公开(公告)号：US06451945B1

公开(公告)日：2002-09-17

申请号：US09253499

申请日：1999-02-19

申请人： Saikumar Jayaraman ,  George Martin Benedikt ,  Larry Funderburk Rhodes ,  Richard Vicari ,  Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Thomas Wallow

发明人： Saikumar Jayaraman ,  George Martin Benedikt ,  Larry Funderburk Rhodes ,  Richard Vicari ,  Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Thomas Wallow

IPC分类号： C08F13208

CPC分类号： G03F7/039 ,  C08G61/02 ,  C08G61/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397

摘要： The present invention relates to cyclic polymers and their use in photolithographic applications. The cyclic polymers contain a pendant acid labile functional group and a functional group containing a protected hydroxyl moiety. The polymers are post modified by deprotecting the pendant hydroxyl moiety and reacting the deprotected hydroxyl containing moiety with a coreactant. The post-functionalized polymers find application in chemically amplified photoresist compositions.

摘要翻译： 本发明涉及环状聚合物及其在光刻应用中的应用。 环状聚合物含有侧链酸不稳定官能团和含有被保护的羟基部分的官能团。 通过使侧基羟基部分脱保护并使去保护的含羟基的部分与共反应物反应来对聚合物进行后修饰。 后官能化聚合物可用于化学扩增的光致抗蚀剂组合物中。

公开(公告)号：US06794459B2

公开(公告)日：2004-09-21

申请号：US10224994

申请日：2002-08-21

申请人： Saikumar Jayaraman ,  George Martin Benedikt ,  Larry Funderburk Rhodes ,  Richard Vicari ,  Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Thomas Wallow

发明人： Saikumar Jayaraman ,  George Martin Benedikt ,  Larry Funderburk Rhodes ,  Richard Vicari ,  Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Thomas Wallow

IPC分类号： C08F3200

CPC分类号： G03F7/039 ,  C08G61/02 ,  C08G61/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397

摘要： The present invention relates to cyclic polymers and their use in photolithographic applications. The cyclic polymers contain a pendant acid labile functional group and a functional group containing a protected hydroxyl moiety. The polymers are post modified by deprotecting the pendant hydroxyl moiety and reacting the deprotected hydroxyl containing moiety with a coreactant. The post-functionalized polymers find application in chemically amplified photoresist compositions.

摘要翻译： 本发明涉及环状聚合物及其在光刻应用中的应用。 环状聚合物含有侧链酸不稳定官能团和含有被保护的羟基部分的官能团。 通过使侧基羟基部分脱保护并使去保护的含羟基的部分与共反应物反应来对聚合物进行后修饰。 后官能化聚合物可用于化学扩增的光致抗蚀剂组合物中。

公开(公告)号：US6147177A

公开(公告)日：2000-11-14

申请号：US253497

申请日：1999-02-19

申请人： Saikumar Jayaraman ,  Brian Leslie Goodall ,  Larry Funderburk Rhodes ,  Robert Adam Shick ,  Richard Vicari ,  Robert David Allen ,  Juliann Opitz ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Thomas Wallow

发明人： Saikumar Jayaraman ,  Brian Leslie Goodall ,  Larry Funderburk Rhodes ,  Robert Adam Shick ,  Richard Vicari ,  Robert David Allen ,  Juliann Opitz ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Thomas Wallow

IPC分类号： C08F4/80 ,  C08F32/08 ,  C08F232/08 ,  C08G61/06 ,  C08G61/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  C08F132/08

CPC分类号： C08F232/08 ,  C08G61/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/115

摘要： Polycyclic polymers containing pendant aromatic moieties are disclosed. The polymers exhibit light transparency properties to deep UV wave lengths making them useful for high resolution photolithographic applications. These polymers are particularly useful in chemically amplified positive and negative tone resists.

公开(公告)号：US06451499B1

公开(公告)日：2002-09-17

申请号：US09604749

申请日：2000-06-27

申请人： Saikumar Jayaraman ,  Brian Leslie Goodall ,  Larry Funderburk Rhodes ,  Robert Adam Shick ,  Richard Vicari ,  Robert David Allen ,  Juliann Opitz ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Thomas Wallow

发明人： Saikumar Jayaraman ,  Brian Leslie Goodall ,  Larry Funderburk Rhodes ,  Robert Adam Shick ,  Richard Vicari ,  Robert David Allen ,  Juliann Opitz ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Thomas Wallow

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： C08F232/08 ,  C08G61/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/115

摘要： Polycyclic polymers containing pendant aromatic moieties are disclosed. The polymers exhibit light transparency properties to deep UV wave lengths making them useful for high resolution photolithographic applications. These polymers are particularly useful in chemically amplified positive and negative tone resists.

