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    Positive resist composition and method of forming resist pattern
    3.
    发明授权
    Positive resist composition and method of forming resist pattern 有权
    正型抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法

    公开(公告)号：US08206891B2

    公开(公告)日：2012-06-26

    申请号：US12573686

    申请日：2009-10-05

    申请人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Takahiro Dazai ,  Tomoyuki Hirano ,  Fumitake Kaneko ,  Kotaro Endo

    发明人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Takahiro Dazai ,  Tomoyuki Hirano ,  Fumitake Kaneko ,  Kotaro Endo

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/123

    摘要： A positive resist composition including: a base component (A) which includes a polymeric compound (A1) containing a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) and a structural unit (a1) derived from an acrylate ester having an acid dissociable, dissolution inhibiting group; and an acid generator component (B) which includes an acid generator (B1) containing an anion moiety represented by the general formula (I): (in the formula (a0-1), R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group of 1 to 5 carbon atoms or a halogenated lower alkyl group of 1 to 5 carbon atoms; R2 represents a bivalent linking group; and R3 represents a cyclic group containing —SO2— within the ring skeleton. In the formula (I), X represents a cyclic group of 3 to 30 carbon atoms, Q1 represents a bivalent linking group containing an oxygen atom; Y1 represents an alkylene group of 1 to 4 carbon atoms or a fluorinated alkylene group of 1 to 4 carbon atoms).

    摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：包含含有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的聚合化合物（A1）和由具有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0））的结构单元（a1）的基础组分（A） 酸解离，溶解抑制组; 和含有由通式（I）表示的阴离子部分的酸发生剂（B1）的酸产生剂成分（B）：（式（a0-1）中，R 1表示氢原子，低级烷基 1〜5个碳原子的卤代低级烷基或1〜5个碳原子的卤代低级烷基; R2表示二价连接基团; R3表示环状骨架中含有-SO2-的环状基团，式（I）中，X表示 3〜30个碳原子的环状基团，Q1表示含有氧原子的二价连接基团，Y1表示碳原子数1〜4的亚烷基或碳原子数1〜4的氟化亚烷基。

    POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
    5.
    发明申请
    POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN 审中-公开
    聚合物，耐蚀组合物和形成耐力图案的方法

    公开(公告)号：US20130022911A1

    公开(公告)日：2013-01-24

    申请号：US13552485

    申请日：2012-07-18

    申请人： Yoshiyuki Utsumi ,  Takahiro Dazai

    发明人： Yoshiyuki Utsumi ,  Takahiro Dazai

    IPC分类号： C08F228/06 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

    摘要： A polymer containing an anion part which generates acid upon exposure on at least one terminal of the main chain, and at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit (a0) containing a —SO2-containing cyclic group, a structural unit (a3) containing at least one group selected from the group consisting of —OH, —COOH, —CN, —SO2NH2 and —CONH2 and a structural unit (a5) which generates acid upon exposure.

    摘要翻译： 含有阴离子部分的聚合物，其在主链的至少一个末端暴露时产生酸，以及至少一种选自包含含-SO 2的环状基团的结构单元（a0），结构单元 含有选自-OH，-COOH，-CN，-SO 2 NH 2和-CONH 2中的至少一种基团的单元（a3）和暴露时产生酸的结构单元（a5）。

    POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
    6.
    发明申请
    POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN 有权
    正电阻组合物和形成电阻图案的方法

    公开(公告)号：US20100086873A1

    公开(公告)日：2010-04-08

    申请号：US12573686

    申请日：2009-10-05

    申请人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Takahiro Dazai ,  Tomoyuki Hirano ,  Fumitake Kaneko ,  Kotaro Endo

    发明人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Takahiro Dazai ,  Tomoyuki Hirano ,  Fumitake Kaneko ,  Kotaro Endo

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/123

    摘要： A positive resist composition including: a base component (A) which includes a polymeric compound (A1) containing a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) and a structural unit (a1) derived from an acrylate ester having an acid dissociable, dissolution inhibiting group; and an acid generator component (B) which includes an acid generator (B1) containing an anion moiety represented by the general formula (I): (in the formula (a0-1), R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group of 1 to 5 carbon atoms or a halogenated lower alkyl group of 1 to 5 carbon atoms; R2 represents a bivalent linking group; and R3 represents a cyclic group containing —SO2— within the ring skeleton. In the formula (I), X represents a cyclic group of 3 to 30 carbon atoms, Q1 represents a bivalent linking group containing an oxygen atom; Y1 represents an alkylene group of 1 to 4 carbon atoms or a fluorinated alkylene group of 1 to 4 carbon atoms).

    摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：包含含有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的聚合化合物（A1）和由具有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0））的结构单元（a1）的基础组分（A） 酸解离，溶解抑制组; 和含有由通式（I）表示的阴离子部分的酸发生剂（B1）的酸产生剂成分（B）：（式（a0-1）中，R 1表示氢原子，低级烷基 1〜5个碳原子的卤代低级烷基或1〜5个碳原子的卤代低级烷基; R2表示二价连接基团; R3表示环状骨架中含有-SO2-的环状基团，式（I）中，X表示 3〜30个碳原子的环状基团，Q1表示含有氧原子的二价连接基团，Y1表示碳原子数1〜4的亚烷基或碳原子数1〜4的氟化亚烷基。

    COMPOUND, RADICAL POLYMERIZATION INITIATOR, METHOD FOR PRODUCING COMPOUND, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
    7.
    发明申请
    COMPOUND, RADICAL POLYMERIZATION INITIATOR, METHOD FOR PRODUCING COMPOUND, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN 有权
    化合物，自由基聚合引发剂，生产化合物的方法，聚合物，电阻组合物和形成电阻图案的方法

    公开(公告)号：US20140141373A1

    公开(公告)日：2014-05-22

    申请号：US14126535

    申请日：2012-06-15

    申请人： Yoshiyuki Utsumi ,  Takahiro Dazai ,  Jun Iwashita ,  Kenri Konno

    发明人： Yoshiyuki Utsumi ,  Takahiro Dazai ,  Jun Iwashita ,  Kenri Konno

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038

    CPC分类号： G03F7/038 ,  C07C25/18 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C08F4/04 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

    摘要： A compound represented by formula (I). In the formula, R1 represents a hydrocarbon group of 1 to 10 carbon atoms; Z represents a hydrocarbon group of 1 to 10 carbon atoms or a cyano group; provided that R1 and Z may be mutually bonded to form a ring; X represents a divalent linking group having any one selected from —O—C(═O)—, —NH—C(═O)— and —NH—C(═NH)— on a terminal that comes into contact with Q; p represents an integer of 1 to 3; Q represents a hydrocarbon group having a valency of (p+1), provided that, when p is 1, Q may be a single bond; R2 represents a single bond, an alkylene group which may have a substituent or an arylene group which may have a substituent; q represents 0 or 1; r represents an integer of 0 to 8; and A+ represents a metal cation or an organic cation.

    摘要翻译： 由式（I）表示的化合物。 在该式中，R 1表示1〜10个碳原子的烃基; Z表示1〜10个碳原子的烃基或氰基; 条件是R1和Z可以相互键合形成环; X表示在与Q接触的端子上具有选自-O-C（= O） - ， - NH-C（= O） - 和-NH-C（= NH））中任一个的二价连接基团; p表示1〜3的整数， Q表示具有（p + 1）价的烃基，条件是当p为1时，Q可以是单键; R2表示单键，可以具有取代基的亚烷基或可具有取代基的亚芳基; q表示0或1; r表示0〜8的整数， A +表示金属阳离子或有机阳离子。

    POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
    8.
    发明申请
    POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN 审中-公开
    聚合物，耐蚀组合物和形成耐力图案的方法

    公开(公告)号：US20130045443A1

    公开(公告)日：2013-02-21

    申请号：US13567356

    申请日：2012-08-06

    申请人： Yoshiyuki Utsumi ,  Takahiro Dazai

    发明人： Yoshiyuki Utsumi ,  Takahiro Dazai

    IPC分类号： C08F224/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C08F228/06

    CPC分类号： G03F7/11 ,  C08F224/00 ,  C08F228/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    摘要： A polymer comprising: an anion part which generates acid upon exposure on at least one terminal of the main chain; and a structural unit (a1) containing an acid decomposable group that exhibits increased polarity by the action of acid, wherein the structural unit (a1) comprises two types of structural units, and a difference in an activation energy of the acid decomposable groups within the two types of structural units is at least 3.0 kJ/mol.

    摘要翻译： 一种聚合物，其包含：阴离子部分，其在暴露于所述主链的至少一个末端时产生酸; 和含有通过酸作用显示出极性增加的酸分解性基团的结构单元（a1），其中，所述结构单元（a1）包含两种结构单元，其中所述酸分解基团的活化能的差异在 两种结构单元至少为3.0kJ / mol。