Abstract:
Es wird ein strahlungsemittierendes optoelektronisches Halbleiterbauteil angegeben mit einer Strahlungsdurchtrittsfläche (S), durch die im Betrieb des Halbleiterbauteils erzeugtes Licht (R) tritt, einer ersten Barriereschicht (1), die an einer Oberseite der Strahlungsdurchtrittsfläche (S) angeordnet ist und dort zumindest stellenweise in direktem Kontakt mit der Strahlungsdurchtrittsfläche (S) steht, einem Konversionselement (3), welches an der der Strahlungsdurchtrittsfläche (S) abgewandten Oberseite der ersten Barriereschicht (1) angeordnet ist, einer zweiten Barriereschicht (2), die an der der ersten Barriereschicht (1) abgewandten Oberseite des Konversionselements (3) und an der Oberseite der ersten Barriereschicht (1) angeordnet ist, wobei die erste Barriereschicht (1) und die zweite Barriereschicht (2) das Konversionselement (3) gemeinsam vollständig umschließen, und die erste Barriereschicht (1) und die zweite Barriereschicht (2) stellenweise in direktem Kontakt miteinander stehen.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement mit einem optoelektronischen Halbleiterchip angegeben. Insbesondere handelt es sich bei dem optoelektronischen Halbleiterbauelement um ein Strahlung emittierendes Halbleiterbauelement, das als Seitenemitter ausgebildet ist. Ferner wird ein Verfahren zur Herstellung eines derartigen optoelektronischen Halbleiterbauelements angegeben.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zum Herstellen eines elektronischen Bauelements beschrieben. Das Verfahren umfasst ein Aufbringen einer Klebeschicht auf einen Träger; ein Anhärten der auf den Träger aufgebrachten Klebeschicht; und ein Bereitstellen eines Chips, wobei der Chip ein Substrat und eine auf einer ersten Seite des Chips angeordnete Schichtenfolge aufweist. Ferner umfasst das Verfahren ein Auflegen des Chips mit einer Oberseite der Schichtenfolge auf die angehärtete Klebeschicht; ein Einbetten des Chips in einen Formkörper, wobei die Oberseite der Schichtenfolge und eine erste Seite des Formkörpers im Wesentlichen in einer Ebene liegen; ein Trennen des eingebetteten Chips und des Trägers; und ein Aufbringen einer elektrisch leitenden Struktur auf die erste Seite des Formkörpers, wobei der Formkörper eine vertikale elektrische Isolierung zwischen der elektrisch leitenden Struktur und dem Substrat bildet.
Abstract:
Ein optoelektronisches Bauelement (10) weist einen optoelektronischen Halbleiterchip (200) auf, der als Volumenemitter ausgebildet ist. Der optoelektronische Halbleiterchip ist in einen optisch transparenten Formkörper (300) eingebettet. An einer Unterseite des Formkörpers ist ein Lötkontakt (320; 330) angeordnet. Ein Bonddraht (260, 270) bildet eine elektrisch leitende Verbindung zwischen einer elektrischen Kontaktfläche des optoelektronischen Halbleiterchips und dem Lötkontakt. Der Bonddraht ist in den Formkörper eingebettet.
Abstract:
Ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements umfasst Schritte zum Bereitstellen eines Trägers mit einer Trägeroberfläche, wobei ein erster lateraler Abschnitt der Trägeroberfläche gegenüber einem zweiten lateralen Abschnitt der Trägeroberfläche erhaben ist, zum Anordnen eines optoelektronischen Halbleiterchips mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche auf der Trägeroberfläche, wobei die erste Oberfläche der Trägeroberfläche zugewandt wird, und zum Ausbilden eines Formkörpers mit einer der Trägeroberfläche zugewandten Oberseite und einer der Oberseite gegenüberliegenden Unterseite, wobei der Halbleiterchip zumindest teilweise in den Formkörper eingebettet wird.
