公开(公告)号：US07090716B2

公开(公告)日：2006-08-15

申请号：US10677639

申请日：2003-10-02

申请人： Ian M. McMackin ,  Nicholas A. Stacey ,  Daniel A. Babbs ,  Duane J. Voth ,  Michael P. C. Watts ,  Van N. Truskett ,  Frank Y. Xu ,  Ronald D. Voisin ,  Pankaj B. Lad

发明人： Ian M. McMackin ,  Nicholas A. Stacey ,  Daniel A. Babbs ,  Duane J. Voth ,  Michael P. C. Watts ,  Van N. Truskett ,  Frank Y. Xu ,  Ronald D. Voisin ,  Pankaj B. Lad

IPC分类号： B01D19/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  Y10S425/06 ,  Y10S425/815 ,  Y10S438/909

摘要： The present invention is directed toward a method for reducing pattern distortions in imprinting layers by reducing gas pockets present in a layer of viscous liquid deposited on a substrate. To that end, the method includes varying a transport of the gases disposed proximate to the viscous liquid. Specifically, the atmosphere proximate to the substrate wherein a pattern is to be recorded is saturated with gases that are either highly soluble, highly diffusive, or both with respect to the viscous liquid being deposited. Additionally, or in lieu of saturating the atmosphere, the pressure of the atmosphere may be reduced.

摘要翻译： 本发明涉及通过减少存在于沉积在基底上的粘性液体层中的气穴来减少压印层中的图案失真的方法。 为此，该方法包括改变靠近粘性液体设置的气体的输送。 具体地，其中待记录图案的基板附近的气氛相对于被沉积的粘性液体是高度可溶的，高度扩散的或者两者都被饱和。 另外，或者代替饱和气氛，可以降低气氛的压力。

公开(公告)号：US07939131B2

公开(公告)日：2011-05-10

申请号：US10919224

申请日：2004-08-16

申请人： Frank Y. Xu ,  Christopher J. Mackay ,  Pankaj B. Lad ,  Ian M. McMackin ,  Van N. Truskett ,  Wesley D. Martin ,  Edward B. Fletcher ,  David C. Wang ,  Nicholas A. Stacey ,  Michael P. C. Watts

发明人： Frank Y. Xu ,  Christopher J. Mackay ,  Pankaj B. Lad ,  Ian M. McMackin ,  Van N. Truskett ,  Wesley D. Martin ,  Edward B. Fletcher ,  David C. Wang ,  Nicholas A. Stacey ,  Michael P. C. Watts

IPC分类号： B05D3/12

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  Y10T428/1386

摘要： The present invention includes a method and a composition to form a layer on a substrate having uniform etch characteristics. To that end, the method includes controlling variations in the characteristics of a solid layer, such etch characteristics over the area of the solid layer as a function of the relative rates of evaporation of the liquid components that comprise the composition from which the solid layer is formed.

摘要翻译： 本发明包括在具有均匀蚀刻特性的基底上形成层的方法和组合物。 为此，该方法包括控制固体层的特性的变化，这种固体层面积上的这种蚀刻特性是构成组合物的液体组分的相对蒸发速率的函数的函数，其中固体层是固体层 形成。

公开(公告)号：US07019835B2

公开(公告)日：2006-03-28

申请号：US10782187

申请日：2004-02-19

申请人： Ian M. McMackin ,  Phillip D. Schumaker ,  Byung-Jin Choi ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  Michael P. C. Watts

发明人： Ian M. McMackin ,  Phillip D. Schumaker ,  Byung-Jin Choi ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  Michael P. C. Watts

IPC分类号： G01B11/00 ,  G03F1/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B29C43/003 ,  B29C2043/025 ,  B81C1/0046 ,  B81C99/004 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G01N21/8422 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/7065

摘要： The present invention is directed to providing a method and system to measure characteristics of a film disposed on a substrate. The method includes identifying a plurality of processing regions on the film; measuring characteristics of a subset of the plurality of processing regions, defining measured characteristics; determining a variation of one of the measured characteristics; and associating a cause of the variations based upon a comparison of the one of the measured characteristics to measured characteristics associated with the remaining processing regions of the subset. The system carries out the aforementioned method.

