公开(公告)号：US07183037B2

公开(公告)日：2007-02-27

申请号：US09932792

申请日：2001-08-17

申请人： Zhibiao Mao ,  Suzanne Coley ,  Timothy G. Adams

发明人： Zhibiao Mao ,  Suzanne Coley ,  Timothy G. Adams

IPC分类号： G03C1/76

CPC分类号： G03F7/091

摘要： The present invention provides new light absorbing compositions suitable for use as an antireflective coating (“ARC”) with an overcoated resist layer. ARCs of the invention exhibit increased etch rates in standard plasma etchants. Preferred ARCs of invention have significantly increased oxygen content relative to prior compositions.

摘要翻译： 本发明提供适合用作具有外涂抗蚀剂层的抗反射涂层（“ARC”）的新的光吸收组合物。 本发明的ARC在标准等离子体蚀刻剂中表现出增加的蚀刻速率。 本发明的优选ARCs相对于现有组合物具有显着增加的氧含量。

公开(公告)号：US06316165B1

公开(公告)日：2001-11-13

申请号：US09264061

申请日：1999-03-08

申请人： Edward K. Pavelchek ,  Timothy G. Adams ,  Manuel doCanto ,  Suzanne Coley ,  George G. Barclay

发明人： Edward K. Pavelchek ,  Timothy G. Adams ,  Manuel doCanto ,  Suzanne Coley ,  George G. Barclay

IPC分类号： G03F700

CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S430/151

摘要： The present invention provides new light absorbing compositions suitable for use as antireflective coating compositions (“ARCs”), including for deep UV applications. The antireflective compositions of the invention are particularly useful where a planarizing coating layer is required. ARCs of the invention contain a low molecular weight resin, a plasticizer compound and/or a low Tg resin. The invention also includes methods for applying forming planarizing ARC coating layers.

摘要翻译： 本发明提供适合用作抗反射涂料组合物（“ARC”）的新的光吸收组合物，包括用于深UV应用。 本发明的抗反射组合物在需要平面化涂层时特别有用。 本发明的ARCs含有低分子量树脂，增塑剂化合物和/或低Tg树脂。 本发明还包括用于施加成形平坦化ARC涂层的方法。

公开(公告)号：US06855466B2

公开(公告)日：2005-02-15

申请号：US09952880

申请日：2001-09-15

申请人： Edward K. Pavelchek ,  Timothy G. Adams ,  Manuel doCanto ,  Suzanne Coley ,  George G. Barclay

发明人： Edward K. Pavelchek ,  Timothy G. Adams ,  Manuel doCanto ,  Suzanne Coley ,  George G. Barclay

IPC分类号： G03F7/11 ,  C08K5/13 ,  C08K5/3445 ,  C08L33/06 ,  C08L61/20 ,  C08L101/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S430/151

摘要： The present invention provides new light absorbing compositions suitable for use as antireflective coating compositions (“ARCs”), including for deep UV applications. The antireflective compositions of the invention are particularly useful where a planarizing coating layer is required. ARCs of the invention contain a low molecular weight resin, a plasticizer compound and/or a low Tg resin. The invention also includes methods for applying forming planarizing ARC coating layers.

摘要翻译： 本发明提供适合用作抗反射涂料组合物（“ARC”）的新的光吸收组合物，包括用于深UV应用。 本发明的抗反射组合物在需要平面化涂层时特别有用。 本发明的ARCs含有低分子量树脂，增塑剂化合物和/或低Tg树脂。 本发明还包括用于施加成形平坦化ARC涂层的方法。

公开(公告)号：US5719003A

公开(公告)日：1998-02-17

申请号：US534565

申请日：1995-09-27

申请人： Roger F. Sinta ,  Daniel Y. Pai ,  Timothy G. Adams

发明人： Roger F. Sinta ,  Daniel Y. Pai ,  Timothy G. Adams

IPC分类号： G03F7/004 ,  C09D7/12 ,  G03F7/022 ,  G03F7/033 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  H05K3/06 ,  G03F7/023 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/022

摘要： A photoresist composition comprising an alkali soluble resin and an ortho-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester of a polyhydroxy alcohol. The photoresist is characterized by having at least a portion of its free hydroxyl groups on the photoactive compound blocked with an acid labile blocking group that generates a hydroxide upon cleavage.

摘要翻译： 一种光致抗蚀剂组合物，其包含多羟基醇的碱溶性树脂和邻萘醌二叠氮磺酸酯。 光致抗蚀剂的特征在于在光活性化合物上具有至少一部分游离羟基被酸不稳定的封闭基团封端，在裂解时产生氢氧化物。

公开(公告)号：US07147983B1

公开(公告)日：2006-12-12

申请号：US08726613

申请日：1996-10-07

申请人： James Michael Mori ,  James W. Thackeray ,  Roger F. Sinta ,  Rosemary Bell ,  Robin L. Miller-Fahey ,  Timothy G. Adams ,  Thomas M. Zydowsky ,  Edward K. Pavelchek ,  Manuel doCanto

发明人： James Michael Mori ,  James W. Thackeray ,  Roger F. Sinta ,  Rosemary Bell ,  Robin L. Miller-Fahey ,  Timothy G. Adams ,  Thomas M. Zydowsky ,  Edward K. Pavelchek ,  Manuel doCanto

IPC分类号： G03F7/04

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/127

摘要： The present invention provides new photoresist compositions that comprise a resin binder, a photoactive component, particularly an acid generator, and a dye material that contains one or more chromophores that can reduce undesired reflections of exposure radiation. Preferred dye compounds are polymeric materials that include one or more chromophores such as anthracene and other polycyclic moieties that effectively absorb deep UV exposure radiation.

