公开(公告)号：US08026040B2

公开(公告)日：2011-09-27

申请号：US11676673

申请日：2007-02-20

申请人： Hengpeng Wu ,  WooKyu Kim ,  Hong Zhuang ,  PingHung Lu ,  Mark Neisser ,  David Abdallah ,  Ruzhi Zhang

发明人： Hengpeng Wu ,  WooKyu Kim ,  Hong Zhuang ,  PingHung Lu ,  Mark Neisser ,  David Abdallah ,  Ruzhi Zhang

IPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/075 ,  G03F7/11

CPC分类号： C09D183/04 ,  C08G77/06

摘要： The present invention relates to a composition comprising: (a) a polymer having at least one repeating unit of formula where R1 is a non-hydrolysable group and n is an integer ranging from 1 to 3; and (b) a crosslinking catalyst. The composition is useful in forming low k dielectric constant materials and as well as hard mask and underlayer materials with anti-reflective properties for the photolithography industry.

摘要翻译： 本发明涉及一种组合物，其包含：（a）具有至少一个下式的重复单元的聚合物，其中R 1是不可水解基团，n是1至3的整数; 和（b）交联催化剂。 该组合物可用于形成低k介电常数材料，以及具有用于光刻工业的抗反射特性的硬掩模和底层材料。

公开(公告)号：US20080196626A1

公开(公告)日：2008-08-21

申请号：US11676673

申请日：2007-02-20

申请人： Hengpeng Wu ,  WooKyu Kim ,  Hong Zhuang ,  PingHung Lu ,  Mark Neisser ,  David Abdallah ,  Ruzhi Zhang

发明人： Hengpeng Wu ,  WooKyu Kim ,  Hong Zhuang ,  PingHung Lu ,  Mark Neisser ,  David Abdallah ,  Ruzhi Zhang

IPC分类号： G03C1/46 ,  C04B28/26 ,  G03C8/00 ,  C08G77/20

CPC分类号： C09D183/04 ,  C08G77/06

摘要： The present invention relates to a composition comprising: (a) a polymer having at least one repeating unit of formula where R1 is a non-hydrolysable group and n is an integer ranging from 1 to 3; and (b) a crosslinking catalyst. The composition is useful in forming low k dielectric constant materials and as well as hard mask and underlayer materials with anti-reflective properties for the photolithography industry.

摘要翻译： 本发明涉及一种组合物，其包含：（a）具有至少一个下式的重复单元的聚合物，其中R 1是不可水解基团，n是1至3的整数; 和（b）交联催化剂。 该组合物可用于形成低k介电常数材料，以及具有用于光刻工业的抗反射特性的硬掩模和底层材料。

公开(公告)号：US20130209754A1

公开(公告)日：2013-08-15

申请号：US13369809

申请日：2012-02-09

申请人： Ruzhi ZHANG ,  Jihoon KIM ,  Bharatkumar K. PATEL ,  Elizabeth WOLFER

发明人： Ruzhi ZHANG ,  Jihoon KIM ,  Bharatkumar K. PATEL ,  Elizabeth WOLFER

IPC分类号： G03F7/20 ,  B32B3/10 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08L83/04 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/0758 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02282 ,  H01L23/5329 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T428/24802 ,  H01L2924/00

摘要： This invention relates generally to silicon based photoresist compositions that can be used in forming low k dielectric constant materials suitable for use in electronic devices, methods of their use and the electronic devices made therefrom.

摘要翻译： 本发明一般涉及可用于形成适用于电子器件的低k介电常数材料的硅基光致抗蚀剂组合物，其使用方法和由其制成的电子器件。

公开(公告)号：US20100316949A1

公开(公告)日：2010-12-16

申请号：US12482189

申请日：2009-06-10

申请人： M. Dalil Rahman ,  Douglas McKenzie ,  Guanyang Lin ,  Jianhui Shan ,  Ruzhi Zhang ,  Mark Neisser

发明人： M. Dalil Rahman ,  Douglas McKenzie ,  Guanyang Lin ,  Jianhui Shan ,  Ruzhi Zhang ,  Mark Neisser

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08G65/38 ,  G03F7/004 ,  B29C59/02

CPC分类号： H01L21/0276 ,  C08G61/02 ,  C08G2261/94 ,  C09D165/00 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094

摘要： The present invention relates to an organic spin on hard mask antireflective coating composition comprising a polymer comprising at least one unit of fused aromatic rings in the backbone of the polymer and at least one unit with a cycloaliphatic moiety in the backbone of the polymer. The invention further relates to a process for making the polymer and a process for imaging the present composition.

