利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

22 条记录 (耗时 0.034 秒)

    Nano-Imprint Lithography Template with Ordered Pore Structure
    4.
    发明申请
    Nano-Imprint Lithography Template with Ordered Pore Structure 审中-公开
    具有有序孔结构的纳米压印光刻模板

    公开(公告)号：US20100109201A1

    公开(公告)日：2010-05-06

    申请号：US12609808

    申请日：2009-10-30

    申请人： Edward Brian Fletcher ,  Frank Y. Xu ,  Weijun Liu ,  Marlon Menezes

    发明人： Edward Brian Fletcher ,  Frank Y. Xu ,  Weijun Liu ,  Marlon Menezes

    IPC分类号： B29C41/42 ,  B32B3/26 ,  B32B5/00 ,  B44C1/22

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/249953

    摘要： A nano-imprint lithography template includes a non-porous base layer, a cap layer, and a porous layer between the base layer and the cap layer. The porous layer defines a multiplicity of pores and has an ordered pore structure. The cap layer is permeable to helium, and the pores in the porous layer are configured to accept gas passing through the cap layer during an imprint lithography process. The porous layer provides high porosity with a Young's modulus and hardness that are advantageous for imprint lithography processes.

    摘要翻译： 纳米压印光刻模板包括在基层和盖层之间的无孔基层，盖层和多孔层。 多孔层限定多个孔并具有有序孔结构。 盖层对氦是可渗透的，并且多孔层中的孔构造成在压印光刻过程中接受通过盖层的气体。 多孔层提供具有杨氏模量和硬度的高孔隙率，其有利于压印光刻工艺。

    Fabrication of High-Throughput Nano-Imprint Lithography Templates
    5.
    发明申请
    Fabrication of High-Throughput Nano-Imprint Lithography Templates 审中-公开
    高通量纳米压印光刻模板的制作

    公开(公告)号：US20140212534A1

    公开(公告)日：2014-07-31

    申请号：US13754015

    申请日：2013-01-30

    申请人： Edward B. Fletcher ,  Frank Y. Xu ,  Weijun Liu ,  Fen Wan ,  Marlon Menezes ,  Kosta S. Selinidis

    发明人： Edward B. Fletcher ,  Frank Y. Xu ,  Weijun Liu ,  Fen Wan ,  Marlon Menezes ,  Kosta S. Selinidis

    IPC分类号： B29C59/02 ,  C23C16/40

    CPC分类号： C23C16/401 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

    摘要： An imprint lithography template includes a porous material defining a multiplicity of pores with an average pore size of at least about 0.4 nm. The porous material includes silicon and oxygen, and a ratio of Young's modulus (E) to relative density of the porous material with respect to fused silica (ρporous/ρfused silica) is at least about 10:1. A refractive index of the porous material is between about 1.4 and 1.5. The porous material may form an intermediate layer or a cap layer of an imprint lithography template. The template may include a pore seal layer between a porous layer and a cap layer, or a pore seal layer on top of a cap layer.

    摘要翻译： 压印光刻模板包括限定平均孔径至少约0.4nm的多个孔的多孔材料。 多孔材料包括硅和氧，并且杨氏模量（E）与多孔材料相对于熔融二氧化硅（“多孔/熔融二氧化硅”）的相对密度之比至少为约10:1。 多孔材料的折射率在约1.4和1.5之间。 多孔材料可以形成压印光刻模板的中间层或盖层。 模板可以包括在多孔层和盖层之间的孔密封层，或者在盖层的顶部上的孔密封层。

    SOLAR CELL FABRICATION BY NANOIMPRINT LITHOGRAPHY
    7.
    发明申请
    SOLAR CELL FABRICATION BY NANOIMPRINT LITHOGRAPHY 审中-公开
    太阳能电池制造NANOIMPRINT LITHOGRAPHY

    公开(公告)号：US20110180127A1

    公开(公告)日：2011-07-28

    申请号：US13016006

    申请日：2011-01-28

    申请人： Fen Wan ,  Shuqiang Yang ,  Frank Y. Xu ,  Weijun Liu ,  Edward Brian Fletcher ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  Michael N. Miller ,  Darren D. Donaldson

    发明人： Fen Wan ,  Shuqiang Yang ,  Frank Y. Xu ,  Weijun Liu ,  Edward Brian Fletcher ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  Michael N. Miller ,  Darren D. Donaldson