公开(公告)号：US06653049B2

公开(公告)日：2003-11-25

申请号：US09788111

申请日：2001-02-17

申请人： Edward K. Pavelchek ,  Manuel DoCanto ,  Timothy G. Adams

发明人： Edward K. Pavelchek ,  Manuel DoCanto ,  Timothy G. Adams

IPC分类号： G03F711

CPC分类号： G03F7/091

摘要： The present invention provides new light absorbing compositions suitable for use as antireflective coating compositions (“ARCs”), particularly for deep UV applications. The antireflective compositions of the invention in general comprise a resin binder component that contains a high molecular weight polymer, e.g. a polymer having an Mw of at least about 40,000 daltons. ARCs of the invention exhibit exceptional conformality upon application to a substrate surface. For example, ARCs of the invention can coat substantial topography such as vertical and sloping steps with high conformality.

摘要翻译： 本发明提供适合用作抗反射涂料组合物（“ARC”）的新的光吸收组合物，特别是用于深UV应用。 本发明的抗反射组合物通常包含含有高分子量聚合物的树脂粘合剂组分，例如， 具有至少约40,000道尔顿的Mw的聚合物。 本发明的ARC在应用于基底表面时表现出非凡的共形性。 例如，本发明的ARCs可以涂覆基本的形貌，例如具有高共形性的垂直和倾斜的台阶。

公开(公告)号：US20090220888A1

公开(公告)日：2009-09-03

申请号：US12316578

申请日：2008-12-12

申请人： James Michael Mori ,  James W. Thackeray ,  Roger F. Sinta ,  Rosemary Bell ,  Robin L. Miller-Fahey ,  Timothy G. Adams ,  Thomas M. Zydowsky ,  Edward K. Pavelchek ,  Manual doCanto

发明人： James Michael Mori ,  James W. Thackeray ,  Roger F. Sinta ,  Rosemary Bell ,  Robin L. Miller-Fahey ,  Timothy G. Adams ,  Thomas M. Zydowsky ,  Edward K. Pavelchek ,  Manual doCanto

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/127

摘要： The present invention provides new photoresist compositions that comprise a resin binder, a photoactive component, particularly an acid generator, and a dye material that contains one or more chromophores that can reduce undesired reflections of exposure radiation. Preferred dye compounds are polymeric materials that include one or more chromophores such as anthracene and other polycyclic moieties that effectively absorb deep UV exposure radiation.

公开(公告)号：US07256127B2

公开(公告)日：2007-08-14

申请号：US10661051

申请日：2003-09-13

申请人： Michael K. Gallagher ,  Dana A. Gronbeck ,  Timothy G. Adams ,  Jeffrey M. Calvert

发明人： Michael K. Gallagher ,  Dana A. Gronbeck ,  Timothy G. Adams ,  Jeffrey M. Calvert

IPC分类号： H01L21/311

CPC分类号： B81B7/0006 ,  B81B2203/0315 ,  B81C2201/0108 ,  H01L21/764 ,  H01L21/7682 ,  H01L23/5222 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T428/24628 ,  H01L2924/00

摘要： A method of forming air gaps within a solid structure is provided. In this method, a sacrificial material is covered by an overlayer. The sacrificial material is then removed through the overlayer to leave an air gap. Such air gaps are particularly useful as insulation between metal lines in an electronic device such as an electrical interconnect structure. Structures containing air gaps are also provided.

摘要翻译： 提供了一种在固体结构内形成气隙的方法。 在该方法中，牺牲材料被覆盖层覆盖。 然后通过覆盖层去除牺牲材料以留下空隙。 这种气隙特别适用于诸如电互连结构的电子设备中的金属线之间的绝缘。 还提供了包含气隙的结构。

公开(公告)号：US06033830A

公开(公告)日：2000-03-07

申请号：US966006

申请日：1997-11-07

申请人： Roger F. Sinta ,  Timothy G. Adams ,  James Michael Mori

发明人： Roger F. Sinta ,  Timothy G. Adams ,  James Michael Mori

IPC分类号： G03F7/11 ,  C09D5/00 ,  C09D7/12 ,  C09D133/14 ,  C09D201/02 ,  G02B1/11 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/091

摘要： The invention provides new light absorbing crosslinking compositions suitable for use as an antireflective composition (ARC), particularly for deep UV applications. The ARCs of the invention in general comprise a crosslinker and novel ARC resin binders that effectively absorb reflected deep UV exposure radiation.

摘要翻译： 本发明提供适合用作抗反射组合物（ARC）的新的光吸收交联组合物，特别是用于深UV应用。 本发明的ARC通常包含有效吸收反射的深紫外线照射辐射的交联剂和新型ARC树脂粘合剂。

公开(公告)号：US5641604A

公开(公告)日：1997-06-24

申请号：US583223

申请日：1996-01-04

申请人： Roger F. Sinta ,  Daniel Y. Pai ,  Timothy G. Adams

发明人： Roger F. Sinta ,  Daniel Y. Pai ,  Timothy G. Adams

IPC分类号： G03F7/004 ,  C09D7/12 ,  G03F7/022 ,  G03F7/033 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  H05K3/06 ,  G03F7/023

CPC分类号： G03F7/022

摘要： A photoresist composition comprising an alkali soluble resin and an ortho-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester of a polyhydroxy alcohol. The photoresist is characterized by having at least a portion of its free hydroxyl groups on the photoactive compound blocked with an acid labile blocking group that generates a hydroxide upon cleavage.

摘要翻译： 一种光致抗蚀剂组合物，其包含多羟基醇的碱溶性树脂和邻 - 萘醌二叠氮磺酸酯。 光致抗蚀剂的特征在于在光活性化合物上具有至少一部分游离羟基被酸不稳定的封闭基团封端，在裂解时产生氢氧化物。