摘要翻译： 本发明涉及一种在硬掩模抗反射涂料组合物上的有机旋涂，其包含聚合物，该聚合物包含聚合物主链中的至少一个稠合芳环单元和至少一个在聚合物主链中具有脂环族部分的单元。 本发明还涉及制备聚合物的方法和用于对本发明组合物进行成像的方法。

公开(公告)号：US20080008954A1

公开(公告)日：2008-01-10

申请号：US11425817

申请日：2006-06-22

申请人： David J. Abdallah ,  Ruzhi Zhang

发明人： David J. Abdallah ,  Ruzhi Zhang

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  C09D183/04 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/0757 ,  Y10S430/114

摘要： High silicon-content resin composition that can be used to form thin film thermosets, useful in forming low k dielectric constant materials and as well as hard mask materials with anti-reflective properties for the photolithography industry are disclosed.

摘要翻译： 公开了可用于形成薄膜热固性材料的高含硅树脂组合物，其可用于形成低k介电常数材料以及具有用于光刻工业的抗反射性能的硬掩模材料。

公开(公告)号：US08871425B2

公开(公告)日：2014-10-28

申请号：US13369809

申请日：2012-02-09

申请人： Ruzhi Zhang ,  Jihoon Kim ,  Bharatkumar K. Patel ,  Elizabeth Wolfer

发明人： Ruzhi Zhang ,  Jihoon Kim ,  Bharatkumar K. Patel ,  Elizabeth Wolfer

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/11

CPC分类号： C08L83/04 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/0758 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02282 ,  H01L23/5329 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T428/24802 ,  H01L2924/00

摘要： This invention relates generally to silicon based photoresist compositions that can be used in forming low k dielectric constant materials suitable for use in electronic devices, methods of their use and the electronic devices made therefrom.

摘要翻译： 本发明一般涉及可用于形成适用于电子设备的低k介电常数材料的硅基光致抗蚀剂组合物，其使用方法和由其制成的电子器件。

公开(公告)号：US20100092895A1

公开(公告)日：2010-04-15

申请号：US12449735

申请日：2008-02-25

申请人： Ruzhi Zhang ,  Wookyu Kim ,  David J. Abdallah ,  PingHung Lu ,  Mark O. Neissor ,  Ralph R. Dammel ,  Ari Karkkainen

发明人： Ruzhi Zhang ,  Wookyu Kim ,  David J. Abdallah ,  PingHung Lu ,  Mark O. Neissor ,  Ralph R. Dammel ,  Ari Karkkainen

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08G77/04 ,  C08G77/38

CPC分类号： C08G77/045 ,  C09D183/04 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3124

摘要： A polymer comprising a siloxane polymer having at least one Si—OH group and at least one Si—OR group, where R is condensation stabilizing group optionally having a reactive functional group, wherein the siloxane polymer, when placed into a solvent, has a weight average molecular weight increase of less than or equal to 50% after aging for one week at 40° C. as measured by GPC is provided.

摘要翻译： 包含具有至少一个Si-OH基团和至少一个Si-OR基团的硅氧烷聚合物的聚合物，其中R是任选具有反应性官能团的缩合稳定基团，其中所述硅氧烷聚合物在置于溶剂中时具有重量 提供了通过GPC测量的在40℃下老化1周后的平均分子量增加小于或等于50％。

公开(公告)号：US07528404B2

公开(公告)日：2009-05-05

申请号：US10555291

申请日：2004-02-17

申请人： Osama M. Musa ,  Ruzhi Zhang

发明人： Osama M. Musa ,  Ruzhi Zhang

IPC分类号： H01L29/08 ,  H01L35/24 ,  H01L51/00

CPC分类号： C07D263/10 ,  C07D263/14 ,  C07D413/12 ,  C08G61/00 ,  C08G61/02 ,  C08G73/02 ,  H01L21/563 ,  H01L23/293 ,  H01L24/29 ,  H01L24/83 ,  H01L2224/29 ,  H01L2224/29101 ,  H01L2224/2919 ,  H01L2224/2929 ,  H01L2224/29324 ,  H01L2224/29339 ,  H01L2224/29344 ,  H01L2224/29347 ,  H01L2224/29355 ,  H01L2224/29364 ,  H01L2224/29369 ,  H01L2224/29386 ,  H01L2224/29388 ,  H01L2224/29393 ,  H01L2224/73203 ,  H01L2224/8385 ,  H01L2924/00013 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01011 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01015 ,  H01L2924/0102 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01046 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2924/0105 ,  H01L2924/01056 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/01082 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/0665 ,  H01L2924/07802 ,  H01L2924/10253 ,  H01L2924/00 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/04642 ,  H01L2924/0503 ,  H01L2924/05432 ,  H01L2224/29099 ,  H01L2224/29199 ,  H01L2224/29299

摘要： An assembly of a semiconductor die attached to a substrate is made with a composition comprising compounds that contain an oxazoline functionality and an electron acceptor or an electron donor functionality. Electron donor functionalities include styrenic, cinnamyl, and vinyl ether groups. Electron acceptor functionalities include maleimide, acrylate, fumarate, and maleate groups. An exemplary compound has the structure: formula (I).

