公开(公告)号：US08487900B2

公开(公告)日：2013-07-16

申请号：US12545859

申请日：2009-08-23

申请人： Po-Chia Chiu ,  Shih-Yu Hsu ,  Yung-Cheng Chen

发明人： Po-Chia Chiu ,  Shih-Yu Hsu ,  Yung-Cheng Chen

IPC分类号： G06F3/045

CPC分类号： G06F3/0412 ,  G06F3/044

摘要： An LCD and a touch display panel that can be integrated in the LCD are provided. The touch display panel comprises an active device matrix substrate that includes multiple sensing lines disposed on multiple data lines correspondingly and arranged parallel thereto, and multiple sensing devices formed on multiple scan lines. When an external pressure is exerted, a current is generated in the sensing lines, and the X and Y coordinates of the touch point is determined from a slight leakage current generated in the scan lines. The conventional external touch screen LCD device is substantially improved in response accuracy of the touch coordinates, material costs, and mechanical thickness.

摘要翻译： 提供可以集成在LCD中的LCD和触摸显示面板。 触摸显示面板包括有源器件矩阵基板，该有源器件矩阵基板包括与多个数据线相对并且平行设置的多个感测线，以及形成在多个扫描线上的多个感测装置。 当施加外部压力时，在感测线中产生电流，并且由扫描线中产生的轻微的泄漏电流确定触摸点的X和Y坐标。 常规的外部触摸屏LCD装置在触摸坐标，材料成本和机械厚度的响应精度方面大大提高。

公开(公告)号：US20100164884A1

公开(公告)日：2010-07-01

申请号：US12545859

申请日：2009-08-23

申请人： Po-Chia Chiu ,  Shih-Yu Hsu ,  Yung-Cheng Chen

发明人： Po-Chia Chiu ,  Shih-Yu Hsu ,  Yung-Cheng Chen

IPC分类号： G06F3/041 ,  G09G3/36

CPC分类号： G06F3/0412 ,  G06F3/044

摘要： An LCD and a touch display panel that can be integrated in the LCD are provided. The touch display panel comprises an active device matrix substrate that includes multiple sensing lines disposed on multiple data lines correspondingly and arranged parallel thereto, and multiple sensing devices formed on multiple scan lines. When an external pressure is exerted, a current is generated in the sensing lines, and the X and Y coordinates of the touch point is determined from a slight leakage current generated in the scan lines. The conventional external touch screen LCD device is substantially improved in response accuracy of the touch coordinates, material costs, and mechanical thickness.

摘要翻译： 提供可以集成在LCD中的LCD和触摸显示面板。 触摸显示面板包括有源器件矩阵基板，该有源器件矩阵基板包括与多个数据线相对并且平行设置的多个感测线，以及形成在多个扫描线上的多个感测装置。 当施加外部压力时，在感测线中产生电流，并且由扫描线中产生的轻微的泄漏电流确定触摸点的X和Y坐标。 常规的外部触摸屏LCD装置在触摸坐标，材料成本和机械厚度的响应精度方面大大提高。

公开(公告)号：US08843860B2

公开(公告)日：2014-09-23

申请号：US13409517

申请日：2012-03-01

申请人： Chin-Ming Lin ,  Chia-hung Huang ,  Chi-Ming Yang ,  Chin-Hsiang Lin ,  Yung-Cheng Chen ,  Chih-Wei Lin

发明人： Chin-Ming Lin ,  Chia-hung Huang ,  Chi-Ming Yang ,  Chin-Hsiang Lin ,  Yung-Cheng Chen ,  Chih-Wei Lin

IPC分类号： G06F17/50 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70433

摘要： A method includes establishing an initial shot layout in which a number of shots are arranged in vertically aligned columns and horizontally aligned rows to cover a semiconductor wafer. At least one of a row of shots or a column of shots is shifted relative to an adjacent row or column of shots to establish at least one additional shot layout that differs from the initial shot layout in that shots in the at least one shifted row or column of shots are not aligned with the shots in the adjacent row or column of shots with which they were aligned in the initial shot layout. One of the initial shot layout and the at least one additional shot layout is selected as a final shot layout. The wafer is exposed to light using the final shot layout.

摘要翻译： 一种方法包括建立初始照片布局，其中多个照片布置在垂直排列的列和水平排列的行中以覆盖半导体晶片。 一排照片或一列照片中的至少一列相对于相邻的行或列发射位移，以建立与至少一个移位行中的拍摄中的初始镜头布局不同的至少一个附加镜头布局，或 一列照片不与在初始镜头布局中对齐的相邻行或照片列中的镜头对齐。 选择初始镜头布局和至少一个附加镜头布局之一作为最终镜头布局。 使用最终镜头布局将晶片曝光。

