公开(公告)号：US07666575B2

公开(公告)日：2010-02-23

申请号：US11550459

申请日：2006-10-18

申请人： Woo-Kyu Kim ,  Hengpeng Wu ,  David Abdallah ,  Mark Neisser ,  PingHung Lu ,  Ruzhi Zhang ,  M. Dalil Rahman

发明人： Woo-Kyu Kim ,  Hengpeng Wu ,  David Abdallah ,  Mark Neisser ,  PingHung Lu ,  Ruzhi Zhang ,  M. Dalil Rahman

IPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/952

摘要： The present invention relates to an antireflective coating composition comprising, (i) a thermal acid generator; (ii) a crosslinkable polymer comprising at least one aromatic group; and, (iii) a polymeric crosslinker comprising at least one unit of structure (6), where R11 to R13 is independently selected from H, (C1-C6) alkyl and aromatic group, R14 and R15 are independently (C1-C10) alkyl. The invention also relates to a process for imaging the antireflective coating composition of the present invention.

摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含：（i）热酸发生剂; （ii）包含至少一个芳族基团的可交联聚合物; 和（iii）包含至少一个结构单元（6）的聚合物交联剂，其中R 11至R 13独立地选自H，（C 1 -C 6）烷基和芳族基团，R 14和R 15独立地为（C 1 -C 10）烷基 。 本发明还涉及一种用于对本发明的抗反射涂料组合物进行成像的方法。

公开(公告)号：US20080096125A1

公开(公告)日：2008-04-24

申请号：US11550459

申请日：2006-10-18

申请人： Woo-Kyu Kim ,  Hengpeng Wu ,  David Abdallah ,  Mark Neisser ,  PingHung Lu ,  Ruzhi Zhang ,  M. Dalil Rahman

发明人： Woo-Kyu Kim ,  Hengpeng Wu ,  David Abdallah ,  Mark Neisser ,  PingHung Lu ,  Ruzhi Zhang ,  M. Dalil Rahman

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/952

摘要： The present invention relates to an antireflective coating composition comprising, (i) a thermal acid generator; (ii) a crosslinkable polymer comprising at least one aromatic group; and, (iii) a polymeric crosslinker comprising at least one unit of structure (6), where R11 to R13 is independently selected from H, (C1-C6) alkyl and aromatic group, R14 and R15 are independently (C1-C10) alkyl. The invention also relates to a process for imaging the antireflective coating composition of the present invention.

摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含：（i）热酸发生剂; （ii）包含至少一个芳族基团的可交联聚合物; 和（iii）包含结构（6）的至少一个单元的聚合物交联剂，其中R 11至R 13独立地选自H，（C 1 -C 6） C 1 -C 6烷基和芳基，R 14和R 15独立地是（C 1 -C 6）烷基和芳基， C 1 -C 10烷基。 本发明还涉及一种用于对本发明的抗反射涂料组合物进行成像的方法。

公开(公告)号：US08026040B2

公开(公告)日：2011-09-27

申请号：US11676673

申请日：2007-02-20

申请人： Hengpeng Wu ,  WooKyu Kim ,  Hong Zhuang ,  PingHung Lu ,  Mark Neisser ,  David Abdallah ,  Ruzhi Zhang

发明人： Hengpeng Wu ,  WooKyu Kim ,  Hong Zhuang ,  PingHung Lu ,  Mark Neisser ,  David Abdallah ,  Ruzhi Zhang

IPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/075 ,  G03F7/11

CPC分类号： C09D183/04 ,  C08G77/06

摘要： The present invention relates to a composition comprising: (a) a polymer having at least one repeating unit of formula where R1 is a non-hydrolysable group and n is an integer ranging from 1 to 3; and (b) a crosslinking catalyst. The composition is useful in forming low k dielectric constant materials and as well as hard mask and underlayer materials with anti-reflective properties for the photolithography industry.