    IPC分类号： H01L31/02 ,  H01L31/0232

    CPC分类号： H01L51/4213 ,  B82Y10/00 ,  H01L51/0017 ,  H01L51/0037 ,  H01L51/0047 ,  H01L51/442 ,  H01L51/447 ,  Y02E10/549

    摘要： Fabricating a solar cell stack includes forming a nanopatterned polymeric layer on a first surface of a silicon wafer and etching the first surface of the silicon wafer to transfer a pattern of the nanopatterned polymeric layer to the first surface of the silicon wafer. A layer of reflective electrode material is formed on a second surface of the silicon wafer. The nanopatterned first surface of the silicon wafer undergoes a buffered oxide etching. After the buffered oxide etching, the nanopatterned first surface of the silicon wafer is treated to decrease a contact angle of water on the nanopatterned first surface. Electron donor material is deposited on the nanopatterned first surface of the silicon wafer to form an electron donor layer, and a transparent electrode material is deposited on the electron donor layer to form a transparent electrode layer on the electron donor layer.

    摘要翻译： 制造太阳能电池堆包括在硅晶片的第一表面上形成纳米图案的聚合物层并蚀刻硅晶片的第一表面以将纳米图案化的聚合物层的图案转移到硅晶片的第一表面。 在硅晶片的第二表面上形成反射电极材料层。 硅晶片的纳米图案化的第一表面经历缓冲氧化物蚀刻。 在缓冲氧化物蚀刻之后，处理硅晶片的纳米图案化的第一表面以降低纳米图案化的第一表面上的水的接触角。 电子给体材料沉积在硅晶片的纳米图案化的第一表面上以形成电子供体层，并且在电子给体层上沉积透明电极材料，以在电子给体层上形成透明电极层。

    Solvent-Assisted Layer Formation for Imprint Lithography
    9.
    发明申请
    Solvent-Assisted Layer Formation for Imprint Lithography 有权
    溶剂辅助层形成印刷光刻

    公开(公告)号：US20080308971A1

    公开(公告)日：2008-12-18

    申请号：US12139911

    申请日：2008-06-16

    申请人： Weijun Liu ,  Frank Y. Xu ,  Edward Brian Fletcher

    发明人： Weijun Liu ,  Frank Y. Xu ,  Edward Brian Fletcher

    IPC分类号： B29C59/02 ,  C08L67/00

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

    摘要： A solid layer is formed by applying a multiplicity of discrete portions of a fluid composition onto a surface of an imprint lithography substrate, and allowing the discrete portions of the composition to spontaneously spread on the surface of the substrate to form a substantially continuous layer. The composition includes a solvent and a solid or a solvent and a polymerizable material. The composition can be a solution or a dispersion. At least some of the solvent is evaporated from the composition, and a solid layer is formed (e.g., polymerized or dried) on the substrate. The solid layer is substantially free of interstitial voids.

    摘要翻译： 通过将多个离散部分的流体组合物施加到压印光刻基板的表面上并使组合物的离散部分自发地扩散在基板的表面上以形成基本上连续的层而形成固体层。 该组合物包括溶剂和固体或溶剂以及可聚合材料。 组合物可以是溶液或分散体。 至少一些溶剂从组合物中蒸发，并在基材上形成固体层（例如聚合或干燥）。 固体层基本上不含间隙。

    Solvent-assisted layer formation for imprint lithography
    10.
    发明授权
    Solvent-assisted layer formation for imprint lithography 有权
    用于压印光刻的溶剂辅助层形成

    公开(公告)号：US08142702B2

    公开(公告)日：2012-03-27

    申请号：US12139911

    申请日：2008-06-16

    申请人： Weijun Liu ,  Frank Y. Xu ,  Edward Brian Fletcher

    发明人： Weijun Liu ,  Frank Y. Xu ,  Edward Brian Fletcher

    IPC分类号： B29C59/00 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

    摘要： A solid layer is formed by applying a multiplicity of discrete portions of a fluid composition onto a surface of an imprint lithography substrate, and allowing the discrete portions of the composition to spontaneously spread on the surface of the substrate to form a substantially continuous layer. The composition includes a solvent and a solid or a solvent and a polymerizable material. The composition can be a solution or a dispersion. At least some of the solvent is evaporated from the composition, and a solid layer is formed (e.g., polymerized or dried) on the substrate. The solid layer is substantially free of interstitial voids.

    摘要翻译： 通过将多个离散部分的流体组合物施加到压印光刻基板的表面上并使组合物的离散部分自发地扩散在基板的表面上以形成基本上连续的层而形成固体层。 该组合物包括溶剂和固体或溶剂以及可聚合材料。 组合物可以是溶液或分散体。 至少一些溶剂从组合物中蒸发，并在基材上形成固体层（例如聚合或干燥）。 固体层基本上不含间隙。