公开(公告)号：US20090279080A1

公开(公告)日：2009-11-12

申请号：US12494858

申请日：2009-06-30

申请人： Lambert Danner ,  Michael Heiden ,  Wolfgang Vollrath ,  Alexander Buttner ,  Christof Krampe-Zadler

发明人： Lambert Danner ,  Michael Heiden ,  Wolfgang Vollrath ,  Alexander Buttner ,  Christof Krampe-Zadler

IPC分类号： G01N21/88

CPC分类号： G01N21/9503 ,  G01N2021/8825

摘要： A method, a device and the application for the inspection of defects on the edge region of a wafer (6) is disclosed. At least one illumination device (41) illuminates the edge region (6a) of the wafer (6). At least one optical unit (40) is provided, said optical unit (40) being positionable subject to the position of the defect (88) relative to a top surface (30) of the edge of the wafer (6a) or a bottom surface (31) of the edge of the wafer (6a) or a face (32) of the edge of the wafer (6a) for capturing an image of said defect.

摘要翻译： 公开了一种用于检查晶片（6）的边缘区域上的缺陷的方法，装置和应用。 至少一个照明装置（41）照亮晶片（6）的边缘区域（6a）。 提供至少一个光学单元（40），所述光学单元（40）可相对于所述晶片（6a）的边缘的顶表面（30）定位以抵抗所述缺陷（88）的位置或底表面 （6a）的边缘的边缘（31）或晶片（6a）的边缘的面（32），用于捕获所述缺陷的图像。

公开(公告)号：US20100295938A1

公开(公告)日：2010-11-25

申请号：US12716612

申请日：2010-03-03

申请人： Kurt Hahn ,  Roland Hedrich ,  Gerhard Hoppen ,  Lambert Danner ,  Albert Kreh ,  Wolfgang Vollrath ,  Alexander Büttner ,  Christof Krampe-Zadler ,  Henning Backhauss ,  Hermann Bittner

发明人： Kurt Hahn ,  Roland Hedrich ,  Gerhard Hoppen ,  Lambert Danner ,  Albert Kreh ,  Wolfgang Vollrath ,  Alexander Büttner ,  Christof Krampe-Zadler ,  Henning Backhauss ,  Hermann Bittner

IPC分类号： H04N7/18

CPC分类号： G01N21/9501 ,  G01N2021/8825

摘要： An apparatus (1) for the optical inspection of wafers is disclosed, which comprises an assembly unit (10) which carries optical elements (30, 31, 32, 33) of at least one illumination path (3) for a bright field illumination and optical elements (50, 51, 52, 60, 61, 62, 70, 71, 72, 80, 81, 82) of at least one illumination path (5, 6, 7, 8) for a dark field illumination. The assembly unit (10) furthermore carries plural optical elements (91, 92, 93, 94, 95, 96, 97, 98, 99, 100) of at least one detection path (91, 92). An imaging optical element (32) of the at least one illumination path (3) for the bright field illumination (30), imaging optical elements (51, 61, 71, 81) of the at least one illumination path for the dark field illumination, and imaging optical elements (91, 95, 96) of the at least one detection path (9) are designed in such a way that all illumination paths (3, 5, 6, 7, 8) and all detection paths (91, 92) are telecentric.

摘要翻译： 公开了一种用于光学检查晶片的设备（1），其包括：组装单元（10），其承载用于明场照明的至少一个照明路径（3）的光学元件（30,31,32,33），以及 用于暗场照明的至少一个照明路径（5,6,7,8）的光学元件（50,51,52,60,61,62,70,71,72,80,81,82）。 组装单元（10）还承载至少一个检测路径（91,92）的多个光学元件（91,92,93,94,95,96,97,98,99,100）。 用于明场照明（30）的至少一个照明路径（3）的成像光学元件（32），用于暗场照明的至少一个照明路径的成像光学元件（51,61,71,81） ，并且所述至少一个检测路径（9）的成像光学元件（91,95,96）被设计成使得所有照明路径（3,5,6,7,8）和所有检测路径（91， 92）是远心的。

公开(公告)号：US08451440B2

公开(公告)日：2013-05-28

申请号：US12716612

申请日：2010-03-03

申请人： Kurt Hahn ,  Roland Hedrich ,  Gerhard Hoppen ,  Lambert Danner ,  Albert Kreh ,  Wolfgang Vollrath ,  Alexander Büttner ,  Christof Krampe-Zadler ,  Henning Backhauss ,  Hermann Bittner

