Abstract:
A photon source is disclosed. The photon source comprises a semiconductor device comprising a first nanostructure and a second nanostructure, and control circuitry operable to apply an electric pulse to the semiconductor device so as to cause the first nanostructure to emit one single photon. The photon source is configured such that when the electric pulse is applied to the semiconductor device, only a single electron or only a single hole is provided to the first nanostructure via the second nanostructure.
Abstract:
The invention provides a material (100) comprising In x Ga 1-x P, wherein 0 x Ga 1-x P has the Wurtzite crystal structure. The invention also provides a core- shell nanowire, wherein the core-shell nanowire comprises a core of a second material having the Wurtzite crystal structure, and a shell comprising a first material comprising said In x Ga 1-x P. The invention also provides a device comprising a first electrode and a second electrode which are mutually connected via In x Ga 1-x P or the core-shell nanowire. The emission is tunable from orange to far red.
Abstract translation:本发明提供了包含In x Ga 1-x P p的材料(100),其中0 x 1 1 1 1 sub> P具有纤锌矿晶体结构。 本发明还提供了核 - 壳纳米线,其中核 - 壳纳米线包括具有纤锌矿晶体结构的第二材料的核和包含第一材料的壳,所述第一材料包含所述In 1 x Ga n > 1-x 子> P上。 本发明还提供了一种装置,其包括经由In x Ga 1-x P或核 - 壳纳米线相互连接的第一电极和第二电极。 发射可以从橙色调到远红色。 p>
Abstract:
Techniques for tuning the illumination pattern of a Light Emitting Diode (LED) are described. An example image capture system incorporates an LED with an integrated micro-reflector. The example image capture system includes a camera to capture an image of an object and a Light Emitting Diode (LED) to emit light for illuminating the object. The LED includes a light emitting layer and a window layer made of transparent semiconductor material disposed over the light emitting layer. The shape of the window layer creates a plurality of reflectors that generate a specified illumination pattern that reduces the effect of illuminance distortions created by the image capture system.
Abstract:
A light emitting diode (LED) includes a semiconductor material with an active region. The active region is disposed in the semiconductor material to produce light in response to a voltage applied across the semiconductor material. The active region includes a wide bandgap region disposed to inhibit charge transfer from a central region of the LED to the lateral edges of the LED. The active region also includes a narrow bandgap region disposed in the central region with the wide bandgap region disposed about the narrow bandgap region, and the narrow bandgap region has a narrower bandgap than the wide bandgap region.
Abstract:
Infrarot-LED mit monolithischer und stapelförmiger Struktur (10), aufweisend, ein n-dotiertes Basissubstrat (14) das GaAs umfasst, eine untere Mantelschicht (16), eine aktive (18) Schicht für die Erzeugung von infraroter Strahlung, eine obere Mantelschicht (20), eine Stromverteilerschicht (24) sowie eine obere Kontaktschicht (26), wobei die Schichten in der genannten Reihenfolge angeordnet sind, wobei zwischen der oberen Mantelschicht (20) und der Stromverteilerschicht (24) eine erste Tunneldiode (22) angeordnet ist, und wobei die Stromverteilerschicht (24) überwiegend eine n-dotierte Ga-haltige Schicht mit einem Ga-Gehalt > 1% aufweist.
Abstract:
Es wird ein Bauelement (100) mit einem Träger (1) und einem auf dem Träger angeordneten Halbleiterkörper (2) angegeben, wobei der Halbleiterkörper eine aktive Schicht (23) aufweist, die im Betrieb des Bauelements zur Erzeugung einer elektromagnetischen Strahlung (L) eingerichtet ist. Das Bauelement weist außerdem eine elektrische Kontaktschicht (61) auf einer Strahlungsaustrittsfläche auf, wobei das Bauelement in unmittelbarer Umgebung der elektrischen Kontaktschicht eine Abschirmungsstruktur (4) enthält, die dazu eingerichtet ist, ein Auftreffen der von der aktiven Schicht erzeugten elektromagnetischen Strahlung auf die Kontaktschicht zu verhindern.