公开(公告)号：US20070151841A1

公开(公告)日：2007-07-05

申请号：US11601576

申请日：2006-11-17

申请人： Makoto Inagawa ,  Akihiro Hosokawa ,  Hien-Minh Le ,  Ilya Lavitsky ,  John White ,  Todd Martin ,  Bradley Stimson

发明人： Makoto Inagawa ,  Akihiro Hosokawa ,  Hien-Minh Le ,  Ilya Lavitsky ,  John White ,  Todd Martin ,  Bradley Stimson

IPC分类号： C23C14/32 ,  C23C14/00

CPC分类号： C23C14/3407 ,  C23C14/35 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3408 ,  H01J37/3435 ,  H01J37/3452 ,  H01J37/3455

摘要： A magnetron scanning and support mechanism in which the magnetron is partially supported from an overhead scanning mechanism through multiple springs coupled to different horizontal locations on the magnetron and partially supported from below at multiple locations on the target, on which it slides or rolls. In one embodiment, the yoke plate is continuous and uniform. In another embodiment, the magnetron's magnetic yoke is divided into two flexible yokes, for example, of complementary serpentine shape and each supporting magnets of respective polarity. In another embodiment, the target and magnetron are divided into respective strips separated by other structure. Each magnetron strip is supported partially from above from a common scanning plate and partially on a respective target strip. A centering mechanism may align the different magnetron strips.

摘要翻译： 一种磁控管扫描和支撑机构，其中磁控管通过耦合到磁控管上的不同水平位置的多个弹簧部分地从顶部扫描机构支撑，并且在靶上的多个位置处从其下方部分地支撑，在其上滑动或滚动。 在一个实施例中，轭板是连续且均匀的。 在另一个实施例中，磁控管的磁轭被分成两个柔性轭，例如互补的蛇形形状和各个极性的每个支撑磁体。 在另一个实施例中，靶和磁控管被分成由其它结构分开的相应条。 每个磁控管从上面部分地从普通扫描板支撑并部分地支撑在相应的目标条上。 定心机构可以对准不同的磁控管条。

公开(公告)号：US07371285B2

公开(公告)日：2008-05-13

申请号：US10804300

申请日：2004-03-19

申请人： Michael Rosenstein ,  Alex Shenderovich ,  Marc O. Schweitzer ,  Ilya Lavitsky ,  Alvin Lau ,  Michael Feltsman

发明人： Michael Rosenstein ,  Alex Shenderovich ,  Marc O. Schweitzer ,  Ilya Lavitsky ,  Alvin Lau ,  Michael Feltsman

IPC分类号： C23C16/00 ,  C23C14/00 ,  H01L21/00 ,  C25B11/00

CPC分类号： H01J37/32458 ,  C23C14/35 ,  C23C16/44 ,  E05F15/614 ,  E05F15/622 ,  E05Y2900/00 ,  E05Y2900/60

摘要： A semiconductor processing chamber having a motorized lid is provided. In one embodiment, the semiconductor processing chamber generally includes a chamber body having sidewalls and a bottom defining an interior volume. A lid assembly is coupled to the chamber body and is movable between a first position that encloses the interior volume and a second position. A hinge assembly thereto is coupled between the lid assembly and the chamber body. A motor is coupled to the hinge assembly to facilitate moving the lid assembly between the first position and the second position.

摘要翻译： 提供具有电动盖的半导体处理室。 在一个实施例中，半导体处理室通常包括具有限定内部空间的侧壁和底部的室主体。 盖组件联接到室主体并且可在包围内部容积的第一位置和第二位置之间移动。 其铰链组件连接在盖组件和腔体之间。 电动机联接到铰链组件以便于在第一位置和第二位置之间移动盖组件。

公开(公告)号：US20060090706A1

公开(公告)日：2006-05-04

申请号：US10981261

申请日：2004-11-03

申请人： Keith Miller ,  Ilya Lavitsky

发明人： Keith Miller ,  Ilya Lavitsky

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： H01L21/68735 ,  C23C14/50 ,  H01J37/32642 ,  H01L21/68721 ,  Y10S156/915

摘要： A substrate ring assembly is provided for a substrate support having a peripheral edge. The assembly has an annular band having an inner perimeter that surrounds and at least partially covers the peripheral edge of the substrate support. The assembly also has a clamp to secure the annular band to the peripheral edge of the substrate support.

摘要翻译： 为具有外围边缘的基板支撑件提供基板环组件。 组件具有环形带，其具有围绕并且至少部分地覆盖衬底支撑件的周边边缘的内周边。 组件还具有用于将环形带固定到基板支撑件的周边边缘的夹具。

公开(公告)号：US20080116067A1

公开(公告)日：2008-05-22

申请号：US11950881

申请日：2007-12-05

申请人： Ilya Lavitsky ,  Michael Rosenstein ,  Goichi Yoshidome ,  Hougong Wang ,  Zhendong Liu ,  Mengqi Ye

发明人： Ilya Lavitsky ,  Michael Rosenstein ,  Goichi Yoshidome ,  Hougong Wang ,  Zhendong Liu ,  Mengqi Ye

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： H01J37/3408 ,  C23C14/35 ,  C23C14/352 ,  C23C14/564 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32733 ,  H01J37/3455

摘要： The invention relates to physical vapor deposition (PVD) chambers having a rotatable substrate pedestal and at least one moveable tilted target. Embodiments of the invention facilitate deposition of highly uniform thin films.