发明人： Kurt Hahn ,  Roland Hedrich ,  Gerhard Hoppen ,  Lambert Danner ,  Albert Kreh ,  Wolfgang Vollrath ,  Alexander Büttner ,  Christof Krampe-Zadler ,  Henning Backhauss ,  Hermann Bittner

IPC分类号： G01N21/00 ,  G01N21/95

CPC分类号： G01N21/9501 ,  G01N2021/8825

摘要： An apparatus (1) for the optical inspection of wafers is disclosed, which comprises an assembly unit (10) which carries optical elements (30, 31, 32, 33) of at least one illumination path (3) for a bright field illumination and optical elements (50, 51, 52, 60, 61, 62, 70, 71, 72, 80, 81, 82) of at least one illumination path (5, 6, 7, 8) for a dark field illumination. The assembly unit (10) furthermore carries plural optical elements (91, 92, 93, 94, 95, 96, 97, 98, 99, 100) of at least one detection path (91, 92). An imaging optical element (32) of the at least one illumination path (3) for the bright field illumination (30), imaging optical elements (51, 61, 71, 81) of the at least one illumination path for the dark field illumination, and imaging optical elements (91, 95, 96) of the at least one detection path (9) are designed in such a way that all illumination paths (3, 5, 6, 7, 8) and all detection paths (91, 92) are telecentric.

摘要翻译： 公开了一种用于光学检查晶片的设备（1），其包括：组装单元（10），其承载用于明场照明的至少一个照明路径（3）的光学元件（30,31,32,33），以及 用于暗场照明的至少一个照明路径（5,6,7,8）的光学元件（50,51,52,60,61,62,70,71,72,80,81,82）。 组装单元（10）还承载至少一个检测路径（91,92）的多个光学元件（91,92,93,94,95,96,97,98,99,100）。 用于明场照明（30）的至少一个照明路径（3）的成像光学元件（32），用于暗场照明的至少一个照明路径的成像光学元件（51,61,71,81） ，并且所述至少一个检测路径（9）的成像光学元件（91,95,96）被设计成使得所有照明路径（3,5,6,7,8）和所有检测路径（91， 92）是远心的。

公开(公告)号：US06624930B1

公开(公告)日：2003-09-23

申请号：US09589088

申请日：2000-06-08

申请人： Lambert Danner ,  Frank Eisenkrämer ,  Michael Veith ,  Wolfgang Vollrath ,  Martin Osterfeld

发明人： Lambert Danner ,  Frank Eisenkrämer ,  Michael Veith ,  Wolfgang Vollrath ,  Martin Osterfeld

IPC分类号： F21V904

CPC分类号： G02B21/16

摘要： An illumination device for a DUV microscope has an illumination beam path, proceeding from a DUV light source in which are arranged a condenser and a reflection filter system which generates a DUV wavelength band and comprises four reflection filters. At these, the illumination beam is reflected in each case at the same reflection angle &agr;, the illumination beam path extending coaxially in front of and behind the reflection filter system. According to the present invention, the reflection angle &agr;=30° and the DUV wavelength band &lgr;DUV+&Dgr;&lgr; has a half-value width of max. 20 nm and a peak with a maximum value S of more than 90% of the incoming light intensity. The resulting very narrow half-value width of the DUV wavelength band makes it possible for the DUV objectives of the DUV microscope to be very well-corrected.

摘要翻译： 用于DUV显微镜的照明装置具有照明光束路径，从设置有冷凝器的DUV光源和产生DUV波长带并包括四个反射滤光器的反射滤光器系统进行。 在这些情况下，照射光束在每种情况下以相同的反射角α被反射，照明光束路径在反射滤光镜系统的前面和后面同轴地延伸。 根据本发明，反射角α= 30°和DUV波长带lambdDUV + Deltalambd具有最大值的半值宽度。 20nm，最大值S大于入射光强度的90％以上的峰。 所得到的DUV波长带的非常窄的半值宽度使得DUV显微镜的DUV目标可以被很好地校正。