摘要翻译： 本发明涉及一种组合物，其包含：（a）具有至少一个下式的重复单元的聚合物，其中R 1是不可水解基团，n是1至3的整数; 和（b）交联催化剂。 该组合物可用于形成低k介电常数材料，以及具有用于光刻工业的抗反射特性的硬掩模和底层材料。

公开(公告)号：US20080196626A1

公开(公告)日：2008-08-21

申请号：US11676673

申请日：2007-02-20

申请人： Hengpeng Wu ,  WooKyu Kim ,  Hong Zhuang ,  PingHung Lu ,  Mark Neisser ,  David Abdallah ,  Ruzhi Zhang

发明人： Hengpeng Wu ,  WooKyu Kim ,  Hong Zhuang ,  PingHung Lu ,  Mark Neisser ,  David Abdallah ,  Ruzhi Zhang

IPC分类号： G03C1/46 ,  C04B28/26 ,  G03C8/00 ,  C08G77/20

CPC分类号： C09D183/04 ,  C08G77/06

摘要： The present invention relates to a composition comprising: (a) a polymer having at least one repeating unit of formula where R1 is a non-hydrolysable group and n is an integer ranging from 1 to 3; and (b) a crosslinking catalyst. The composition is useful in forming low k dielectric constant materials and as well as hard mask and underlayer materials with anti-reflective properties for the photolithography industry.

摘要翻译： 本发明涉及一种组合物，其包含：（a）具有至少一个下式的重复单元的聚合物，其中R 1是不可水解基团，n是1至3的整数; 和（b）交联催化剂。 该组合物可用于形成低k介电常数材料，以及具有用于光刻工业的抗反射特性的硬掩模和底层材料。

公开(公告)号：US20100093969A1

公开(公告)日：2010-04-15

申请号：US12449750

申请日：2008-02-25

申请人： Ruzhi Zhang ,  David Abdallah ,  PingHung Lu ,  Mark Neisser

发明人： Ruzhi Zhang ,  David Abdallah ,  PingHung Lu ,  Mark Neisser

IPC分类号： C08G77/06

CPC分类号： C09D183/06 ,  C08G77/06 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122

摘要： The present invention relates to process for making a siloxane polymer which comprises at least one Si—OH group and at least one Si—OR group, where R is a moiety other than hydrogen, comprising reacting one or more silane reactants together in the presence of a hydrolysis catalyst in either a water/alcohol mixture or in one or more alcohols to form the siloxane polymer; and separating the siloxane polymer from the water/alcohol mixture or the alcohol(s).

摘要翻译： 本发明涉及制备硅氧烷聚合物的方法，其包含至少一个Si-OH基团和至少一个Si-OR基团，其中R是不同于氢的部分，包括使一种或多种硅烷反应物在一起存在下反应 在水/醇混合物中或在一种或多种醇中的水解催化剂以形成硅氧烷聚合物; 以及从水/醇混合物或醇分离硅氧烷聚合物。

公开(公告)号：US07638262B2

公开(公告)日：2009-12-29

申请号：US11502706

申请日：2006-08-10

申请人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

发明人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

IPC分类号： G03F7/095 ,  G03F7/11 ,  G03F7/38 ,  G03F7/09

CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/952

摘要： The invention relates to an antireflective coating composition for a photoresist layer comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure 1, where, A is a nonaromatic linking moiety, R′ and R″ are independently selected from hydrogen, Z and W—OH, where Z is a (C1-C20) hydrocarbyl moiety and W is a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety, and, Y′ is independently a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety. The invention further relates to a process for imaging the antireflective coating composition.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构单元1，其中A是非芳族连接部分，R'和R' 独立地选自氢，Z和W-OH，其中Z是（C1-C20）烃基部分，W是（C1-C20）烃基连接部分，Y'独立地是（C1-C20）烃基 连接部分。 本发明还涉及一种用于对抗反射涂料组合物进行成像的方法。

公开(公告)号：US20100092895A1

公开(公告)日：2010-04-15

申请号：US12449735

申请日：2008-02-25

申请人： Ruzhi Zhang ,  Wookyu Kim ,  David J. Abdallah ,  PingHung Lu ,  Mark O. Neissor ,  Ralph R. Dammel ,  Ari Karkkainen

发明人： Ruzhi Zhang ,  Wookyu Kim ,  David J. Abdallah ,  PingHung Lu ,  Mark O. Neissor ,  Ralph R. Dammel ,  Ari Karkkainen

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08G77/04 ,  C08G77/38

CPC分类号： C08G77/045 ,  C09D183/04 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3124

摘要： A polymer comprising a siloxane polymer having at least one Si—OH group and at least one Si—OR group, where R is condensation stabilizing group optionally having a reactive functional group, wherein the siloxane polymer, when placed into a solvent, has a weight average molecular weight increase of less than or equal to 50% after aging for one week at 40° C. as measured by GPC is provided.