摘要翻译： 公开了含有侧芳基部分的多环聚合物。 聚合物对深UV波长显示出透光性，使其可用于高分辨率光刻应用。 这些聚合物特别适用于化学放大的正和负色调抗蚀剂。

公开(公告)号：US06723486B2

公开(公告)日：2004-04-20

申请号：US09850915

申请日：2001-05-08

申请人： Brian L. Goodall ,  Saikumar Jayaraman ,  Robert A. Shick ,  Larry F. Rhodes ,  Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Thomas Wallow

发明人： Brian L. Goodall ,  Saikumar Jayaraman ,  Robert A. Shick ,  Larry F. Rhodes ,  Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Thomas Wallow

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C08G61/08 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/109 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

摘要： The present invention relates to a radiation sensitive photoresist composition comprising a photoacid initiator and a polycyclic polymer comprising repeating units that contain pendant acid labile groups. Upon exposure to an imaging radiation source the photoacid initiator generates an acid which cleaves the pendant acid labile groups effecting a polarity change in the polymer. The polymer is rendered soluble in an aqueous base in the areas exposed to the imaging source.

摘要翻译： 本发明涉及包含光酸引发剂和包含含有酸不稳定基团的重复单元的多环聚合物的辐射敏感性光致抗蚀剂组合物。 在暴露于成像辐射源时，光酸引发剂产生酸，该酸切割引起聚合物极性变化的侧链酸不稳定基团。 聚合物在暴露于成像源的区域中变得可溶于碱性水溶液。

公开(公告)号：US08603584B2

公开(公告)日：2013-12-10

申请号：US13170221

申请日：2011-06-28

申请人： Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Geraud Jean-Michel Dubois ,  Mark Whitney Hart ,  Robert Dennis Miller ,  Ratnam Sooriyakumaran

发明人： Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Geraud Jean-Michel Dubois ,  Mark Whitney Hart ,  Robert Dennis Miller ,  Ratnam Sooriyakumaran

IPC分类号： B05D5/12 ,  B05D3/06 ,  H05K3/12 ,  C09D183/04

CPC分类号： B05D3/067 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02348 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3122 ,  H01L21/31695 ,  H01L21/76807 ,  H01L21/76817 ,  H01L21/7682 ,  H01L2221/1047 ,  H05K3/1258

摘要： A method of forming low dielectric contrast structures by imprinting a silsesquioxane based polymerizable composition. The imprinting composition including: one or more polyhedral silsesquioxane oligomers each having one or more polymerizable groups, wherein each of the one or more polymerizable group is bound to a different silicon atom of the one or more polyhedral silsesquioxane oligomers; andone or more polymerizable diluents, the diluents constituting at least 50% by weight of the composition.

摘要翻译： 通过压印基于倍半硅氧烷的可聚合组合物形成低介电对比度结构的方法。 所述印记组合物包括：一个或多个多面体倍半硅氧烷低聚物，其各自具有一个或多个可聚合基团，其中所述一个或多个可聚合基团中的每一个与所述一个或多个多面体倍半硅氧烷低聚物的不同硅原子结合; 和一种或多种可聚合稀释剂，所述稀释剂占组合物的至少50重量％。

公开(公告)号：US20070238317A1

公开(公告)日：2007-10-11

申请号：US11398135

申请日：2006-04-05

申请人： Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Geraud Jean-Michel Dubois ,  Mark Whitney Hart ,  Robert Dennis Miller ,  Ratnam Sooriyakumaran

发明人： Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Geraud Jean-Michel Dubois ,  Mark Whitney Hart ,  Robert Dennis Miller ,  Ratnam Sooriyakumaran

IPC分类号： H01L21/469

CPC分类号： B05D3/067 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02348 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3122 ,  H01L21/31695 ,  H01L21/76807 ,  H01L21/76817 ,  H01L21/7682 ,  H01L2221/1047 ,  H05K3/1258

摘要： A method of forming low dielectric contrast structures by imprinting a silsesquioxane based polymerizable composition. The imprinting composition including: one or more polyhedral silsesquioxane oligomers each having one or more polymerizable groups, wherein each of the one or more polymerizable group is bound to a different silicon atom of the one or more polyhedral silsesquioxane oligomers; and one or more polymerizable diluents, the diluents constituting at least 50% by weight of the composition.

