of the respective reference pattern. The first series of calibration spectra does not take into account parameters of an apparatus used to produce the reference pattern. A representation of each of the first series calibration spectra is stored in a central library. A second series of calibration spectra corresponding to at least one of the stored spectra for a target spectrum is determined using the parameters of the apparatus for measuring the target spectrum. A measured target spectrum is produced by directing a beam of radiation onto the target pattern. The measured target spectrum and the second series of calibration spectra are compared, where this comparison is used to derive a value for the structure parameter of the target pattern.

摘要翻译： 在用于确定目标图案的结构参数的方法中，从至少一个参考图案确定第一系列校准光谱，每个光谱使用相应参考图案的至少一个结构参数的不同已知值来确定。 第一系列校准光谱没有考虑用于产生参考图案的装置的参数。 每个第一系列校准光谱的表示存储在中央库中。 使用用于测量目标光谱的装置的参数来确定对应于目标光谱的存储光谱中的至少一个的第二系列校准光谱。 通过将辐射束引导到目标图案上来产生测量的目标光谱。 比较测量的目标光谱和第二系列校准光谱，其中该比较用于导出目标图案的结构参数的值。

公开(公告)号：US08773657B2

公开(公告)日：2014-07-08

申请号：US10590352

申请日：2005-02-22

申请人： Hans Van Der Laan ,  Rene Hubert Jacobus Carpaij ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers

发明人： Hans Van Der Laan ,  Rene Hubert Jacobus Carpaij ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers

IPC分类号： G01J1/10

CPC分类号： G01N21/278 ,  G01N21/274 ,  G01N21/4785 ,  G01N21/4788 ,  G01N2021/95615 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70683

摘要： A method according to an embodiment includes obtaining calibration measurement data, with an optical detection apparatus, from a plurality of marker structure sets provided on a calibration substrate. Each marker structure set includes at least one calibration marker structure created using different known values of the process parameter. The method includes obtaining measurement data, with the optical detection apparatus, from at least one marker structure provided on a substrate and exposed using an unknown value of the process parameter; and determining the unknown value of the process parameter from the obtained measurement data by employing regression coefficients in a model based on the known values of the process parameter and the calibration measurement data.

摘要翻译： 根据实施例的方法包括从设置在校准基板上的多个标记结构集合，利用光学检测装置获得校准测量数据。 每个标记结构集包括使用过程参数的不同已知值创建的至少一个校准标记结构。 该方法包括使用光学检测装置从设置在基板上的至少一个标记结构获得测量数据，并使用未知的工艺参数值进行曝光; 以及基于所述过程参数和所述校准测量数据的已知值，通过使用模型中的回归系数，从所获得的测量数据中确定所述过程参数的未知值。

公开(公告)号：US07916284B2

公开(公告)日：2011-03-29

申请号：US11488170

申请日：2006-07-18

申请人： Mircea Dusa ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer

发明人： Mircea Dusa ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer

IPC分类号： G01B9/00 ,  G01B11/30 ,  G01B11/14 ,  G01B11/04 ,  G03F9/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/70683 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70641

摘要： In a scatterometric method differential targets with different sensitivities to parameters of interest are printed in a calibration matrix and difference spectra obtained. principal component analysis is applied to the difference spectra to obtain a calibration function that is less sensitive to variations in the underlying structure than a calibration function obtained from spectra obtained from a single target.

摘要翻译： 在散射方法中，将具有不同感光度的感光度的差分目标印刷在校准矩阵中并获得差分光谱。 将主成分分析应用于差分光谱，以获得对从单个目标获得的光谱获得的校准函数对底层结构的变化较不敏感的校准函数。

公开(公告)号：US20080279442A1

公开(公告)日：2008-11-13

申请号：US11798039

申请日：2007-05-09

申请人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Mircea Dusa ,  Irwan Dani Setija

发明人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Mircea Dusa ,  Irwan Dani Setija

IPC分类号： G06K9/00 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F1/84 ,  G03F7/7065

摘要： A method of measuring a property of a substrate includes generating a patterned mask configured to cause a radiation beam passing through the mask to acquire the pattern, simulating radiating the substrate with a patterned radiation beam that has been patterned using the mask to obtain a simulated pattern, determining at least one location of the simulated pattern that is prone to patterning errors, and irradiating the substrate with the patterned radiation beam using a lithographic process. The method also includes measuring an accuracy of at least one property of the at least one location of the pattern on the substrate that has been determined as being prone to patterning errors, and adjusting the lithographic process according to the measuring.

摘要翻译： 测量衬底性质的方法包括：生成图案化掩模，其被配置为使通过掩模的辐射束获得图案，模拟使用掩模图案化的图案化辐射束来辐射衬底以获得模拟图案 ，确定易于图案化错误的模拟图案的至少一个位置，以及使用光刻工艺用图案化的辐射束照射衬底。 该方法还包括测量已经被确定为易于图案化错误的衬底上的图案的至少一个位置的至少一个特性的精度，以及根据测量来调整光刻处理。

公开(公告)号：US20080018874A1

公开(公告)日：2008-01-24

申请号：US11488170

申请日：2006-07-18

申请人： Mircea Dusa ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer

发明人： Mircea Dusa ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70683 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70641

摘要： In a scatterometric method differential targets with different sensitivities to parameters of interest are printed in a calibration matrix and difference spectra obtained. principal component analysis is applied to the difference spectra to obtain a calibration function that is less sensitive to variations in the underlying structure than a calibration function obtained from spectra obtained from a single target.

