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    Transparent electroconductive film and touch panel
    5.
    发明授权
    Transparent electroconductive film and touch panel 失效
    透明导电膜和触摸屏

    公开(公告)号：US06787253B2

    公开(公告)日：2004-09-07

    申请号：US10156787

    申请日：2002-05-30

    申请人： Yoshinori Iwabuchi ,  Mitsuhiro Nishida ,  Yukihiro Kusano

    发明人： Yoshinori Iwabuchi ,  Mitsuhiro Nishida ,  Yukihiro Kusano

    IPC分类号： B32B900

    CPC分类号： G06F3/045 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/30 ,  Y10T428/31667 ,  Y10T428/31786

    摘要： A provided transparent electroconductive film has a polymer film and a transparent electroconductive layer deposited on the polymer film, which has no problem of damages and removal of the transparent electroconductive layer. The transparent electroconductive film has a polymer film 4 and a transparent electroconductive layer 5 deposited on the polymer film 4. A protective layer 9 made of material different from that of the transparent electroconductive layer 5 is formed on the transparent electroconductive layer 5. A touch panel has the transparent electroconductive film as an upper electrode 6A or a lower electrode.

    摘要翻译： 提供的透明导电膜具有聚合物膜和沉积在聚合物膜上的透明导电层，其没有损坏和去除透明导电层的问题。 透明导电膜具有聚合物膜4和沉积在聚合物膜4上的透明导电层5.在透明导电层5上形成由不同于透明导电层5的材料制成的保护层9。 具有作为上电极6A或下电极的透明导电膜。

    Method of producing anti-reflection film
    6.
    发明授权
    Method of producing anti-reflection film 失效
    防反射膜的制造方法

    公开(公告)号：US07351447B2

    公开(公告)日：2008-04-01

    申请号：US10804073

    申请日：2004-03-19

    申请人： Mitsuhiro Nishida ,  Yukihiro Kusano ,  Nobuko Kato

    发明人： Mitsuhiro Nishida ,  Yukihiro Kusano ,  Nobuko Kato

    IPC分类号： B05D5/06

    CPC分类号： G02B1/115 ,  G02B1/116 ,  G02B1/16 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/256 ,  Y10T428/259

    摘要： A method of producing an anti-reflection film includes forming a first layer on a transparent substrate, forming a second layer on the first layer, and forming the third layer on the second layer. When an optical admittance Y at a surface of the second layer is represented by, Y = H E = ( x + iy ) where i is the imaginary number unit, thicknesses and reflective indexes of the substrate, first layer, second layer, and third layer are selected so that x and y satisfy the following formula, 0.9x{(n2−n02)/2n0}2

    摘要翻译： 防反射膜的制造方法包括在透明基板上形成第一层，在第一层上形成第二层，在第二层上形成第三层。 当第二层的表面的光导纳Y表示为： MI> = （ x + iy ） 其中i是虚数单位，选择衬底，第一层，第二层和第三层的厚度和反射指数，使得x和y满足下列公式 ，<？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”？> 0.9x {（n 2 -n {/（N + 2）+ 2 <0 2 2 α-in-line-formula description =“In-line-formula description =”In-line-formula description =“In-line-formula description =”In- 线公式“end =”tail“？>其中n是第三层的折射率，n <0>是折射率 在防反射膜的外侧的外部区域。

      Antireflection film, electromagnetic wave shielding light transmitting window material, gas discharge type light emitting panel, flat display panel, show window material and solar cell module
      8.
      发明申请
      Antireflection film, electromagnetic wave shielding light transmitting window material, gas discharge type light emitting panel, flat display panel, show window material and solar cell module 审中-公开
      防反射膜，电磁波屏蔽透光窗材料，气体放电型发光面板，平板显示屏，展示窗材料和太阳能电池组件

      公开(公告)号：US20060269731A1

      公开(公告)日：2006-11-30

      申请号：US11449811

      申请日：2006-06-09

      申请人： Masato Yoshikawa ,  Mitsuhiro Nishida

      发明人： Masato Yoshikawa ,  Mitsuhiro Nishida

      IPC分类号： B32B7/02

      CPC分类号： B32B17/10018 ,  B32B17/10174 ,  G02B1/111 ,  G02F1/133502 ,  Y10T428/24942

      摘要： An antireflection film is formed by laminating a hard coat layer 2, a high refractive index layer 3, and a low refractive index layer 4 in that order on a transparent base film 1. Alternatively, an antireflection film is formed by laminating an electrically conductive high refractive index hard coat layer and a low refractive index layer in that order on a transparent base film. The low refractive index layer 4 is composed of a coating film cured by ultraviolet irradiation in an atmosphere having an oxygen concentration of 0 to 10,000 ppm, the coating film containing hollow silica fine particles, a polyfunctional (meth)acrylic compound, and a photopolymerization initiator.

