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    METHOD OF PREPARING CROSS-LINKED ORGANIC GLASSES FOR AIR-GAP SACRIFICIAL LAYERS
    1.
    发明申请
    METHOD OF PREPARING CROSS-LINKED ORGANIC GLASSES FOR AIR-GAP SACRIFICIAL LAYERS 审中-公开
    制备空气隙生物层的交联有机玻璃的方法

    公开(公告)号：US20090087562A1

    公开(公告)日：2009-04-02

    申请号：US12234896

    申请日：2008-09-22

    申请人： Long Hua Lee ,  Karen K. Gleason

    发明人： Long Hua Lee ,  Karen K. Gleason

    IPC分类号： C23C16/44

    CPC分类号： H01L21/02118 ,  B05D1/34 ,  B05D1/60 ,  H01L21/02271 ,  H01L21/312 ,  H01L21/7682

    摘要： A method of forming a polymer film on a surface of a substrate is described. The method comprises placing a substrate on a substrate holder in a vapor deposition system, and introducing a process gas to the vapor deposition system, wherein the process gas comprises a monomer, a cross-linking monomer, and an initiator. Thereafter, the substrate is exposed to the process gas in order to form a polymer film on the substrate, wherein the polymer film thermally decomposes at a decomposition temperature.

    摘要翻译： 描述了在基板的表面上形成聚合物膜的方法。 该方法包括将衬底放置在气相沉积系统中的衬底保持器上，并将工艺气体引入气相沉积系统，其中工艺气体包括单体，交联单体和引发剂。 此后，将衬底暴露于工艺气体，以在衬底上形成聚合物膜，其中聚合物膜在分解温度下热分解。

    Conductive polymer films grafted on organic substrates
    2.
    发明授权
    Conductive polymer films grafted on organic substrates 有权
    导电聚合物膜接枝在有机基底上

    公开(公告)号：US08779071B2

    公开(公告)日：2014-07-15

    申请号：US12525376

    申请日：2008-01-31

    申请人： Karen K. Gleason ,  Sung G. Im

    发明人： Karen K. Gleason ,  Sung G. Im

    IPC分类号： C08G73/06 ,  B05D3/12 ,  C08L67/00

    CPC分类号： H01L51/0037 ,  B05D1/185 ,  B05D1/60 ,  B05D3/10 ,  C08G61/124 ,  C08G61/125 ,  C08G61/126 ,  C09D165/00 ,  C09D179/02 ,  G02F2001/1515

    摘要： One aspect of the invention relates to a linker-free, one-step method of grafting polymer films onto organic substrates, and the films obtained by such a method. In certain embodiments, the grafted polymer films are conductive. In certain embodiments, said grafting method utilizes the ability for Friedel-Crafts catalyst to form radical cations from organic substrates. In one embodiment, the method provides poly-3,4-ethylenedioxythiophene (PEDOT) thin films grafted to organic substrates. In other embodiments, the method is applicable to the polymerization of other monomers to yield conducting polymers, such as polyanilines, polypyrroles, polyfurans, polythiophenes and their derivatives. Remarkably, the polymer films grafted by the inventive methods show enormous increases in adhesion strength. Further, in certain embodiments, polymer patterns were easily obtained using the inventive methods and soft lithography techniques. In certain embodiments, well-defined high-density line-and-space patterns were successfully obtained. In certain embodiments, e.g., when the polymer film is conducting, the obtained conducting polymer pattern grafted on common organic substrates can be used for integrated circuitry in flexible electronics.

    摘要翻译： 本发明的一个方面涉及将聚合物膜接枝到有机基底上的无接头的一步法，以及通过这种方法获得的膜。 在某些实施方案中，接枝的聚合物膜是导电的。 在某些实施方案中，所述接枝方法利用了Friedel-Crafts催化剂从有机底物形成自由基阳离子的能力。 在一个实施方案中，该方法提供接枝到有机基底上的聚3,4-亚乙基二氧噻吩（PEDOT）薄膜。 在其它实施方案中，该方法适用于其它单体的聚合以产生导电聚合物，例如聚苯胺，聚吡咯，聚呋喃，聚噻吩及其衍生物。 显着地，通过本发明方法接枝的聚合物膜显示出粘合强度的巨大增加。 此外，在某些实施方案中，使用本发明的方法和软光刻技术容易地获得聚合物图案。 在某些实施例中，成功地获得了明确定义的高密度线和空间图案。 在某些实施方案中，例如，当聚合物膜导电时，所获得的接枝在共同有机衬底上的导电聚合物图案可用于柔性电子器件中的集成电路。

