公开(公告)号：US07718344B2

公开(公告)日：2010-05-18

申请号：US11864049

申请日：2007-09-28

申请人： Sou Kamimura ,  Kenji Wada ,  Yasutomo Kawanishi

发明人： Sou Kamimura ,  Kenji Wada ,  Yasutomo Kawanishi

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/126

摘要： A resist composition, includes: (B) a polymer having a group capable of decomposing under an action of an acid and having a weight average molecular weight of 1,000 to 5,000, of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; and (Z) a compound containing a sulfonium cation having a structure represented by formula (Z-1): wherein Y1 to Y13 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and adjacent members of Y1 to Y13 may combine with each other to form a ring; and Z represents a single bond or a divalent linking group.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物包括：（B）具有能够在酸的作用下分解并且重均分子量为1,000至5,000的基团的聚合物，其在碱性显影剂中的溶解度在酸的作用下增加; 和（Z）含有具有由式（Z-1）表示的结构的锍阳离子的化合物：其中Y 1至Y 13各自独立地表示氢原子或取代基，并且Y 1至Y 13的相邻成员可以相互结合形成 戒指; Z表示单键或二价连接基团。

公开(公告)号：US07615330B2

公开(公告)日：2009-11-10

申请号：US11727267

申请日：2007-03-26

申请人： Sou Kamimura ,  Tomoya Sasaki ,  Yasutomo Kawanishi ,  Kenji Wada

发明人： Sou Kamimura ,  Tomoya Sasaki ,  Yasutomo Kawanishi ,  Kenji Wada

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

摘要： A positive resist composition containing a compound including a sulfonium cation having a structure represented by the formula (Z-I) as defined herein, a low molecular weight compound which increases solubility in an alkali developing solution by an action of an acid, and a compound which generates a compound having a structure represented by the formula (A-I) as defined herein upon irradiation of an actinic ray or a radiation.

摘要翻译： 含有具有本文定义的式（ZI）所示结构的锍阳离子的化合物的正性抗蚀剂组合物，通过酸的作用增加在碱性显影液中的溶解度的低分子量化合物和产生 在通过光化射线或辐射照射时具有如本文所定义的式（AI）表示的结构的化合物。

公开(公告)号：US08110333B2

公开(公告)日：2012-02-07

申请号：US12184780

申请日：2008-08-01

申请人： Sou Kamimura ,  Yasutomo Kawanishi ,  Kenji Wada ,  Tomotaka Tsuchimura

发明人： Sou Kamimura ,  Yasutomo Kawanishi ,  Kenji Wada ,  Tomotaka Tsuchimura

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106

摘要： A resist composition includes (A) a compound represented by the following formula (I): wherein each of R1 to R13 independently represents a hydrogen atom or a substituent, provided that at least one of R1 to R13 is a substituent containing an alcoholic hydroxyl group; Z represents a single bond or a divalent linking group; and X− represents an anion containing a proton acceptor functional group.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物包括（A）由下式（I）表示的化合物：其中R 1至R 13各自独立地表示氢原子或取代基，条件是R 1至R 13中的至少一个为含有醇羟基的取代基 ; Z表示单键或二价连接基团; X表示含有质子受体官能团的阴离子。

公开(公告)号：US20070224540A1

公开(公告)日：2007-09-27

申请号：US11727267

申请日：2007-03-26

申请人： Sou Kamimura ,  Tomoya Sasaki ,  Yasutomo Kawanishi ,  Kenji Wada

发明人： Sou Kamimura ,  Tomoya Sasaki ,  Yasutomo Kawanishi ,  Kenji Wada

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

摘要： A positive resist composition containing a compound including a sulfonium cation having a structure represented by the formula (Z-I) as defined herein, a low molecular weight compound which increases solubility in an alkali developing solution by an action of an acid, and a compound which generates a compound having a structure represented by the formula (A-I) as defined herein upon irradiation of an actinic ray or a radiation.

