公开(公告)号：US20090067046A1

公开(公告)日：2009-03-12

申请号：US11913172

申请日：2006-06-27

申请人： Masaki Noro ,  Hiroyuki Yoneyama

发明人： Masaki Noro ,  Hiroyuki Yoneyama

IPC分类号： G02B1/11 ,  C08L27/14

CPC分类号： G02B1/113 ,  B32B17/10018 ,  G02B5/305 ,  G02F1/133502 ,  H01L51/5281

摘要： An antireflection film is provided and includes, as an outermost layer, a lower refractive index layer containing a fluorine-containing polymer of which a main chain is formed solely of carbon atoms and a compound having a polysiloxane structure. The fluorine-containing polymer contains a hydroxyl group-containing vinyl monomeric polymerization unit with a content exceeding 20 mole %.

摘要翻译： 提供防反射膜，并且包括作为最外层的包含仅由碳原子形成主链的含氟聚合物的低折射率层和具有聚硅氧烷结构的化合物。 含氟聚合物含有含量超过20摩尔％的含羟基的乙烯基单体聚合单元。

公开(公告)号：US20070048509A1

公开(公告)日：2007-03-01

申请号：US11498177

申请日：2006-08-03

申请人： Hiroyuki Yoneyama ,  Masaki Noro ,  Yasuhiro Okamoto

发明人： Hiroyuki Yoneyama ,  Masaki Noro ,  Yasuhiro Okamoto

IPC分类号： B32B27/18 ,  B32B27/00

CPC分类号： G02B1/111 ,  B32B17/10018 ,  G02B5/30 ,  G02B27/0006 ,  Y10T428/1036 ,  Y10T428/1045 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/249974 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/259 ,  Y10T428/3154 ,  Y10T428/31544 ,  Y10T428/31663

摘要： An antireflection film comprising a support and a low refractive index layer prepared by coating a coating composition containing the following components: (A) a fluorine-containing polymer, a principal chain of which is made of only carbon atoms and which contains at least one fluorine-containing vinyl monomer polymerization unit and at least one hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerization unit, wherein a content of the hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerization unit exceeds 20% by mole, provided that the polymer does not have a polysiloxane structure in the principal chain; (B) a crosslinking agent capable of reacting with a hydroxyl group; and (C) a compound containing two or more (meth)acryloyl groups in one molecule thereof.

摘要翻译： 一种防反射膜，其包含通过涂布含有以下组分的涂料组合物制备的载体和低折射率层：（A）含氟聚合物，其主链仅由碳原子组成并且含有至少一个氟 的乙烯基单体聚合单元和至少一个含羟基的乙烯基单体聚合单元，其中含羟基的乙烯基单体聚合单元的含量超过20摩尔％，条件是聚合物不含聚硅氧烷结构 主链 （B）能够与羟基反应的交联剂; 和（C）在其一个分子中含有两个以上（甲基）丙烯酰基的化合物。

公开(公告)号：US20070042173A1

公开(公告)日：2007-02-22

申请号：US11507198

申请日：2006-08-21

申请人： Katsuro Nagaoka ,  Hiroyuki Yoneyama ,  Masaki Noro

发明人： Katsuro Nagaoka ,  Hiroyuki Yoneyama ,  Masaki Noro

IPC分类号： B32B27/20 ,  B32B27/00 ,  B05D5/06 ,  B05D3/02 ,  C08F2/46

CPC分类号： G02B1/111 ,  C08F214/18 ,  C08F216/1416 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  Y10T428/249974 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/3154

摘要： An antireflection film comprising a support and a layer formed by coating a composition containing at least one salt formed from an organic base whose conjugate acid has a pKa of from 5.0 to 10.5 and an acid, wherein the antireflection film has a haze value due to surface scattering of 1% or more and less than 10%, or an antireflection film comprising a support and a layer formed by coating a composition containing at least one salt formed from a nitrogen-containing organic base having a boiling point of from 35° C. to 85° C. and an acid, wherein the antireflection film has a haze value due to surface scattering of 1% or more and less than 10%.

摘要翻译： 一种防反射膜，其包括载体和通过涂布含有由共轭酸的pKa为5.0〜10.5的有机碱形成的至少一种盐的组合物和酸形成的层，其中，所述防反射膜由于表面而具有雾度值 1％以上且小于10％的散射，或包含支撑体的防反射膜，以及通过涂布由含有沸点为35℃的含氮有机碱形成的至少一种盐的组合物形成的层。 至85℃，酸，其中抗反射膜由于表面散射为1％以上且小于10％而具有雾度值。

公开(公告)号：US20090087668A1

公开(公告)日：2009-04-02

申请号：US11994313

申请日：2006-09-28

申请人： Masaki Noro ,  Hiroyuki Yoneyama

发明人： Masaki Noro ,  Hiroyuki Yoneyama

IPC分类号： G02B1/11 ,  B32B27/30

CPC分类号： G02B1/111 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  G02B5/3033 ,  Y10T428/3154

摘要： An antireflection film is provided and includes: a transparent support; and a low refractive index layer formed by coating a composition on the transparent support. The composition contains a fluorine-containing polymer containing a fluorine-containing vinyl monomer polymerization unit and a hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerization unit, a crosslinking agent capable of reacting with a hydroxyl group, and a salt formed from an acid and an organic base, the organic base having a pKa of a conjugate acid thereof of 5.0 to 13.0.