    BIOSENSORS
    3.
    发明申请
    BIOSENSORS 有权
    生物传感器

    公开(公告)号：US20140193925A1

    公开(公告)日：2014-07-10

    申请号：US13548521

    申请日：2012-07-13

    申请人： Dhiman Bhattacharyya ,  Karen K. Gleason

    发明人： Dhiman Bhattacharyya ,  Karen K. Gleason

    IPC分类号： G01N33/543 ,  G01N33/531

    CPC分类号： G01N33/54366 ,  G01N27/3275 ,  G01N33/531 ,  G01N33/54306

    摘要： A chemiresistive biosensor for detecting an analyte can include a high specific surface area substrate conformally coated with a conductive polymer, and a binding reagent immobilized on the conductive polymer, wherein the binding reagent has a specific affinity for the analyte. The conductive polymer can be deposited on a substrate by oCVD.

    摘要翻译： 用于检测分析物的化学生物传感器可以包括由导电聚合物共形涂覆的高比表面积底物和固定在导电聚合物上的结合试剂，其中结合试剂对分析物具有特异性亲和力。 导电聚合物可以通过oCVD沉积在基底上。

    Porous material formation by chemical vapor deposition onto colloidal crystal templates
    6.
    发明授权
    Porous material formation by chemical vapor deposition onto colloidal crystal templates 失效
    通过化学气相沉积在胶体晶体模板上形成多孔材料

    公开(公告)号：US07112615B2

    公开(公告)日：2006-09-26

    申请号：US10624959

    申请日：2003-07-22

    申请人： Karen K. Gleason ,  Qingguo Wu ,  April Ross

    发明人： Karen K. Gleason ,  Qingguo Wu ,  April Ross

    IPC分类号： C08J9/26

    CPC分类号： C30B5/00 ,  C30B25/105 ,  C30B29/60 ,  Y10S438/96

    摘要： Methods and systems are disclosed for fabricating ultra-low dielectric constant porous materials. In one aspect of the invention, a method for making porous low-k films is disclosed. The method uses polymer based porogens as sacrificial templates around which a chemical vapor deposition (CVD) or plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) deposited matrix is formed. Upon pyrolysis, the porogens decompose resulting in a porous ultra-low dielectric material. This method can be used, for example, to produce porous organosilicate glass (OSG) materials, ultra-low dielectric nanoporous materials, porous ceramics, porous scaffolds, and/or porous metals. Various uses and embodiments of the methods and systems of this invention are disclosed.

    摘要翻译： 公开了用于制造超低介电常数多孔材料的方法和系统。 在本发明的一个方面，公开了一种制造多孔低k膜的方法。 该方法使用基于聚合物的致孔剂作为牺牲模板，在其周围形成化学气相沉积（CVD）或等离子体增强化学气相沉积（PECVD）沉积基质。 热解后，致孔剂分解，产生多孔超低介电材料。 该方法可用于例如生产多孔有机硅酸盐玻璃（OSG）材料，超低介电纳米多孔材料，多孔陶瓷，多孔支架和/或多孔金属。 公开了本发明的方法和系统的各种用途和实施例。

    Solventless, resistless direct dielectric patterning
    7.
    发明授权
    Solventless, resistless direct dielectric patterning 有权
    无溶剂，无阻抗的直接电介质图案化

    公开(公告)号：US06509138B2

    公开(公告)日：2003-01-21

    申请号：US09482193

    申请日：2000-01-12

    申请人： Karen K. Gleason ,  Christopher Ober ,  Daniel Herr

    发明人： Karen K. Gleason ,  Christopher Ober ,  Daniel Herr

    IPC分类号： G03F726

    CPC分类号： G03F7/32 ,  G03F7/167 ,  G03F7/36

    摘要： Processes for patterning radiation sensitive layers are disclosed. In one embodiment, the process includes depositing a radiation sensitive material on a substrate by chemical vapor deposition. The radiation sensitive material is exposed to radiation to form a pattern and the pattern is developed using a supercritical fluid (SCF).

    摘要翻译： 公开了用于图案化辐射敏感层的方法。 在一个实施例中，该方法包括通过化学气相沉积将辐射敏感材料沉积在基底上。 将辐射敏感材料暴露于辐射以形成图案，并且使用超临界流体（SCF）显影图案。