公开(公告)号：US20070152178A1

公开(公告)日：2007-07-05

申请号：US11321466

申请日：2005-12-30

申请人： Rob Adrianus Bastiaensen ,  Marcel Hemerik ,  Marcus Van De Kerkhof ,  Jeroen Maria Mertens ,  Jacob Sonneveld

发明人： Rob Adrianus Bastiaensen ,  Marcel Hemerik ,  Marcus Van De Kerkhof ,  Jeroen Maria Mertens ,  Jacob Sonneveld

IPC分类号： G01N21/85

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G01N21/85 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/706

摘要： A sensor for use in a lithographic apparatus, the sensor having a liquid to prevent optical losses, especially when receiving radiation with a high NA. The liquid is fixed between two surfaces by capillary forces in an area through which radiation passes.

摘要翻译： 一种用于光刻设备的传感器，该传感器具有防止光损耗的液体，特别是当接收到具有高NA的辐射时。 液体通过辐射通过的区域中的毛细管力固定在两个表面之间。

公开(公告)号：US20050264778A1

公开(公告)日：2005-12-01

申请号：US10857614

申请日：2004-06-01

申请人： Joeri Lof ,  Erik Bijlaart ,  Roelof Aeilko Ritsema ,  Frank Schaik ,  Timotheus Sengers ,  Klaus Simon ,  Joannes De Smit ,  Arie Den Boef ,  Hans Butler ,  Sjoerd Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Marcus Van De Kerkhof ,  Aleksey Kolesnychenko ,  Mark Kroon ,  Erik Loopstra ,  Hendricus Meijer ,  Jeroen Maria Mertens ,  Johannes Mulkens ,  Joost Ottens ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Van Santen

发明人： Joeri Lof ,  Erik Bijlaart ,  Roelof Aeilko Ritsema ,  Frank Schaik ,  Timotheus Sengers ,  Klaus Simon ,  Joannes De Smit ,  Arie Den Boef ,  Hans Butler ,  Sjoerd Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Marcus Van De Kerkhof ,  Aleksey Kolesnychenko ,  Mark Kroon ,  Erik Loopstra ,  Hendricus Meijer ,  Jeroen Maria Mertens ,  Johannes Mulkens ,  Joost Ottens ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Van Santen

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70141 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70883

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed in which a space between the projection system and a sensor is filled with a liquid.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置，其中投影系统和传感器之间的空间填充有液体。

公开(公告)号：US20060176458A1

公开(公告)日：2006-08-10

申请号：US11375039

申请日：2006-03-15

申请人： Antonius Maria Derksen ,  Sjoerd Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Joeri Lof ,  Erik Loopstra ,  Jeroen Maria Mertens ,  Johannes Mulkens ,  Timotheus Sengers ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk

发明人： Antonius Maria Derksen ,  Sjoerd Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Joeri Lof ,  Erik Loopstra ,  Jeroen Maria Mertens ,  Johannes Mulkens ,  Timotheus Sengers ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916 ,  G03F9/7088

摘要： In a lithographic projection apparatus, a liquid supply system provides liquid in a space between the final element of the projection system and the substrate of the lithographic projection apparatus. A shutter member is provided to contain liquid in the liquid supply system during, for example, substrate exchange.

摘要翻译： 在光刻投影设备中，液体供应系统在投影系统的最终元件和光刻投影设备的基板之间的空间中提供液体。 提供挡板构件以在例如基板交换期间容纳液体供应系统中的液体。

公开(公告)号：US20060033898A1

公开(公告)日：2006-02-16

申请号：US11205325

申请日：2005-08-17

申请人： Theodorus Cadee ,  Johannes Jacobs ,  Nicolaas Kate ,  Erik Loopstra ,  Aschwin Lodewijk Vermeer ,  Jeroen Maria Mertens ,  Christianus De Mol ,  Marcel Hubertus Muitjens ,  Antonius Van Der Net ,  Joost Ottens ,  Johannes Quaedackers ,  Maria Reuhman-Huisken ,  Marco Stavenga ,  Patricius Tinnemans ,  Martinus Verhagen ,  Jacobus Johannus Hendricus Verspay ,  Frederik De Jong ,  Koen Goorman ,  Boris Menchtchikov ,  Herman Boom ,  Stoyan Nihtianov ,  Richard Moerman ,  Martin Smeets ,  Bart Schoondermark ,  Franciscus Janssen ,  Michel Riepen

发明人： Theodorus Cadee ,  Johannes Jacobs ,  Nicolaas Kate ,  Erik Loopstra ,  Aschwin Lodewijk Vermeer ,  Jeroen Maria Mertens ,  Christianus De Mol ,  Marcel Hubertus Muitjens ,  Antonius Van Der Net ,  Joost Ottens ,  Johannes Quaedackers ,  Maria Reuhman-Huisken ,  Marco Stavenga ,  Patricius Tinnemans ,  Martinus Verhagen ,  Jacobus Johannus Hendricus Verspay ,  Frederik De Jong ,  Koen Goorman ,  Boris Menchtchikov ,  Herman Boom ,  Stoyan Nihtianov ,  Richard Moerman ,  Martin Smeets ,  Bart Schoondermark ,  Franciscus Janssen ,  Michel Riepen

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70808 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70841 ,  G03F7/70875

摘要： A lithographic apparatus is disclosed having a liquid supply system configured to at least partly fill a space between a projection system of the lithographic apparatus and a substrate with liquid, a barrier member arranged to substantially contain the liquid within the space, and one or more elements to control and/or compensate for evaporation of liquid from the substrate.

摘要翻译： 公开了一种光刻设备，其具有液体供应系统，其配置为至少部分地填充光刻设备的投影系统和具有液体的基板之间的空间，布置成基本上容纳该空间内的液体的阻挡构件，以及一个或多个元件 以控制和/或补偿来自基底的液体的蒸发。