摘要翻译： 通过压印基于倍半硅氧烷的可聚合组合物形成低介电对比度结构的方法。 所述印记组合物包括：一个或多个多面体倍半硅氧烷低聚物，其各自具有一个或多个可聚合基团，其中所述一个或多个可聚合基团中的每一个与所述一个或多个多面体倍半硅氧烷低聚物的不同硅原子结合; 和一种或多种可聚合稀释剂，所述稀释剂占组合物的至少50重量％。

公开(公告)号：US06165678A

公开(公告)日：2000-12-26

申请号：US111558

申请日：1998-07-08

申请人： Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Thomas I. Wallow ,  Gregory Michael Wallraff

发明人： Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Thomas I. Wallow ,  Gregory Michael Wallraff

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A novel radiation-sensitive lithographic photoresist composition is provided which has improved sensitivity and resolution. The composition comprises a photosensitive acid generator and an acrylate or methacrylate copolymer. The copolymer contains first monomeric units having polar pendant groups and second monomeric units containing photoacid-cleavable ester groups. The polar pendant groups preferably comprise C.sub.6 -C.sub.12 alicyclic substituents containing a polar moiety R*, wherein the alicyclic substituents are bound through a linker moiety to the polymer backbone. Other monomeric units may be included as well. A process for using the composition to generate resist images on a substrate, i.e., in the manufacture of integrated circuits or the like.

摘要翻译： 提供了一种具有改进的灵敏度和分辨率的新型辐射敏感平版印刷光刻胶组合物。 该组合物包含光敏酸产生剂和丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯共聚物。 共聚物含有具有极性侧基的第一单体单元和含有光可酸裂解酯基的第二单体单元。 极性侧基优选包含含有极性部分R *的C6-C12脂环族取代基，其中脂环取代基通过连接体部分结合至聚合物主链。 也可以包括其它单体单元。 一种使用该组合物在基板上生成抗蚀剂图像，即集成电路等的制造方法。

公开(公告)号：US08168366B2

公开(公告)日：2012-05-01

申请号：US12253072

申请日：2008-10-16

申请人： Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Hoa D Truong

发明人： Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Hoa D Truong

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  C08F24/00

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F220/60 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： The present invention relates to a radiation sensitive photoresist composition. The composition comprises a polymer comprising at least two monomers. The first monomer has an acid cleavable tertiary ester group. The second monomer is an acidic monomer. The acid cleavable ester group of the polymer has a surprisingly low activation energy which results in improved resist images in lithographic processes.

摘要翻译： 本发明涉及一种辐射敏感光刻胶组合物。 组合物包含包含至少两种单体的聚合物。 第一单体具有酸可裂解的叔酯基。 第二单体是酸性单体。 聚合物的酸可裂解酯基具有惊人的低活化能，这导致光刻工艺中抗蚀剂图像的改善。

公开(公告)号：US08026293B2

公开(公告)日：2011-09-27

申请号：US12053893

申请日：2008-03-24

申请人： Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Geraud Jean-Michel Dubois ,  Mark Whitney Hart ,  Robert Dennis Miller ,  Ratnam Sooriyakumaran

发明人： Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Geraud Jean-Michel Dubois ,  Mark Whitney Hart ,  Robert Dennis Miller ,  Ratnam Sooriyakumaran

IPC分类号： C08F283/12

CPC分类号： B05D3/067 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02348 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3122 ,  H01L21/31695 ,  H01L21/76807 ,  H01L21/76817 ,  H01L21/7682 ,  H01L2221/1047 ,  H05K3/1258

摘要： A method of forming low dielectric contrast structures by imprinting a silsesquioxane based polymerizable composition. The imprinting composition including: one or more polyhedral silsesquioxane oligomers each having one or more polymerizable groups, wherein each of the one or more polymerizable group is bound to a different silicon atom of the one or more polyhedral silsesquioxane oligomers; and one or more polymerizable diluents, the diluents constituting at least 50% by weight of the composition.

摘要翻译： 通过压印基于倍半硅氧烷的可聚合组合物形成低介电对比度结构的方法。 所述印记组合物包括：一个或多个多面体倍半硅氧烷低聚物，其各自具有一个或多个可聚合基团，其中所述一个或多个可聚合基团中的每一个与所述一个或多个多面体倍半硅氧烷低聚物的不同硅原子结合; 和一种或多种可聚合稀释剂，所述稀释剂占组合物的至少50重量％。