Abstract:
Ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements umfasst Schritte zum Bereitstellen eines optoelektronischen Halbleiterchips mit einer ersten Oberfläche, zum Aufbringen einer Opferschicht auf der ersten Oberfläche, zum Ausbilden eines Formkörpers, wobei der optoelektronische Halbleiterchip zumindest teilweise in den Formkörper eingebettet wird, und zum Entfernen der Opferschicht.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform beinhaltet das optoelektronische Halbleiterbauteil (1) mindestens einen Chipträger (2) mit elektrischen Kontakteinrichtungen (3) sowie mindestens einen optoelektronischen Halbleiterchip (4), der zu einer Strahlungserzeugung eingerichtet ist und der auf dem Chipträger (2) mechanisch und elektrisch angebracht ist. Ein Bauteilträger (5) ist an dem Chipträger (2) befestigt. Der Halbleiterchip (4) befindet sich in einer Ausnehmung (54) des Bauteilträgers (5). Der Bauteilträger (5) ist elektrisch von dem Chipträger (2) und dem Halbleiterchip (4) isoliert. Es ist der Bauteilträger (5) aus einem Metall oder einer Metalllegierung geformt. An einer dem Chipträger (2) abgewandten Oberseite (50) ist der Bauteilträger (5) mit einer reflektierenden Beschichtung (55) versehen.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein optoelektronisches Bauteil (101), umfassend eine Erzeugungseinrichtung (103) zum Erzeugen von elektromagnetischer Strahlung und eine Auskoppeleinrichtung (105) zum Auskoppeln von elektromagnetischer Strahlung aus der Erzeugungseinrichtung (103), wobei auf einer Strahlungsaustrittsseite der Auskoppeleinrichtung (105) eine Reduzierungseinrichtung (107) zum Reduzieren einer Strahlungsdichte der ausgekoppelten elektromagnetischen Strahlung (306) angeordnet ist. Eine blaue oder UV emittierende Laserdiode (507) ist auf einer Wärmesenke (505) angeordnet in einem Transistorgehäuse (509). Um die Lichtintensität an der Grenzfläche Strahlungsaustritt zu Luft zu verringern, ist ein Fenster (515) mit Hilfe eines Klebers (513) an der Facette (511) der Laserdiode (507) befestigt. Durch die verringerte Leistungsdichte an der Strahlungsaustrittsfläche wird eine Kontamination dieser verringert und damit die Lebensdauer des Bauteils verlängert.
Abstract:
Ein optoelektronisches Halbleiterbauteil umfasst einen optoelektronischen Halbleiterchip, der in einen elektrisch isolierenden Formkörper mit einer Oberseite und einer Unterseite eingebettet ist. In den Formkörper ist außerdem ein Durchkontakt eingebettet, der eine elektrisch leitende Verbindung zwischen der Oberseite und der Unterseite des Formkörpers bildet. Auf der Oberseite des Formkörpers ist eine reflektierende Schicht angeordnet, die eine elektrisch leitende Verbindung zwischen einem elektrischen Kontakt des Halbleiterchips und dem Durchkontakt bildet. Dabei bedeckt die reflektierende Schicht die Oberseite des Formkörpers zu mindestens 50 %.
Abstract:
In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird ein Gehäuse für ein elektronisches Bauelement bereitgestellt. Das Gehäuse weist einen Leiterrahmenabschnitt und einen Formwerkstoff auf. Der Leiterrahmenabschnitt ist aus einem elektrisch leitenden Material gebildet und weist einen Aufnahmebereich zum Aufnehmen des elektronischen Bauelements und/oder einen Kontaktbereich zum Kontaktieren des elektronischen Bauelements auf. Der Leiterrahmenabschnitt ist in den Formwerkstoff eingebettet. Der Formwerkstoff weist mindestens eine Aufnahmeausnehmung auf, in der der Aufnahmebereich und/oder der Kontaktbereich frei gelegt sind. In dem Formwerkstoff ist mindestens eine Spannungsreduktionsausnehmung ausgebildet, die frei von dem Aufnahmebereich und/oder dem Kontaktbereich ist.