利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

319 条记录 (耗时 0.017 秒)

    LOW RELEASE RATE CYLINDER PACKAGE
    92.
    发明申请
    LOW RELEASE RATE CYLINDER PACKAGE 审中-公开
    低释放率气缸包装

    公开(公告)号：WO2008016441A3

    公开(公告)日：2008-04-03

    申请号：PCT/US2007014814

    申请日：2007-06-26

    申请人： PRAXAIR TECHNOLOGY INC ,  WAGNER MATTHEW LINCOLN ,  HEIDERMAN DOUGLAS CHARLES

    发明人： WAGNER MATTHEW LINCOLN ,  HEIDERMAN DOUGLAS CHARLES

    IPC分类号： F17C13/04

    CPC分类号： F17C13/04 ,  F16K1/305 ,  F17C2201/0109 ,  F17C2201/0114 ,  F17C2201/032 ,  F17C2201/058 ,  F17C2205/018 ,  F17C2205/0335 ,  F17C2205/0338 ,  F17C2205/0341 ,  F17C2205/035 ,  F17C2205/0385 ,  F17C2205/0391 ,  F17C2223/0123 ,  F17C2223/0153 ,  F17C2223/033 ,  F17C2223/035 ,  F17C2223/036 ,  F17C2223/043 ,  F17C2223/047 ,  F17C2250/0636 ,  F17C2260/036 ,  F17C2270/0518 ,  Y10T137/86332

    摘要： An apparatus (100) for controlling the discharge of pressurized fluids from the outlet of a high pressure cylinder (110) containing toxic hydridic or flammable compounds is provided. The apparatus (100) contains a cylinder (110) for holding a pressurized fluid in an at least partial gas phase; a cylinder port body (114) threaded to the upper part of the cylinder (110) in a sealed position; a dual port head valve assembly (116) disposed within the cylinder port body (114), wherein a first port (130) is utilized to fill the cylinder with a pressurized fluid, and a second port in fluid communication with an outlet of the cylinder (122) to discharge the pressurized fluid; a gas flow discharge path (12 0) defined in part by the second port body and the outlet, and further including a restricted flow path (130) and a flow channel disposed upstream of the second port body, but wherein the gas flow discharge path does not include a restrictive element selected from the group of pressure regulators, check valves and restrictive flow orifices; and the restricted flow path (13 0) limits the flow rate of the gas discharged from the cylinder to 5,000 seem when the outlet of the cylinder (110) is exposed to an atmospheric condition.

    摘要翻译： 提供了一种用于控制从含有有毒的氢化物或易燃化合物的高压气瓶（110）的出口排出加压流体的装置（100）。 装置（100）包括用于将加压流体保持在至少部分气相中的气缸（110） 气缸端口主体（114），其在密封位置被螺纹连接到所述气缸（110）的上部; 设置在气缸端口主体（114）内的双端口头部阀组件（116），其中利用第一端口（130）将压力流体填充到气缸中，以及与气缸的出口流体连通的第二端口 （122）以排出加压流体; 一部分由第二端口主体和出口限定的气流排放路径（12 0），并且还包括限制流路（130）和设置在第二端口主体上游的流动通道，但是其中气流排放路径 不包括从压力调节器，止回阀和限制流量孔组中选择的限制元件; 并且当气缸（110）的出口暴露于大气条件时，限制流动路径（13 0）将从气缸排出的气体的流量限制为5,000sccm。

    処理ガス供給システム及び処理ガス供給方法
    93.
    发明申请
    処理ガス供給システム及び処理ガス供給方法 审中-公开
    处理气体供应系统和供应气体处理方法

    公开(公告)号：WO2008032516A1

    公开(公告)日：2008-03-20

    申请号：PCT/JP2007/065709

    申请日：2007-08-10

    申请人： 東京エレクトロン株式会社 ,  小宮山 清 ,  辻 顕寿 ,  藤原 卓哉

    发明人： 小宮山 清 ,  辻 顕寿 ,  藤原 卓哉

    IPC分类号： F17C7/00 ,  B01J4/00 ,  F17D1/04 ,  H01L21/3065

    CPC分类号： F17C7/00 ,  F17C5/06 ,  F17C2205/0326 ,  F17C2205/0335 ,  F17C2205/0352 ,  F17C2221/016 ,  F17C2223/0123 ,  F17C2227/044 ,  F17C2227/045 ,  F17C2250/032 ,  F17C2250/0443 ,  F17C2250/0626 ,  F17C2250/0636 ,  F17C2250/0673 ,  F17C2260/044 ,  F17C2260/053 ,  F17C2270/0518 ,  Y10T137/0419 ,  Y10T137/4259