摘要翻译： 本发明旨在提供一种测量设置在基底上的膜的特性的方法和系统。 该方法包括识别胶片上的多个处理区域; 测量所述多个处理区域的子集的特征，定义测量的特征; 确定测量特征之一的变化; 并且基于所测量的特征之一与与所述子集的剩余处理区域相关联的测量特征的比较来将所述变化的原因相关联。 系统执行上述方法。

公开(公告)号：US07281921B2

公开(公告)日：2007-10-16

申请号：US11347198

申请日：2006-02-03

申请人： Michael P. C. Watts ,  Ian M. McMackin

发明人： Michael P. C. Watts ,  Ian M. McMackin

IPC分类号： B29C43/58 ,  B29C59/00 ,  G01B11/00

CPC分类号： B29C35/0888 ,  B29C59/022 ,  B29C59/026 ,  B29C2035/0827 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/00

摘要： Described are methods for patterning a substrate by imprint lithography. Imprint lithography is a process in which a liquid is dispensed onto a substrate. A template is brought into contact with the liquid and the liquid is cured. The cured liquid includes an imprint of any patterns formed in the template. Alignment of the template with a previously formed layer on a substrate, in one embodiment, is accomplished by using scatterometry.

摘要翻译： 描述了通过压印光刻图案化衬底的方法。 压印光刻是将液体分配到基板上的过程。 使模板与液体接触并且液体被固化。 固化液体包括在模板中形成的任何图案的印记。 在一个实施例中，模板与衬底上预先形成的层的对准通过使用散射测量来实现。

公开(公告)号：US07309225B2

公开(公告)日：2007-12-18

申请号：US10917761

申请日：2004-08-13

申请人： Ian M. McMackin ,  Pankaj B. Lad

发明人： Ian M. McMackin ,  Pankaj B. Lad

IPC分类号： B29C59/16 ,  B29C35/08

CPC分类号： G03F9/7084 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/7076 ,  Y10S425/81

摘要： The present invention is directed to a body having a first area and a second area separated by a recess. The recess is dimensioned to reduce, if not prevent, a liquid moving along a surface of the body from traveling between the first and second areas. One or more alignment marks may be positioned within one of the first and second areas. In this manner, the recess functions as a moat by reducing, if not preventing, a quantity of the liquid from being in superimposition with the alignment marks.

摘要翻译： 本发明涉及具有由凹部分开的第一区域和第二区域的主体。 凹部的尺寸被设计成减小（如果不是防止）沿着身体的表面移动的液体在第一和第二区域之间行进。 一个或多个对准标记可以位于第一和第二区域之一内。 以这种方式，通过减少（如果不防止）一定量的液体与对准标记重叠，凹槽用作护城河。

公开(公告)号：US07281919B2

公开(公告)日：2007-10-16

申请号：US11101139

申请日：2005-04-07

申请人： Steven C. Shackleton ,  Ian M. McMackin ,  Pankaj B. Lad ,  Van N. Truskett

发明人： Steven C. Shackleton ,  Ian M. McMackin ,  Pankaj B. Lad ,  Van N. Truskett

IPC分类号： B29C31/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  Y10S977/887

摘要： A system for controlling a volume of liquid on a mold that features a body defining a volume with an aperture formed into the body and positioned proximate to the mold. A pump system is in fluid communication with the body, and the aperture and the pump system are established to create a stream of fluid moving between the mold and the volume. In this manner a quantity of fluid is removed while retained upon the mold is a desired portion of the fluid to undertake imprint lithographic processes.

摘要翻译： 一种用于控制模具上的液体体积的系统，其特征在于，具有限定体积的主体，所述体积具有形成在所述主体中并且定位成靠近所述模具的孔。 泵系统与主体流体连通，并且孔和泵系统被建立以产生在模具和体积之间移动的流体流。 以这种方式，除去一定量的流体，同时保留在模具上是流体的期望部分以进行压印光刻工艺。

公开(公告)号：US20110031651A1

公开(公告)日：2011-02-10

申请号：US12905192

申请日：2010-10-15

申请人： Frank Y. Xu ,  Pankaj B. Lad ,  Ian M. McMackin ,  Van N. Truskett ,  Edward B. Fletcher

发明人： Frank Y. Xu ,  Pankaj B. Lad ,  Ian M. McMackin ,  Van N. Truskett ,  Edward B. Fletcher

IPC分类号： B29C59/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B41C1/10 ,  B41M7/0072 ,  B41M7/0081 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  Y10S977/887

摘要： Improved wetting characteristics together with improved release characteristics with respect to a substrate and an imprint lithography mold having imprinting material disposed therebetween.