摘要翻译： 用包含含有恶唑啉官能团和电子受体或电子供体官能团的化合物的组合物制成附着于基底的半导体管芯的组件。 电子给体官能团包括苯乙烯，肉桂基和乙烯基醚基团。 电子受体官能团包括马来酰亚胺，丙烯酸酯，富马酸酯和马来酸酯基团。 示例性化合物具有以下结构：式（I）。

公开(公告)号：US07326754B2

公开(公告)日：2008-02-05

申请号：US11248490

申请日：2005-10-12

申请人： Nikola A. Nikolic ,  Ruzhi Zhang ,  Osama M. Musa ,  Hwail Jin ,  Bing Wu ,  David Shenfield

发明人： Nikola A. Nikolic ,  Ruzhi Zhang ,  Osama M. Musa ,  Hwail Jin ,  Bing Wu ,  David Shenfield

IPC分类号： C08F136/56 ,  C08F136/02 ,  C08F236/56 ,  C08F236/10

CPC分类号： C08F267/10 ,  C08L25/00 ,  C08L33/00 ,  C08L55/00 ,  C09J5/10 ,  C09J11/06 ,  C09J2205/114 ,  C09J2425/00 ,  C09J2433/00 ,  C09J2455/00

摘要： This invention is a film adhesive prepared from an adhesive composition comprising a polymer system, a film forming rubber compound, and curing agents for the polymeric system. The polymer system comprises a base polymer and electron donor and electron acceptor functionality.

摘要翻译： 本发明是由包含聚合物体系，成膜橡胶化合物和用于聚合物体系的固化剂的粘合剂组合物制备的薄膜粘合剂。 聚合物体系包括基础聚合物和电子给体和电子受体官能团。

公开(公告)号：US20070298349A1

公开(公告)日：2007-12-27

申请号：US11425813

申请日：2006-06-22

申请人： Ruzhi Zhang ,  Mark O. Neisser ,  Woo-Kyu Kim ,  David J. Abdallah ,  Francis Houlihan ,  Ping-Hung Lu ,  Hong Zhuang

发明人： Ruzhi Zhang ,  Mark O. Neisser ,  Woo-Kyu Kim ,  David J. Abdallah ,  Francis Houlihan ,  Ping-Hung Lu ,  Hong Zhuang

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： C09D183/04 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/091 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282

摘要： The present invention relates to a novel antireflective coating composition for forming an underlayer for a photoresist comprising an acid generator and a novel siloxane polymer, where the siloxane polymer comprises at least one absorbing chromophore and at least one self-crosslinking functionality of structure (1), where m is 0 or 1, W and W′ are independently a valence bond or a connecting group linking the cyclic ether to the silicon of the polymer and L is selected from hydrogen, W′ and W, or L and W′ are combined to comprise a cycloaliphatic linking group linking the cyclic ether to the silicon of the polymer. The invention also relates to a process for imaging the photoresist coated over the novel antireflective coating composition and provides good lithographic results. The invention further relates to a novel siloxane polymer, where the siloxane polymer comprises at least one absorbing chromophore and at least one self-crosslinking functionality of structure (1).

摘要翻译： 本发明涉及一种用于形成光致抗蚀剂底层的新型抗反射涂料组合物，其包含酸产生剂和新型硅氧烷聚合物，其中硅氧烷聚合物包含至少一种吸收发色团和至少一种结构（1）的自交联官能团， 其中m为0或1，W和W'独立地为价键或连接环状醚与聚合物硅的连接基团，L选自氢，W'和W，或L和W'组合 包括将环醚与聚合物的硅连接的脂环族连接基团。 本发明还涉及一种用于对涂覆在新型抗反射涂料组合物上的光致抗蚀剂进行成像的方法，并提供良好的光刻结果。 本发明还涉及新的硅氧烷聚合物，其中硅氧烷聚合物包含至少一种吸收发色团和至少一种结构（1）的自交联官能团。