    摘要： A treating gas supply system comprising treating gas supply piping (220) for supplying the treating gas from gas cylinder (210) to a treating unit and inert gas supply source (230) for supplying an inert gas to a gas supply piping, which treating gas supply system is adapted to during system operation wait ready while filling the interior of the gas supply piping with the inert gas, and to upon receiving of signal for treating gas use initiation (S) from the treating unit discharge by vacuuming the inert gas within the gas supply piping, charge the treating gas and initiate the supply of treating gas from a treating gas supply source, and to upon receiving of signal for treating gas use completion (F) from the treating unit terminate the supply of treating gas from the treating gas supply source, discharge by vacuuming the treating gas within the gas supply piping and charge the inert gas. Accordingly, in the nonuse of treating gas in the treating unit, the interior of the piping from the treating gas supply source to the treating unit is in the state of being filled with the inert gas to thereby attain preventing of any deposition within the piping during the nonuse period.

    摘要翻译： 一种处理气体供应系统，包括处理用于将气瓶（210）的处理气体供应到处理单元的气体供应管道（220）和用于向气体供应管道供应惰性气体的惰性气体供应源（230），该处理气体 供应系统适于在系统操作期间等待准备，同时用惰性气体填充气体供应管道的内部，并且在接收到用于处理来自处理单元排放的气体使用引发（S）的信号时，通过将惰性气体抽真空 气体供给管道，对处理气体进行充气并开始从处理气体供应源供给处理气体，并且在接收到用于处理气体使用完成（F）的信号时，处理单元终止从处理气体供应处理气体 供应源，通过抽气气体供应管道内的处理气体排出并对惰性气体充电。 因此，在处理单元中不使用处理气体的情况下，从处理气体供给源到处理单元的管道内部处于被惰性气体填充的状态，从而防止在管道内的任何沉积 非使用期。

    DOSING METHOD AND APPARATUS FOR LOW-PRESSURE SYSTEMS
    96.
    发明申请
    DOSING METHOD AND APPARATUS FOR LOW-PRESSURE SYSTEMS 审中-公开
    低压系统的计量方法和装置

    公开(公告)号：WO2007082265A2

    公开(公告)日：2007-07-19

    申请号：PCT/US2007/060384

    申请日：2007-01-11

    申请人： GROSS, Karl

    发明人： GROSS, Karl

    IPC分类号： F17D1/00

    CPC分类号： G05D7/0647 ,  F17C7/00 ,  F17C2223/0123 ,  F17C2223/033 ,  F17C2223/035 ,  F17C2223/036 ,  F17C2225/0123 ,  F17C2225/033 ,  F17C2225/035 ,  F17C2227/0135 ,  F17C2227/0157 ,  F17C2227/0185 ,  F17C2250/03 ,  F17C2250/032 ,  F17C2250/043 ,  F17C2250/0447 ,  F17C2250/0452 ,  F17C2250/0636 ,  F17C2260/024 ,  G01N30/32 ,  Y02E60/34 ,  Y10T137/0324

    摘要： A method and apparatus are presented for controlling the flow of gas from a source to a low- pressure device which is particularly useful for sampling high pressure gases. Examples are presented for the high-pressure dosing of an RGA. In one embodiment, the method isolates volumes of gases at high pressure, limits their pressure, and provides the gas at low pressure. In one embodiment the apparatus includes valves, flow restriction devices, and check valves, and can be used, for example, to either provide accurate and repeatable quantities discrete doses of gas from high pressure to low pressure or provide continuous dosing from high to low pressure. The apparatus and method are relatively insensitive to source pressure, and thus provide reproducible results over a range of source pressures.

    摘要翻译： 提出了一种用于控制从源到低压装置的气体流动的方法和装置，其特别适用于取样高压气体。 实施例用于RGA的高压计量。 在一个实施方案中，该方法在高压下分离出体积的气体，限制其压力，并在低压下提供气体。 在一个实施例中，该装置包括阀，流量限制装置和止回阀，并且可以用于例如提供从高压到低压的离散剂量的气体的精确和可重复的量，或者提供从高压到低压的连续计量 。 该设备和方法对源压力相对不敏感，因此在一定范围的源压力下提供可重复的结果。