      摘要翻译： 通过在透明基膜1上依次层叠硬涂层2，高折射率层3和低折射率层4而形成防反射膜。或者，通过层叠导电性高 折射率硬涂层和低折射率层。 低折射率层4由在氧浓度为0〜10,000ppm的气氛中通过紫外线照射而固化的涂膜，含有中空二氧化硅微粒的涂膜，多官能（甲基）丙烯酸类化合物和光聚合引发剂 。

      Antireflection film
      9.
      发明授权
      Antireflection film 失效
      防反射膜

      公开(公告)号：US06899957B2

      公开(公告)日：2005-05-31

      申请号：US09987971

      申请日：2001-11-16

      申请人： Mitsuhiro Nishida ,  Shingo Ohno ,  Masato Yoshikawa ,  Nobuko Kato

      发明人： Mitsuhiro Nishida ,  Shingo Ohno ,  Masato Yoshikawa ,  Nobuko Kato

      IPC分类号： B32B7/02 ,  G02B1/11 ,  G02B1/111 ,  G02B1/14 ,  G02B1/16 ,  G09F9/00 ,  B32B27/14

      CPC分类号： G02B1/111 ,  G02B1/116 ,  G02B1/14 ,  G02F2201/38 ,  Y10T428/1059 ,  Y10T428/1064 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/31518 ,  Y10T428/31786

      摘要： An antireflection film is formed of an organic film, and a hard-coating layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer laminated in this order on the organic film. The high refractive index layer is formed of metal oxide particles of ITO with electrical conductivity and TiO2 with high refractive index, and synthetic resin. A volume percentage of the TiO2 particles to a total volume of the TiO2 and ITO particles in the high refractive index layer is 1 to 60%, and a volume percentage of the metal oxide particles to a total volume of the metal oxide particles and the synthetic resin is 20% or more.

      摘要翻译： 防反射膜由有机膜和有机膜上依次层叠的硬涂层，高折射率层和低折射率层形成。 高折射率层由具有导电性的ITO的金属氧化物颗粒和具有高折射率的TiO 2和合成树脂形成。 TiO 2颗粒相对于高折射率层中的TiO 2和ITO颗粒的总体积的体积百分比为1〜60％，体积百分比为 金属氧化物粒子与金属氧化物粒子和合成树脂的总体积为20％以上。

      Antireflection film
      10.
      发明授权
      Antireflection film 失效
      防反射膜

      公开(公告)号：US06884495B2

      公开(公告)日：2005-04-26

      申请号：US09837618

      申请日：2001-04-19

      申请人： Mitsuhiro Nishida ,  Shingo Ohno ,  Masato Yoshikawa ,  Nobuko Kato

      发明人： Mitsuhiro Nishida ,  Shingo Ohno ,  Masato Yoshikawa ,  Nobuko Kato

      IPC分类号： G02B1/11 ,  B32B25/10 ,  B32B3/26 ,  B32B5/16 ,  B32B9/00 ,  C09K19/00

      CPC分类号： G02B1/111 ,  Y10T428/1059 ,  Y10T428/1064 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/249939 ,  Y10T428/249953 ,  Y10T428/24998 ,  Y10T428/25

      摘要： An antireflection film is formed of an organic film, a hard hard coating layer on the organic film, a first layer coated on the hard coating layer, and a second layer having an index of refraction lower than that of the first layer and coated on the first layer. The first layer is formed of a synthetic resin having pores therein and metallic oxide particles contained in the synthetic resin. The metallic oxide is at least on selected from the group consisting of ZrO1, TiO2, NbO, ITO, ATO, SbO2, In2O3, SnO2 and ZnO. The synthetic resin is ultraviolet ray curable resin or electron beam curable resin. The second layer partly enters the pores of the first layer to firmly bond to the first layer through the pores.

      摘要翻译： 防反射膜由有机膜，有机膜上的硬硬涂层，涂覆在硬涂层上的第一层和折射率低于第一层的第二层形成，并涂覆在第一层上 第一层 第一层由其中具有孔的合成树脂和合成树脂中所含的金属氧化物颗粒形成。 金属氧化物至少选自ZrO 1，TiO 2，NbO，ITO，ATO，SbO 2，In 2 O 3，N 2 O 3和ZnO。 合成树脂是紫外线固化树脂或电子束固化树脂。 第二层部分地进入第一层的孔，以通过孔与第一层牢固结合。