摘要翻译： 提供防反射膜，包括：透明支撑体; 以及通过在透明支撑体上涂覆组合物形成的低折射率层。 该组合物含有含氟乙烯基单体聚合单元和含羟基的乙烯基单体聚合单元的含氟聚合物，能与羟基反应的交联剂和由酸和有机碱形成的盐 ，有机碱的共轭酸的pKa为5.0〜13.0。

公开(公告)号：US20070048513A1

公开(公告)日：2007-03-01

申请号：US11509721

申请日：2006-08-25

申请人： Yasuhiro Okamoto ,  Masaki Noro ,  Hiroyuki Yoneyama

发明人： Yasuhiro Okamoto ,  Masaki Noro ,  Hiroyuki Yoneyama

IPC分类号： B32B27/18 ,  B32B33/00 ,  B32B5/16

CPC分类号： G02B1/111 ,  G02B1/118 ,  G02B5/0226 ,  G02B5/0278 ,  G02B5/0294 ,  Y10T428/249971 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/3154 ,  Y10T428/31663

摘要： An antireflective film is provided and including: a support; and a layer formed from a composition containing inorganic particles and at least one salt. The at least one salt contains an acid and an organic base, the conjugate acid of the organic base having pKa of 5.0 to 11.0.

摘要翻译： 提供了一种抗反射膜，包括：支撑体; 以及由含有无机颗粒和至少一种盐的组合物形成的层。 所述至少一种盐含有酸和有机碱，有机碱的共轭酸的pKa为5.0〜11.0。

公开(公告)号：US08017242B2

公开(公告)日：2011-09-13

申请号：US11994313

申请日：2006-09-28

申请人： Masaki Noro ,  Hiroyuki Yoneyama

发明人： Masaki Noro ,  Hiroyuki Yoneyama

IPC分类号： B32B27/18 ,  B32B27/26 ,  B32B27/28

CPC分类号： G02B1/111 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  G02B5/3033 ,  Y10T428/3154

摘要： An antireflection film is provided and includes: a transparent support; and a low refractive index layer formed by coating a composition on the transparent support. The composition contains a fluorine-containing polymer containing a fluorine-containing vinyl monomer polymerization unit and a hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerization unit, a crosslinking agent capable of reacting with a hydroxyl group, and a salt formed from an acid and an organic base, the organic base having a pKa of a conjugate acid thereof of 5.0 to 13.0.

摘要翻译： 提供防反射膜，包括：透明支撑体; 以及通过在透明支撑体上涂覆组合物形成的低折射率层。 该组合物含有含氟乙烯基单体聚合单元和含羟基的乙烯基单体聚合单元的含氟聚合物，能与羟基反应的交联剂和由酸和有机碱形成的盐 ，有机碱的共轭酸的pKa为5.0〜13.0。

公开(公告)号：US08007878B2

公开(公告)日：2011-08-30

申请号：US11498177

申请日：2006-08-03

申请人： Hiroyuki Yoneyama ,  Masaki Noro ,  Yasuhiro Okamoto

发明人： Hiroyuki Yoneyama ,  Masaki Noro ,  Yasuhiro Okamoto

IPC分类号： G02F1/1335 ,  C08F2/50

CPC分类号： G02B1/111 ,  B32B17/10018 ,  G02B5/30 ,  G02B27/0006 ,  Y10T428/1036 ,  Y10T428/1045 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/249974 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/259 ,  Y10T428/3154 ,  Y10T428/31544 ,  Y10T428/31663

摘要： An antireflection film comprising a support and a low refractive index layer prepared by coating a coating composition containing the following components: (A) a fluorine-containing polymer, a principal chain of which is made of only carbon atoms and which contains at least one fluorine-containing vinyl monomer polymerization unit and at least one hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerization unit, wherein a content of the hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerization unit exceeds 20% by mole, provided that the polymer does not have a polysiloxane structure in the principal chain; (B) a crosslinking agent capable of reacting with a hydroxyl group; and (C) a compound containing two or more (meth)acryloyl groups in one molecule thereof.