摘要翻译： 在散射方法中，将具有不同感光度的感光度的差分目标印刷在校准矩阵中并获得差分光谱。 将主成分分析应用于差分光谱，以获得对从单个目标获得的光谱获得的校准函数对底层结构的变化较不敏感的校准函数。

公开(公告)号：US08189195B2

公开(公告)日：2012-05-29

申请号：US11798039

申请日：2007-05-09

申请人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Mircea Dusa ,  Irwan Dani Setija

发明人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Mircea Dusa ,  Irwan Dani Setija

IPC分类号： G01B11/00 ,  G01B11/14 ,  G01B11/04 ,  G01N21/00

CPC分类号： G03F1/84 ,  G03F7/7065

摘要： A method of measuring a property of a substrate includes generating a patterned mask configured to cause a radiation beam passing through the mask to acquire the pattern, simulating radiating the substrate with a patterned radiation beam that has been patterned using the mask to obtain a simulated pattern, determining at least one location of the simulated pattern that is prone to patterning errors, and irradiating the substrate with the patterned radiation beam using a lithographic process. The method also includes measuring an accuracy of at least one property of the at least one location of the pattern on the substrate that has been determined as being prone to patterning errors, and adjusting the lithographic process according to the measuring.

摘要翻译： 测量衬底性质的方法包括：生成图案化掩模，其被配置为使通过掩模的辐射束获得图案，模拟使用掩模图案化的图案化辐射束来辐射衬底以获得模拟图案 ，确定易于图案化错误的模拟图案的至少一个位置，以及使用光刻工艺用图案化的辐射束照射衬底。 该方法还包括测量已经被确定为易于图案化错误的衬底上的图案的至少一个位置的至少一个特性的精度，以及根据测量来调整光刻处理。

公开(公告)号：US07605907B2

公开(公告)日：2009-10-20

申请号：US11727648

申请日：2007-03-27

申请人： Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Gerardus Maria Johannes Wijnand Janssen

发明人： Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Gerardus Maria Johannes Wijnand Janssen

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70425 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70616

摘要： The present invention provides a method for forming a substrate for use in calibrating a metrology tool in order to compensate for orientation-dependent variations within the metrology tool.

摘要翻译： 本发明提供了一种用于形成用于校准计量工具的基板的方法，以便补偿计量工具内的取向相关变化。

公开(公告)号：US08705007B2

公开(公告)日：2014-04-22

申请号：US12690221

申请日：2010-01-20

申请人： Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Henricus Petrus Maria Pellemans

发明人： Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Henricus Petrus Maria Pellemans

IPC分类号： G01B11/00 ,  G01N21/86 ,  G03B27/32 ,  G03B27/42 ,  G03B27/74

CPC分类号： G01N21/956 ,  G01J3/18 ,  G01J3/2803 ,  G01J3/4412 ,  G01N21/4788 ,  G01N21/9501 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7065 ,  G03F9/7088 ,  G03F9/7092

摘要： For angular resolved spectrometry a radiation beam is used having an illumination profile having four quadrants is used. The first and third quadrants are illuminated whereas the second and fourth quadrants aren't illuminated. The resulting pupil plane is thus also divided into four quadrants with only the zeroth order diffraction pattern appearing in the first and third quadrants and only the first order diffraction pattern appearing in the second and third quadrants.

摘要翻译： 对于角度分辨光谱法，使用具有具有四个象限的照明轮廓的辐射束。 第一和第三象限被照亮，而第二和第四象限不被照亮。 因此，所得到的光瞳面也被分成四个象限，仅在第一和第三象限中出现零级衍射图案，并且仅在第二和第三象限中出现一级衍射图案。

公开(公告)号：US07916927B2

公开(公告)日：2011-03-29

申请号：US11653441

申请日：2007-01-16

申请人： Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Durk Oeds Van Der Ploeg ,  Goce Naumoski ,  Roland Mark Van Weel

发明人： Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Durk Oeds Van Der Ploeg ,  Goce Naumoski ,  Roland Mark Van Weel

IPC分类号： G06K9/00 ,  G06K9/62

CPC分类号： G03F7/70625

摘要： Building of a model profile for a target is disclosed. An embodiment of the method includes importing an image of a known object and superimposing, on this image, either by hand or automatically, an estimated profile. The estimated profile is defined mathematically and adjusted segment by segment in order to match the image such that the adjusted estimated profile may be stored alongside a diffraction spectrum associated with the image. Alternatively or additionally, a user may trace (or free-draw) the profile of a known image and subsequently map a shape-definer of a mathematical function such as a polynomial equation, a spline or a vector onto the estimated profile in order to obtain a profile and one or more variables of that profile that may be used to reconstruct the profile of an unknown object from its diffraction pattern.

摘要翻译： 披露了目标的模型配置文件的构建。 该方法的一个实施例包括导入已知对象的图像并且在该图像上手动或自动地叠加估计的轮廓。 估计轮廓被数学地定义并且逐段地调整，以便匹配图像，使得调整的估计轮廓可以与与图像相关联的衍射谱一起存储。 或者或另外，用户可以跟踪（或自由绘制）已知图像的轮廓，并且随后将诸如多项式方程，样条或矢量的数学函数的形状定义器映射到估计轮廓上，以获得 该轮廓的轮廓和一个或多个变量可用于从其衍射图案重建未知物体的轮廓。