公开(公告)号：US20110128481A1

公开(公告)日：2011-06-02

申请号：US12779915

申请日：2010-05-13

申请人： Chih-Wei Lin ,  Min-Cheng Wang ,  Yung-Cheng Chen ,  Hung-Min Liu

发明人： Chih-Wei Lin ,  Min-Cheng Wang ,  Yung-Cheng Chen ,  Hung-Min Liu

IPC分类号： G02F1/1335 ,  G02F1/167 ,  G01B11/00

CPC分类号： G01B11/24 ,  G01B5/061 ,  G01B11/00 ,  G01B11/02 ,  G01B11/0608 ,  G01B11/08 ,  G01B17/02 ,  G02F1/133512 ,  G02F1/13394 ,  G03F7/70625

摘要： A display device and a method of measuring a surface structure of the same are provided. The display device includes first and second substrates, first and second patterned light-shielding layers, and first and second pixel units. The first patterned light-shielding layer disposed on a surface of the first substrate includes first openings. The second patterned light-shielding layer disposed on the surface of the first substrate in the first patterned light-shielding layer includes second openings. The first pixel unit includes first and second protrusions. The first protrusion correspondingly covers the first openings and a portion of the first patterned light-shielding layer. The second protrusion is disposed in the first and second patterned light-shielding layers. The second pixel unit includes a third protrusion correspondingly covering the second openings and a portion of the second patterned light-shielding layer, wherein sizes of the second openings are smaller than sizes of the first openings.

摘要翻译： 提供显示装置和测量其表面结构的方法。 显示装置包括第一和第二基板，第一和第二图案化遮光层以及第一和第二像素单元。 设置在第一基板的表面上的第一图案化遮光层包括第一开口。 设置在第一图案化遮光层中的第一基板的表面上的第二图案遮光层包括第二开口。 第一像素单元包括第一和第二突起。 第一突起相应地覆盖第一开口和第一图案化遮光层的一部分。 第二突起设置在第一和第二图案化的遮光层中。 第二像素单元包括对应地覆盖第二开口的第三突起和第二图案化遮光层的一部分，其中第二开口的尺寸小于第一开口的尺寸。

公开(公告)号：US20050197721A1

公开(公告)日：2005-09-08

申请号：US10783495

申请日：2004-02-20

申请人： Yung-Cheng Chen ,  You-Wei Shen ,  Chun-Ming Hu

发明人： Yung-Cheng Chen ,  You-Wei Shen ,  Chun-Ming Hu

IPC分类号： G05B13/02

CPC分类号： G05B13/042

摘要： A method for controlling exposure energy on a wafer substrate, with a feedback process control signal of wafer thickness critical dimension, and with a feed forward process control signal of a compensation amount that compensates for thickness variations of an interlayer of the wafer substrate.

摘要翻译： 一种用于利用晶片厚度临界尺寸的反馈过程控制信号以及用于补偿晶片衬底的中间层的厚度变化的补偿量的前馈过程控制信号来控制晶片衬底上的曝光能量的方法。

公开(公告)号：US07795601B2

公开(公告)日：2010-09-14

申请号：US11421590

申请日：2006-06-01

申请人： Chin-Hsiang Lin ,  Jui-Chung Peng ,  Yung-Cheng Chen ,  Shy-Jay Lin

发明人： Chin-Hsiang Lin ,  Jui-Chung Peng ,  Yung-Cheng Chen ,  Shy-Jay Lin

IPC分类号： C12Q1/68 ,  H01J40/00

CPC分类号： G03F7/70991 ,  G03F7/70466

摘要： The present disclosure provides a lithography apparatus with improved lithography throughput. The lithography apparatus includes a first lens system; a first substrate stage configured to receive a first radiation energy from the first lens system, and designed operable to move a substrate during an exposing process; a second lens system, having a higher resolution than that of the first lens system; and a second substrate stage approximate to the first substrate stage and configured to receive a second radiation energy from the second lens system, and designed operable to receive the substrate from the first substrate stage and move the substrate.

摘要翻译： 本公开提供了具有改进的光刻产量的光刻设备。 光刻设备包括第一透镜系统; 第一衬底台，被配置为从所述第一透镜系统接收第一辐射能量，并且被设计为可操作以在曝光过程期间移动衬底; 第二透镜系统，具有比第一透镜系统更高的分辨率; 以及第二衬底台，其近似于所述第一衬底台并且被配置为从所述第二透镜系统接收第二辐射能量，并且被设计为可操作以从所述第一衬底台接收所述衬底并移动所述衬底。

公开(公告)号：US08544317B2

公开(公告)日：2013-10-01

申请号：US12576526

申请日：2009-10-09

申请人： Yu-Fu Lin ,  Yung-Cheng Chen ,  Heng-Jen Lee ,  Chin-Hsiang Lin

发明人： Yu-Fu Lin ,  Yung-Cheng Chen ,  Heng-Jen Lee ,  Chin-Hsiang Lin

IPC分类号： B23Q17/09 ,  G01N19/02

CPC分类号： H01L21/68785 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70766 ,  H01J37/3174 ,  H01L21/68

摘要： A method and apparatus provide for simultaneously moving multiple semiconductor wafers in opposite directions while simultaneously performing processing operations on each of the wafers. The semiconductor wafers are orientated in coplanar fashion and are disposed on stages that simultaneously translate in opposite directions to produce a net system momentum of zero. The die of the respective semiconductor wafers are processed in the same spatial sequence with respect to a global alignment feature of the semiconductor wafer. A balance mass is not needed to counteract the motion of a stage because the opposite motions of the respective stages cancel each other.