公开(公告)号：US07561263B2

公开(公告)日：2009-07-14

申请号：US11644275

申请日：2006-12-22

申请人： Lambert Danner ,  Michael Heiden ,  Alexander Buettner

发明人： Lambert Danner ,  Michael Heiden ,  Alexander Buettner

IPC分类号： G01N21/00

CPC分类号： G02B3/0068 ,  G02B3/005 ,  G02B27/0075 ,  G02B27/0961

摘要： The present invention relates to an apparatus for illuminating and inspecting a specular surface, comprising a light source, a collector optics for collecting the light from the light source, a homogenizing optics for transmitting the light from the collector optics having a first micro-lens array downstream of the collector optics, and a second micro-lens array downstream of the first micro-lens array, a Fourier optics for transmitting the light from the homogenizing optics onto the specular surface, an objective optics, and a detector for receiving an image, wherein the collector optics and the first micro-lens array project the light source onto the second micro-lens array and wherein the second micro-lens array and the Fourier optics project the first micro-lens array onto the specular surface, and wherein the objective optics projects the specular surface onto the detector.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于照明和检查镜面的装置，包括光源，用于收集来自光源的光的收集器光学元件，用于透射来自具有第一微透镜阵列的收集器光学器件的光的均匀化光学器件 在第一微透镜阵列下游的第二微透镜阵列，用于将来自均匀化光学器件的光透射到镜面上的傅立叶光学器件，物镜光学器件和用于接收图像的检测器， 其中所述收集器光学器件和所述第一微透镜阵列将所述光源投影到所述第二微透镜阵列上，并且其中所述第二微透镜阵列和所述傅立叶光学器件将所述第一微透镜阵列投射到所述镜面上，并且其中所述物镜 光学镜头将镜面投射到检测器上。

公开(公告)号：US20070035850A1

公开(公告)日：2007-02-15

申请号：US11500502

申请日：2006-08-08

申请人： Lambert Danner ,  Michael Heiden

发明人： Lambert Danner ,  Michael Heiden

IPC分类号： G02B21/02

CPC分类号： G02B21/0016 ,  G01B9/04 ,  G01N21/8806 ,  G02B26/06 ,  G03F7/70633

摘要： In the production of semiconductor or other components, the structures are normally manufactured in different planes. In the orientation of these planes relative to each other a displacement or alignment is examined, among other things, and detected as an overlay defect. To reduce a systematic measuring defect a measuring device (10) is provided for measuring the overlay defect. This device has an illuminating device (12), a lens or objective (14) for focusing radiation from the illuminating device (12) onto the object (16) and a tube lens (18) for imaging the radiation onto a sensor unit (20). A compensator (22), in which the wave fronts of the incident radiation are tilted with spectral variation such that the axial transverse chromatic aberration is compensated for, is provided in the path of rays of the measuring device (10).

摘要翻译： 在半导体或其他部件的制造中，通常在不同的平面上制造结构。 在这些平面相对于彼此的方向上，检查位移或对准，并且被检测为覆盖缺陷。 为了减少系统的测量缺陷，提供了用于测量覆盖缺陷的测量装置（10）。 该装置具有照明装置（12），用于将来自照明装置（12）的辐射聚焦到物体（16）上的透镜或物镜（14）和用于将辐射成像到传感器单元（20）上的管透镜 ）。 在测量装置（10）的射线的路径中设置补偿器（22），其中入射辐射的波前沿光谱变化倾斜以使轴向横向色像差被补偿。

公开(公告)号：US20110205553A1

公开(公告)日：2011-08-25

申请号：US12931886

申请日：2011-02-14

申请人： Wolfgang Sulik ,  Lambert Danner ,  Alexander Buettner

发明人： Wolfgang Sulik ,  Lambert Danner ,  Alexander Buettner

IPC分类号： G01B11/14 ,  G02B21/06

CPC分类号： G01B9/04 ,  G02B7/38

摘要： A method for focusing an object plane (42) through an objective (30) and an optical assembly (10), with which the method can be carried out, are disclosed. A geometric reference structure (21) is positioned in a plane (36) conjugate to a field plane (34) of the objective (30) and is imaged onto the object plane (42). The geometric reference structure (21) is illuminated with a light beam (24), which encloses a non-zero angle (φ) with a normal direction (38) of the conjugate plane (36). Therefore a position (Y) of an image (22) of the geometric reference structure (21) in the object plane (42) depends on the signed distance (37) between the object plane (42) and the field plane (34), and correspondingly is evaluated for the determination of the focus position. The optical assembly (10) preferentially may be a metrology tool (100) for measuring structures (120) on masks (100), wherein the objective (30) is the measurement objective of the metrology tool (100).