摘要翻译： 改进的润湿特性以及相对于基底的改进的剥离特性和其间设置有压印材料的压印光刻模具。

公开(公告)号：US08850980B2

公开(公告)日：2014-10-07

申请号：US11694612

申请日：2007-03-30

申请人： Sidlgata V. Sreenivasan ,  Philip D. Schumaker ,  Ian M. McMackin

发明人： Sidlgata V. Sreenivasan ,  Philip D. Schumaker ,  Ian M. McMackin

IPC分类号： B29C59/02 ,  H01L21/02 ,  G03F9/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/00 ,  G03B27/42 ,  G03B27/62 ,  B82Y10/00

CPC分类号： G03B27/62 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03B27/42 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7084

摘要： The present invention is directed towards a choice of the shape of the patterned fields for Level 0 (patterned by imprint or photolithography or e-beam, etc.) and Level 1 (patterned by imprint) such that these shapes when tessellated together eliminate the open areas causes by the moats.

摘要翻译： 本发明涉及用于0级（通过压印或光刻或电子束等图案化）和1级（通过印记图案化）的图案化场的形状的选择，使得这些形状在细分时一起消除开路 地区由护城河引起。

公开(公告)号：US20100278954A1

公开(公告)日：2010-11-04

申请号：US12835018

申请日：2010-07-13

申请人： Sidlgata V. Sreenivasan ,  Ian M. McMackin ,  Christopher Mark Melliar-Smith ,  Byung-Jin Choi

发明人： Sidlgata V. Sreenivasan ,  Ian M. McMackin ,  Christopher Mark Melliar-Smith ,  Byung-Jin Choi

IPC分类号： B28B11/08

CPC分类号： B29C43/021 ,  B29C43/003 ,  B29C43/58 ,  B29C2043/025 ,  B29C2043/142 ,  B29C2043/5825 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/703 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/708 ,  G03F9/7084 ,  Y10S977/887

摘要： Imprint lithography templates for patterning substrates are described. The templates include a section having a mold a first pattern of alignment forming areas and template alignment marks. The additional sections are generally devoid of a mold. One or more of the additional section may include the first pattern of a second pattern of alignment forming areas and template alignment marks. The second pattern may correspond to the first pattern.

摘要翻译： 描述用于图案化基板的印刷光刻模板。 模板包括具有模具的部分，其具有对准形成区域的第一图案和模板对准标记。 附加部分通常没有模具。 附加部分中的一个或多个可以包括对准形成区域和模板对准标记的第二图案的第一图案。 第二图案可以对应于第一图案。

公开(公告)号：US20090256289A1

公开(公告)日：2009-10-15

申请号：US12488642

申请日：2009-06-22

申请人： Steven C. Shackleton ,  Pankaj B. Lad ,  Ian M. McMackin ,  Frank Y. Xu ,  Sidlgata V. Sreenivasan

发明人： Steven C. Shackleton ,  Pankaj B. Lad ,  Ian M. McMackin ,  Frank Y. Xu ,  Sidlgata V. Sreenivasan

IPC分类号： B29C35/08

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B29C43/003 ,  B29C43/021 ,  B29C43/34 ,  B29C2043/025 ,  B29C2043/142 ,  B29C2043/3438 ,  B29K2105/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： A method/process for curing imprint on a template prior to contact with a substrate. A curing process is used to adhere the imprint to a wafer or substrate. Monomer is deposited on a template and then partially cured using a UV exposure. The exposure is controlled so that the imprint is cured past the gel point, but still retains a thin liquid layer of uncured monomer at the surface that will bond with the wafer. Further, this partially cured layer enables the alignment adjustments between the template and the substrate to be performed after contact between the two without pulling any monomer out of the features.

摘要翻译： 在与基底接触之前在模板上固化印模的方法/方法。 使用固化过程将印记粘附到晶片或基板上。 将单体沉积在模板上，然后使用UV曝光部分固化。 控制曝光使得印迹经过凝胶点固化，但仍然保留在将与晶片结合的表面上的未固化单体的薄液体层。 此外，这种部分固化的层使得能够在两者之间接触之后进行模板和基板之间的对准调整，而不将任何单体拉出特征。