摘要翻译： 一种方法和装置提供同时在相反方向上移动多个半导体晶片，同时对每个晶片执行处理操作。 半导体晶片以共面方式取向，并且设置在同时沿相反方向平移的阶段上，以产生零的系统动量。 相对于半导体晶片的全局对准特征，对相应的半导体晶片的管芯进行相同的空间序列处理。 不需要平衡质量来抵消舞台的运动，因为各个舞台的相反运动彼此抵消。

公开(公告)号：US07789576B2

公开(公告)日：2010-09-07

申请号：US11740129

申请日：2007-04-25

申请人： Feng-Ning Lee ,  Yung-Cheng Chen ,  Yao-Hwan Kao ,  Li-Jen Ko ,  Chin-Hsiang Lin

发明人： Feng-Ning Lee ,  Yung-Cheng Chen ,  Yao-Hwan Kao ,  Li-Jen Ko ,  Chin-Hsiang Lin

IPC分类号： G03D5/00 ,  G03B27/32 ,  G03F1/00

CPC分类号： G03F7/70991 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67748

摘要： The present disclosure provides a lithography apparatus. The apparatus includes an exposure module designed for exposure processing; a baking module embedded in the exposure module and designed for post exposure baking (PEB); and a control module designed to control the exposure module and the baking module.

摘要翻译： 本公开提供一种光刻设备。 该装置包括设计用于曝光处理的曝光模块; 嵌入曝光模块中的烘烤模块，用于后曝光烘烤（PEB）; 以及设计用于控制曝光模块和烘焙模块的控制模块。

公开(公告)号：US6148838A

公开(公告)日：2000-11-21

申请号：US86049

申请日：1997-05-28

申请人： Jyh-Yeong Tsay ,  Yung-Cheng Chen

发明人： Jyh-Yeong Tsay ,  Yung-Cheng Chen

IPC分类号： B67D7/02 ,  B67D7/32 ,  B67D7/78 ,  G05D9/12 ,  F16K31/02 ,  F16K31/12

CPC分类号： B67D7/02 ,  B67D1/0871 ,  B67D7/0283 ,  B67D7/32 ,  B67D7/78 ,  G05D9/12 ,  Y10T137/0324 ,  Y10T137/7303 ,  Y10T137/7306 ,  Y10T137/7313 ,  Y10T137/8342

摘要： The present invention discloses an automated processing liquid drain system that utilizes a series of processing liquid drain tanks and at least two waste collection tanks that are in fluid communication with the processing liquid drain tanks such that when a high liquid level sensor mounted on the drain tank is activated, the spent processing liquid collected from processing machines can be transferred to one of the waste collection tanks and thus preventing overflow in the processing liquid drain tanks.

摘要翻译： 本发明公开了一种自动化处理液体排放系统，其利用一系列处理液体排放罐和至少两个与处理液体排放罐流体连通的废物收集罐，使得当安装在排水槽上的高液位传感器 从处理机收集的废处理液可以被转移到一个废物收集罐，从而防止处理液体排放罐溢出。

公开(公告)号：US08625076B2

公开(公告)日：2014-01-07

申请号：US12702601

申请日：2010-02-09

申请人： Tsung-Chih Chien ,  Yung-Cheng Chen ,  Heng-Jen Lee

发明人： Tsung-Chih Chien ,  Yung-Cheng Chen ,  Heng-Jen Lee

IPC分类号： G03B27/74 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/2022 ,  G03F7/70425

摘要： A wafer edge exposure module connected to a semiconductor wafer track system. The wafer edge exposure module includes a wafer spin device, an optical system, a scanner interface module, and a controller. The wafer spin device supports a wafer for processing. The optical system directs exposure light on a respective edge portion of the wafer simultaneously to create a dummy track on the edge of the wafer. The scanner interface module sends and/or receives dummy edge exposure information from a scanner via a computer network. The controller receives the dummy edge exposure information from the scanner interface module and uses the exposure information to control the optical system.

摘要翻译： 连接到半导体晶片轨道系统的晶片边缘曝光模块。 晶片边缘曝光模块包括晶片自旋装置，光学系统，扫描仪接口模块和控制器。 晶圆自旋装置支撑用于处理的晶片。 光学系统同时引导曝光在晶片的相应边缘部分上，以在晶片的边缘上产生虚拟轨迹。 扫描仪接口模块经由计算机网络从扫描仪发送和/或接收虚拟边缘曝光信息。 控制器从扫描仪接口模块接收虚拟边缘曝光信息，并使用曝光信息来控制光学系统。