摘要翻译： 公开了一种用于将物平面（42）聚焦通过物镜（30）和光学组件（10）进行该方法可以实现的方法。 几何参考结构（21）位于与物镜（30）的场平面（34）共轭的平面（36）中，并被成像到物平面（42）上。 几何参考结构（21）用光束（24）照射，光束（24）与共轭平面（36）的法线方向（38）包围非零角度（＆phgr）。 因此，物平面（42）中的几何参考结构（21）的图像（22）的位置（Y）取决于物平面（42）和场平面（34）之间的有符号距离（37） 并且相应地评估焦点位置的确定。 光学组件（10）优选地可以是用于测量掩模（100）上的结构（120）的计量工具（100），其中物镜（30）是计量工具（100）的测量目标。

公开(公告)号：US09091525B2

公开(公告)日：2015-07-28

申请号：US12931886

申请日：2011-02-14

申请人： Wolfgang Sulik ,  Lambert Danner ,  Alexander Buettner

发明人： Wolfgang Sulik ,  Lambert Danner ,  Alexander Buettner

IPC分类号： G01B11/14 ,  G01B9/04 ,  G02B7/38

CPC分类号： G01B9/04 ,  G02B7/38

摘要： A method for focusing an object plane (42) through an objective (30) and an optical assembly (10), with which the method can be carried out, are disclosed. A geometric reference structure (21) is positioned in a plane (36) conjugate to a field plane (34) of the objective (30) and is imaged onto the object plane (42). The geometric reference structure (21) is illuminated with a light beam (24), which encloses a non-zero angle (φ) with a normal direction (38) of the conjugate plane (36). Therefore a position (Y) of an image (22) of the geometric reference structure (21) in the object plane (42) depends on the signed distance (37) between the object plane (42) and the field plane (34), and correspondingly is evaluated for the determination of the focus position. The optical assembly (10) preferentially may be a metrology tool (100) for measuring structures (120) on masks (100), wherein the objective (30) is the measurement objective of the metrology tool (100).

摘要翻译： 公开了一种用于将物平面（42）聚焦通过物镜（30）和光学组件（10）进行该方法可以实现的方法。 几何参考结构（21）位于与物镜（30）的场平面（34）共轭的平面（36）中，并被成像到物平面（42）上。 几何参考结构（21）用光束（24）照射，光束（24）与共轭平面（36）的法线方向（38）包围非零角度（＆phgr）。 因此，物平面（42）中的几何参考结构（21）的图像（22）的位置（Y）取决于物平面（42）和场平面（34）之间的有符号距离（37） 并且相应地评估焦点位置的确定。 光学组件（10）优选地可以是用于测量掩模（100）上的结构（120）的计量工具（100），其中物镜（30）是计量工具（100）的测量目标。

公开(公告)号：US07268940B2

公开(公告)日：2007-09-11

申请号：US10475559

申请日：2002-04-10

申请人： Michael Veith ,  Lambert Danner

发明人： Michael Veith ,  Lambert Danner

IPC分类号： G02B21/06 ,  G02B21/16

CPC分类号： G02B21/16

摘要： An illuminating device, as for a microscope, includes a light source and a reflecting filter system. The beam of light of the light source undergoes a plurality of reflections in the reflecting filter system. The entering beam of the reflecting filter system has an optical beam offset and/or a change in direction relative to the exiting beam.

摘要翻译： 对于显微镜，照明装置包括光源和反射滤光器系统。 光源的光束在反射滤光器系统中经历多次反射。 反射滤光器系统的进入光束相对于出射光束具有光束偏移和/或方向变化。

公开(公告)号：US06879440B2

公开(公告)日：2005-04-12

申请号：US10355868

申请日：2003-01-31

申请人： Franz Cemic ,  Lambert Danner ,  Robert Mainberger ,  Michael Veith ,  Martin Osterfeld ,  Uwe Graf

发明人： Franz Cemic ,  Lambert Danner ,  Robert Mainberger ,  Michael Veith ,  Martin Osterfeld ,  Uwe Graf

IPC分类号： G02B7/28 ,  G02B21/24 ,  G02B21/06

CPC分类号： G02B7/28 ,  G02B21/247

摘要： An autofocus module for a microscope-based system includes at least two light sources, each of which generates a light beam for focusing. An optical directing device is provided that directs a respective portion of each light beam onto an incoupling means, which couples each of the light beams into the illuminating light beam of the microscope-based system and directs the light beams onto a specimen. A first and a second detector receive the light beams of the first and second light source reflected from the surface of the specimen, and ascertain the intensities on the first and second detector in time-multiplexed fashion.

摘要翻译： 用于基于显微镜的系统的自动对焦模块包括至少两个光源，每个光源产生用于聚焦的光束。 提供一种光引导装置，其将每个光束的相应部分引导到一个耦合装置上，该耦合装置将每个光束耦合到基于显微镜的系统的照明光束中，并将光束引导到样本上。 第一和第二检测器接收从样本表面反射的第一和第二光源的光束，并以时分复用的方式确定第一和第二检测器上的强度。