摘要翻译： 一种防反射膜，其包含通过涂布含有以下组分的涂料组合物制备的载体和低折射率层：（A）含氟聚合物，其主链仅由碳原子组成并且含有至少一个氟 的乙烯基单体聚合单元和至少一个含羟基的乙烯基单体聚合单元，其中含羟基的乙烯基单体聚合单元的含量超过20摩尔％，条件是聚合物不含聚硅氧烷结构 主链 （B）能够与羟基反应的交联剂; 和（C）在其一个分子中含有两个以上（甲基）丙烯酰基的化合物。

公开(公告)号：US20090080073A1

公开(公告)日：2009-03-26

申请号：US11887133

申请日：2006-03-20

申请人： Kiyoshi Irita ,  Masaki Noro ,  Hiroyuki Yoneyama

发明人： Kiyoshi Irita ,  Masaki Noro ,  Hiroyuki Yoneyama

IPC分类号： G02B1/11 ,  B32B7/02 ,  C08F290/06 ,  C08L27/12

CPC分类号： G02B1/11 ,  B32B27/08 ,  C08F214/18 ,  C08F259/08 ,  C08F283/12 ,  C08F290/06 ,  C08F290/062 ,  C08F290/14 ,  C08F290/142 ,  C08K7/26 ,  C08L51/003 ,  C08L51/085 ,  C08L53/00 ,  C09D127/12 ,  C09D151/003 ,  C09D151/085 ,  C09D153/00 ,  G02B1/111 ,  Y10T428/2495 ,  C08L2666/02

摘要： An antireflection film comprising a transparent support and a low-refractivity layer as an outermost layer, the low-refractivity layer being formed by a specific fluoropolymer-containing composition, and a polarizing plate and an image display device comprising the antireflection film.

摘要翻译： 一种防反射膜，其包含透明载体和作为最外层的低折射率层，所述低折射率层由特定含氟聚合物的组合物形成，以及偏振片和包括所述抗反射膜的图像显示装置。

公开(公告)号：US08394309B2

公开(公告)日：2013-03-12

申请号：US13403357

申请日：2012-02-23

申请人： Yu Naito ,  Nobutaka Fukagawa ,  Yoshio Ishii ,  Jun Takeda ,  Akiko Watano ,  Masaki Noro ,  Masato Nagura

发明人： Yu Naito ,  Nobutaka Fukagawa ,  Yoshio Ishii ,  Jun Takeda ,  Akiko Watano ,  Masaki Noro ,  Masato Nagura

IPC分类号： B28B1/14

CPC分类号： B29C41/28 ,  B29C41/32 ,  B29K2001/00 ,  B29K2001/12 ,  B29K2033/08 ,  B29K2995/0034 ,  C08J5/18 ,  C08J2301/12 ,  C08K3/36 ,  C08K5/02 ,  C08K5/05 ,  C08K5/092 ,  C08K5/103 ,  C08K5/175 ,  C08L1/10 ,  C08L1/12 ,  C08L67/02 ,  C08L67/04 ,  C09D101/10 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  Y10T428/10 ,  Y10T428/266 ,  Y10T428/273 ,  Y10T428/277 ,  Y10T428/31692 ,  Y10T428/31703

摘要： A resin film including a resin and an organic acid represented by the following formula (1), wherein the ratio of the organic acid to the resin is from 0.1 to 20% by mass: X-L-(R1)n  Formula (1).

摘要翻译： 由下式（1）表示的树脂和有机酸的树脂膜，其中有机酸与树脂的比例为0.1〜20质量％：X-L-（R1）n式（1）。

公开(公告)号：US20120088041A1

公开(公告)日：2012-04-12

申请号：US13200985

申请日：2011-10-06

申请人： Nobutaka Fukagawa ,  Masaki Noro

发明人： Nobutaka Fukagawa ,  Masaki Noro

IPC分类号： B32B23/16 ,  C09K19/52

CPC分类号： G02B1/14 ,  B32B2457/202 ,  C08K5/3435 ,  C09K19/54 ,  G02B1/105 ,  Y10T428/105 ,  Y10T428/31971 ,  C08L1/10

摘要： A polarizer protective film having a cellulose acylate film containing a cellulose acylate and a hindered amine compound in an amount of at least 0.01% by mass relative to the cellulose acylate, and, as laminated on the cellulose acylate film, an active energy ray-curable layer, wherein the hindered amine compound has a piperidine skeleton represented by the following formula (1): wherein X represents an alkyl or aryl group; Y represents a hydrogen atom or a substituent; R1 to R4 represent an alkyl group.

摘要翻译： 一种偏光片保护膜，其具有相对于纤维素酰化物为至少0.01质量％的纤维素酰化物和受阻胺化合物的纤维素酰化物膜，并且在层叠在纤维素酰化物膜上的活性能量射线固化型 层，其中所述受阻胺化合物具有由下式（1）表示的哌啶骨架：其中X表示烷基或芳基; Y表示氢原子或取代基; R 1〜R 4表示烷基。