摘要翻译： 含有具有本文定义的式（ZI）所示结构的锍阳离子的化合物的正性抗蚀剂组合物，通过酸的作用增加在碱性显影液中的溶解度的低分子量化合物和产生 在通过光化射线或辐射照射时具有如本文所定义的式（AI）表示的结构的化合物。

公开(公告)号：US20110183258A1

公开(公告)日：2011-07-28

申请号：US12673096

申请日：2008-08-11

申请人： Hidenori Takahashi ,  Kenji Wada ,  Sou Kamimura

发明人： Hidenori Takahashi ,  Kenji Wada ,  Sou Kamimura

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C07C309/73 ,  C07C69/716 ,  C07D319/12 ,  C07D311/94

CPC分类号： C07C309/72 ,  C07C69/716 ,  C07C309/65 ,  C07C309/74 ,  C07C311/48 ,  C07C317/44 ,  C07C317/46 ,  C07C323/20 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/08 ,  C07C2602/10 ,  C07C2602/42 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A positive resist composition comprising (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, and (C) a compound having a specific structure, which decomposes by the action of an acid to generate an acid, a pattern forming method using the positive resist composition, and a compound for use in the positive resist composition are provided as a positive resist composition exhibiting good performance in terms of pattern profile, line edge roughness, pattern collapse, sensitivity and resolution in normal exposure (dry exposure), immersion exposure and double exposure, a pattern forming method using the positive resist composition and a compound for use in the positive resist composition.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含（A）在通过光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，（B）能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解度的树脂，和（C） 提供具有特定结构的化合物，其通过酸的作用而分解以产生酸，使用正性抗蚀剂组合物的图案形成方法和用于正性抗蚀剂组合物的化合物作为正性抗蚀剂组合物，其表现出良好的性能 使用正性抗蚀剂组合物的图案形成方法和用于正性抗蚀剂组合物的化合物的图案形成方法，线条粗糙度，图案塌陷，在正常曝光（干曝光）中的灵敏度和分辨率，浸渍曝光和双重曝光。

公开(公告)号：US08507174B2

公开(公告)日：2013-08-13

申请号：US12673096

申请日：2008-08-11

申请人： Hidenori Takahashi ,  Kenji Wada ,  Sou Kamimura

发明人： Hidenori Takahashi ,  Kenji Wada ,  Sou Kamimura

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： C07C309/72 ,  C07C69/716 ,  C07C309/65 ,  C07C309/74 ,  C07C311/48 ,  C07C317/44 ,  C07C317/46 ,  C07C323/20 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/08 ,  C07C2602/10 ,  C07C2602/42 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A positive resist composition comprising (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, and (C) a compound having a specific structure, which decomposes by the action of an acid to generate an acid, a pattern forming method using the positive resist composition, and a compound for use in the positive resist composition are provided as a positive resist composition exhibiting good performance in terms of pattern profile, line edge roughness, pattern collapse, sensitivity and resolution in normal exposure (dry exposure), immersion exposure and double exposure, a pattern forming method using the positive resist composition and a compound for use in the positive resist composition.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含（A）在通过光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，（B）能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解度的树脂，和（C） 提供具有特定结构的化合物，其通过酸的作用而分解以产生酸，使用正性抗蚀剂组合物的图案形成方法和用于正性抗蚀剂组合物的化合物作为正性抗蚀剂组合物，其表现出良好的性能 使用正性抗蚀剂组合物的图案形成方法和用于正性抗蚀剂组合物的化合物的图案形成方法，线条粗糙度，图案塌陷，在正常曝光（干曝光）中的灵敏度和分辨率，浸渍曝光和双重曝光。

公开(公告)号：US08092976B2

公开(公告)日：2012-01-10

申请号：US11863562

申请日：2007-09-28

申请人： Sou Kamimura ,  Kenji Wada

发明人： Sou Kamimura ,  Kenji Wada

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122

摘要： A resist composition containing: a polymer having a group capable of decomposing under an action of an acid and having a weight average molecular weight of from 1,000 to 5,000, of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; and a compound capable of generating a compound having a structure represented by the following formula (A-I) upon irradiation with actinic rays or radiation: Q1-X1—NH—X2-Q2  (A-I) wherein Q1 and Q2 each independently represents a monovalent organic group, provided that either one of Q1 and Q2 has a proton acceptor functional group, Q1 and Q2 may be combined with each other to form a ring and the ring formed may have a proton acceptor functional group; and X1 and X2 each independently represents —CO— or —SO2—.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其含有具有能够在酸作用下分解的重均分子量为1,000〜5000的聚合物，其在碱性显影剂中的溶解度在酸的作用下增加; 以及能够在用光化射线或辐射照射时产生具有下式（AI）表示的结构的化合物的化合物：Q1-X1-NH-X2-Q2（AI）其中Q1和Q2各自独立地表示一价有机基团 条件是Q1和Q2中的任一个具有质子受体官能团，Q1和Q2可以彼此结合形成环，形成的环可以具有质子受体官能团; 且X 1和X 2各自独立地表示-CO-或-SO 2 - 。