摘要翻译： 包含具有至少一个Si-OH基团和至少一个Si-OR基团的硅氧烷聚合物的聚合物，其中R是任选具有反应性官能团的缩合稳定基团，其中所述硅氧烷聚合物在置于溶剂中时具有重量 提供了通过GPC测量的在40℃下老化1周后的平均分子量增加小于或等于50％。

公开(公告)号：US08524441B2

公开(公告)日：2013-09-03

申请号：US12449735

申请日：2008-02-25

申请人： Ruzhi Zhang ,  WooKyu Kim ,  David J. Abdallah ,  PingHung Lu ,  Mark O. Neisser ,  Ralph R. Dammel ,  Ari Karkkainen

发明人： Ruzhi Zhang ,  WooKyu Kim ,  David J. Abdallah ,  PingHung Lu ,  Mark O. Neisser ,  Ralph R. Dammel ,  Ari Karkkainen

IPC分类号： C09D183/04

CPC分类号： C08G77/045 ,  C09D183/04 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3124

摘要： A polymer comprising a siloxane polymer having at least one Si—OH group and at least one Si—OR group, where R is condensation stabilizing group optionally having a reactive functional group, wherein the siloxane polymer, when placed into a solvent, has a weight average molecular weight increase of less than or equal to 50% after aging for one week at 40° C. as measured by GPC is provided.

摘要翻译： 包含具有至少一个Si-OH基团和至少一个Si-OR基团的硅氧烷聚合物的聚合物，其中R是任选具有反应性官能团的缩合稳定基团，其中所述硅氧烷聚合物在置于溶剂中时具有重量 提供了通过GPC测量的在40℃下老化1周后的平均分子量增加小于或等于50％。

公开(公告)号：US20080038659A1

公开(公告)日：2008-02-14

申请号：US11502706

申请日：2006-08-10

申请人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

发明人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/952

摘要： The invention relates to an antireflective coating composition for a photoresist layer comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure 1, where, A is a nonaromatic linking moiety, R′ and R″ are independently selected from hydrogen, Z and W—OH, where Z is a (C1-C20) hydrocarbyl moiety and W is a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety, and, Y′ is independently a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety. The invention further relates to a process for imaging the antireflective coating composition.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构单元1，其中A是非芳族连接部分，R'和R' '独立地选自氢，Z和W-OH，其中Z是（C 1 -C 20 -C 20）烃基部分，W是（C 1 H 12） C 20 -C 20烃基连接部分，Y'独立地为（C 1 -C 20）烃基连接部分 。 本发明还涉及一种用于对抗反射涂料组合物进行成像的方法。

公开(公告)号：US08568958B2

公开(公告)日：2013-10-29

申请号：US13164869

申请日：2011-06-21

申请人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  Zachary Bogusz ,  PingHung Lu ,  WooKyu Kim ,  Mark Neisser

发明人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  Zachary Bogusz ,  PingHung Lu ,  WooKyu Kim ,  Mark Neisser

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  C08K5/04 ,  C08K5/00 ,  H01L51/00

CPC分类号： C08K5/0091 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  C08L33/16 ,  C08L101/06

摘要： The present invention relates to an underlayer composition comprising a polymer, an organic titanate compound and optionally a thermal acid generator, where the polymer comprises at least one fluoroalcohol group and at least one epoxy group. The invention also relates to a process for using this underlayer material as an antireflective coating composition and/or a hard mask for pattern transfer.

摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物，有机钛酸盐化合物和任选的热酸发生剂的底层组合物，其中聚合物包含至少一个氟代醇基团和至少一个环氧基团。 本发明还涉及使用该底层材料作为抗反射涂料组合物和/或用于图案转印的硬掩模的方法。