摘要翻译： 本发明涉及具有可旋转衬底基座和至少一个可移动倾斜目标的物理气相沉积（PVD）室。 本发明的实施方案有利于沉积高度均匀的薄膜。

公开(公告)号：US20060096857A1

公开(公告)日：2006-05-11

申请号：US10984265

申请日：2004-11-08

申请人： Ilya Lavitsky ,  Michael Rosenstein ,  Goichi Yoshidome ,  Hougong Wang ,  Zhendong Liu ,  Mengqi Ye

发明人： Ilya Lavitsky ,  Michael Rosenstein ,  Goichi Yoshidome ,  Hougong Wang ,  Zhendong Liu ,  Mengqi Ye

IPC分类号： C23C14/00

CPC分类号： H01J37/3408 ,  C23C14/35 ,  C23C14/352 ,  C23C14/564 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32733 ,  H01J37/3455

摘要： The invention relates to physical vapor deposition (PVD) chambers having a rotatable substrate pedestal. Embodiments of the invention facilitate deposition of highly uniform thin films. In further embodiments, one or more sputtering targets are movably disposed above the pedestal. The orientation of the targets relative to the pedestal may be adjusted laterally, vertically or angularly. In one embodiment, the target may be adjusted between angles of about 0 to 45 degreees relative to an axis of pedestal rotation.

摘要翻译： 本发明涉及具有可转动的基板底座的物理气相沉积（PVD）室。 本发明的实施方案有利于沉积高度均匀的薄膜。 在另外的实施例中，一个或多个溅射靶可移动地设置在基座上方。 目标相对于基座的取向可以横向，垂直或有角度地调整。 在一个实施例中，可以相对于基座旋转轴线在约0至45度的角度之间调整目标。

公开(公告)号：US20060096851A1

公开(公告)日：2006-05-11

申请号：US10984291

申请日：2004-11-08

申请人： Ilya Lavitsky ,  Michael Rosenstein ,  Goichi Yoshidome ,  Hougong Wang ,  Zhendong Liu ,  Mengqi Ye

发明人： Ilya Lavitsky ,  Michael Rosenstein ,  Goichi Yoshidome ,  Hougong Wang ,  Zhendong Liu ,  Mengqi Ye

IPC分类号： C23C14/32 ,  C23C14/00

CPC分类号： H01J37/3408 ,  C23C14/35 ,  C23C14/352 ,  C23C14/564 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32733 ,  H01J37/3455

摘要： The invention relates to physical vapor deposition (PVD) chambers having a rotatable substrate pedestal and at least one moveable tilted target. Embodiments of the invention facilitate deposition of highly uniform thin films.

摘要翻译： 本发明涉及具有可旋转衬底基座和至少一个可移动倾斜目标的物理气相沉积（PVD）室。 本发明的实施方案有利于沉积高度均匀的薄膜。

公开(公告)号：US07670436B2

公开(公告)日：2010-03-02

申请号：US10981261

申请日：2004-11-03

申请人： Keith A. Miller ,  Ilya Lavitsky

发明人： Keith A. Miller ,  Ilya Lavitsky

IPC分类号： C23C16/00 ,  C23F1/00 ,  H01L21/306

CPC分类号： H01L21/68735 ,  C23C14/50 ,  H01J37/32642 ,  H01L21/68721 ,  Y10S156/915

摘要： A substrate ring assembly is provided for a substrate support having a peripheral edge. The assembly has an annular band having an inner perimeter that surrounds and at least partially covers the peripheral edge of the substrate support. The assembly also has a clamp to secure the annular band to the peripheral edge of the substrate support.

摘要翻译： 为具有外围边缘的基板支撑件提供基板环组件。 组件具有环形带，其具有围绕并且至少部分地覆盖衬底支撑件的周边边缘的内周边。 组件还具有用于将环形带固定到基板支撑件的周边边缘的夹具。

公开(公告)号：US07569125B2

公开(公告)日：2009-08-04

申请号：US11124524

申请日：2005-05-05

申请人： Tza-Jing Gung ,  Xianmin Tang ,  John Forster ,  Peijun Ding ,  Marc Schweitzer ,  Keith A. Miller ,  Ilya Lavitsky

发明人： Tza-Jing Gung ,  Xianmin Tang ,  John Forster ,  Peijun Ding ,  Marc Schweitzer ,  Keith A. Miller ,  Ilya Lavitsky

IPC分类号： C23C14/35

CPC分类号： H01J37/3402 ,  C23C14/046 ,  C23C14/345 ,  C23C14/3457 ,  C23C14/358 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32623 ,  H01J37/3408 ,  H01J37/3411 ,  H01J37/3441 ,  H01J2237/3327 ,  H01L21/2855 ,  H01L21/76843 ,  H01L21/76877

摘要： A one-piece inner shield usable in a plasma sputter reactor and extending from the target to the pedestal with a smooth inner surface and supported by an annular flange in a middle portion of the shield. The shield may be used to support the RF coil used in exciting the plasma. An outer shield includes an outwardly extending flange on its end alignable with the inner shield flange, holes in correspondence to recesses in the inner shield for standoffs for the RF coil, and circumferentially arranged gas flow holes.