公开(公告)号：US20080081282A1

公开(公告)日：2008-04-03

申请号：US11863562

申请日：2007-09-28

申请人： Sou Kamimura ,  Kenji Wada

发明人： Sou Kamimura ,  Kenji Wada

IPC分类号： G03C1/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122

摘要： A resist composition containing: a polymer having a group capable of decomposing under an action of an acid and having a weight average molecular weight of from 1,000 to 5,000, of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; and a compound capable of generating a compound having a structure represented by the following formula (A-I) upon irradiation with actinic rays or radiation: Q1-X1—NH—X2-Q2  (A-I) wherein Q1 and Q2 each independently represents a monovalent organic group, provided that either one of Q1 and Q2 has a proton acceptor functional group, Q1 and Q2 may be combined with each other to form a ring and the ring formed may have a proton acceptor functional group; and X1 and X2 each independently represents —CO— or —SO2—.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其含有具有能够在酸作用下分解的重均分子量为1,000〜5000的聚合物，其在碱性显影剂中的溶解度在酸的作用下增加; 以及能够在用光化射线或辐射照射时产生具有由下式（AI）表示的结构的化合物的化合物：<？in-line-formula description =“In-line formula”end =“lead”？> Q 1-N-1个-N-X 2 -Q 2（AI）<β在线式 其中Q 1和Q 2各自独立地表示一价有机基团，条件是Q < SUB> 1和Q 2具有质子受体官能团，Q 1和Q 2可以彼此结合成 形成环，所形成的环可具有质子受体官能团; X 1和X 2各自独立地表示-CO - 或-SO 2 - 。

公开(公告)号：US09709892B2

公开(公告)日：2017-07-18

申请号：US13637269

申请日：2011-03-25

申请人： Shohei Kataoka ,  Kaoru Iwato ,  Sou Kamimura ,  Toru Tsuchihashi ,  Yuichiro Enomoto ,  Kana Fujii ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Shinji Tarutani ,  Keita Kato

发明人： Shohei Kataoka ,  Kaoru Iwato ,  Sou Kamimura ,  Toru Tsuchihashi ,  Yuichiro Enomoto ,  Kana Fujii ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Shinji Tarutani ,  Keita Kato

IPC分类号： G03F7/30 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/038 ,  C08F232/08

CPC分类号： G03F7/30 ,  C08F220/28 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  Y10T428/24802

摘要： Provided is an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and a method of forming a pattern using the same, ensuring excellent the etching resistivity and the stability during a post-exposure delay (PED) period. The composition contains a resin containing a repeating unit containing a group that is decomposed when acted on by an acid to thereby produce an alcoholic hydroxyl group, and a compound that generates an acid of pKa≧−1.5 when exposed to actinic rays or radiation.

公开(公告)号：US09551935B2

公开(公告)日：2017-01-24

申请号：US13636965

申请日：2011-03-25

申请人： Keita Kato ,  Shinji Tarutani ,  Toru Tsuchihashi ,  Sou Kamimura ,  Yuichiro Enomoto ,  Kana Fujii ,  Kaoru Iwato ,  Shohei Kataoka ,  Kazuyoshi Mizutani

发明人： Keita Kato ,  Shinji Tarutani ,  Toru Tsuchihashi ,  Sou Kamimura ,  Yuichiro Enomoto ,  Kana Fujii ,  Kaoru Iwato ,  Shohei Kataoka ,  Kazuyoshi Mizutani

IPC分类号： G03F7/32 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/24

摘要： Provided is a method of forming a pattern, ensuring excellent exposure latitude (EL) and focus latitude (depth of focus DOF). The method of forming a pattern includes (A) forming a film from a resist composition, the resist composition, (B) exposing the film to light, and (C) developing the exposed film using a developer containing an organic solvent, thereby forming a negative pattern. The resist composition contains (a) a resin that is configured to decompose when acted on by an acid and ΔSP thereof represented by formula (1) below is 2.5 (MPa)1/2 or above, (b) a compound that is composed to generate an acid when exposed to actinic rays or radiation, and (c) a solvent. ΔSP=SPF−SPI  (1)

摘要翻译： 提供了一种形成图案的方法，确保优异的曝光宽容度（EL）和聚焦纬度（焦深DOF）。 形成图案的方法包括（A）从抗蚀剂组合物形成膜，抗蚀剂组合物，（B）将膜曝光，和（C）使用含有有机溶剂的显影剂显影曝光膜，从而形成 负面模式。 抗蚀剂组合物含有（a）在被酸作用时被分解的树脂，由下式（1）表示的＆Dgr; SP为2.5（MPa）1/2以上，（b） 被组合以在暴露于光化射线或辐射时产生酸，和（c）溶剂。 ＆Dgr; SP = SPF-SPI（1）