摘要翻译： 可用于等离子体溅射反应器的一体式内屏蔽件，并且从目标件延伸到具有光滑内表面的基座并由屏蔽件的中间部分中的环形凸缘支撑。 屏蔽可用于支持用于激发等离子体的RF线圈。 外屏蔽件包括在其与内屏蔽凸缘对准的端部上的向外延伸的凸缘，对应于用于RF线圈的支架的内屏蔽件中的凹部的孔和周向布置的气体流动孔。

公开(公告)号：US07041201B2

公开(公告)日：2006-05-09

申请号：US10608306

申请日：2003-06-26

申请人： Tza-Jing Gung ,  Xianmin Tang ,  John Forster ,  Peijun Ding ,  Marc Schweitzer ,  Keith A. Miller ,  Ilya Lavitsky

发明人： Tza-Jing Gung ,  Xianmin Tang ,  John Forster ,  Peijun Ding ,  Marc Schweitzer ,  Keith A. Miller ,  Ilya Lavitsky

IPC分类号： C23C14/35

CPC分类号： H01J37/3402 ,  C23C14/046 ,  C23C14/345 ,  C23C14/3457 ,  C23C14/358 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32623 ,  H01J37/3408 ,  H01J37/3411 ,  H01J37/3441 ,  H01J2237/3327 ,  H01L21/2855 ,  H01L21/76843 ,  H01L21/76877

摘要： One aspect of the invention includes an auxiliary magnet ring positioned outside of the chamber wall of a plasma sputter reactor and being disposed at least partially radially outwardly of an RF coil used to inductively generate a plasma, particularly for sputter etching the substrate being sputter deposited. Thereby, a magnetic barrier prevents the plasma from leaking outwardly to the coil and improves the uniformity of sputter etching. The magnetic field also acts as a magnetron when the coil, when made of the same material as the primary target, is being used as a secondary target. Another aspect of the invention includes a one-piece inner shield extending from the target to the pedestal with a smooth inner surface and supported by an annular flange in a middle portion of the shield. The shield may be used to support the RF coil.

摘要翻译： 本发明的一个方面包括位于等离子体溅射反应器的室壁外部的辅助磁环，并且至少部分地设置在用于感应地产生等离子体的RF线圈的径向外侧，特别是用于溅射蚀刻被溅射沉积的衬底。 因此，磁屏障防止等离子体向外泄漏到线圈并提高溅射蚀刻的均匀性。 当线圈由与主要靶材相同的材料制成时，磁场也用作磁控管，作为次级靶。 本发明的另一方面包括从目标件延伸到具有光滑的内表面并由屏蔽件的中间部分中的环形凸缘支撑的一体式内屏蔽件。 屏蔽可用于支持RF线圈。

公开(公告)号：US20050199491A1

公开(公告)日：2005-09-15

申请号：US11124524

申请日：2005-05-05

申请人： Tza-Jing Gung ,  Xianmin Tang ,  John Forster ,  Peijun Ding ,  Marc Schweitzer ,  Keith Miller ,  Ilya Lavitsky

发明人： Tza-Jing Gung ,  Xianmin Tang ,  John Forster ,  Peijun Ding ,  Marc Schweitzer ,  Keith Miller ,  Ilya Lavitsky

IPC分类号： H05H1/46 ,  C23C14/04 ,  C23C14/34 ,  C23C14/35 ,  H01J37/32 ,  H01J37/34 ,  H01L21/285 ,  H01L21/768

CPC分类号： H01J37/3402 ,  C23C14/046 ,  C23C14/345 ,  C23C14/3457 ,  C23C14/358 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32623 ,  H01J37/3408 ,  H01J37/3411 ,  H01J37/3441 ,  H01J2237/3327 ,  H01L21/2855 ,  H01L21/76843 ,  H01L21/76877

摘要： A one-piece inner shield usable in a plasma sputter reactor and extending from the target to the pedestal with a smooth inner surface and supported by an annular flange in a middle portion of the shield. The shield may be used to support the RF coil used in exciting the plasma. An outer shield includes an outwardly extending flange on its end alignable with the inner shield flange, holes in correspondence to recesses in the inner shield for standoffs for the RF coil, and circumferentially arranged gas flow holes.

摘要翻译： 可用于等离子体溅射反应器的一体式内屏蔽件，并且从目标件延伸到具有光滑内表面的基座并由屏蔽件的中间部分中的环形凸缘支撑。 屏蔽可用于支持用于激发等离子体的RF线圈。 外屏蔽件包括在其与内屏蔽凸缘对准的端部上的向外延伸的凸缘，对应于用于RF线圈的支架的内屏蔽件中的凹部的孔和周向布置的气体流动孔。