公开(公告)号：WO2004055856A3

公开(公告)日：2004-08-12

申请号：PCT/EP0314140

申请日：2003-12-12

Applicant: INTEGRATED CIRCUIT TESTING ,  FROSIEN JUERGEN ,  ADAMEC PAVEL

Inventor： FROSIEN JUERGEN ,  ADAMEC PAVEL

IPC: H01J37/145 ,  H01J37/317

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/145 ,  H01J37/3177

Abstract: The invention provides an optical system for a charged particle multi-beam system. The optical system comprises an electrostatic lens component and a magnetic lens component. The components are used to focus a plurality of charged particle beams in a separate opening for each of at least a plurality a charged particle beams traveling through the optical system.

Abstract translation: 本发明提供了用于带电粒子多光束系统的光学系统。 该光学系统包括静电透镜组件和磁性透镜组件。 这些部件用于将多个带电粒子束聚焦在至少多个行进通过光学系统的带电粒子束中的每一个的单独开口中。

公开(公告)号：WO03052790A3

公开(公告)日：2003-10-16

申请号：PCT/DE0204327

申请日：2002-11-26

Applicant: CEOS GMBH ,  LEO ELEKTRONENMIKROSKOPIE GMBH ,  UHLEMANN STEPHAN ,  HAIDER MAXIMILAN ,  MUELLER HEIKO

Inventor： UHLEMANN STEPHAN ,  HAIDER MAXIMILAN ,  MUELLER HEIKO

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/065 ,  H01J37/073 ,  H01J37/12 ,  H01J37/145 ,  H01J37/153 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01J37/153 ,  H01J37/145 ,  H01J2237/3175

Abstract: Disclosed is a lens array having a laterally movable axis for corpuscular rays, particularly for transmission from areas of an object surface onto the focal plane by means of electrons. The inventive array consists of a combined lens comprising a cylinder lens and a quadrupole lens provided with slit diaphragms which can be impinged upon by electric and/or magnetic fields. The optical axis of the quadrupole lens is oriented parallel to the axis of the cylinder lens and defines the optical axis of the projection, the position of which can be altered in relation to the axis of the cylinder lens. The quadrupole lens is in focus in the sector in which the cylinder lens is not in focus and is out of focus in the section in which the cylinder lens is in focus. The inventive combined lens can be operated as an immersion lens for projecting secondary electrons. The immersion field consists of at least two adjacent axially aligned fields. The first field lies between the object and the first slit diaphragm, and the second field lies between the first slit diaphragm and the second slit diaphragm. Both fields can be focused independently from each other. The potential difference between the object and the first diaphragm is comparatively small in relation to the potential difference between the first diaphragm and the second diaphragm, and the potential course between the object and the first diaphragm has to be approximately linear. The combined lens is brought into/out of focus by superposing the immersion field, the cylinder lens field, and the quadrupole field. Alternatively, the lens array can be used as a cathode lens for a photocathode with several homogenous adjacent emission areas.

Abstract translation: 本发明公开了具有透镜组件，用于粒子束一个可横向移动的光轴，特别是用于传输的物面的区域由电子装置到图像平面中，具有组合的透镜，它由一个柱面透镜和一个四极透镜的具有电和/或磁场可以在狭缝光阑被作用 ， 四极的光轴取向平行于柱面透镜的轴和限定所述图像的光轴，其位置是相对于所述柱面透镜的轴可变的。 该四极透镜的聚焦发生在其中气缸镜头未聚焦的部分的地方，并聚焦在四极杆的散焦部分中，其中所述柱面透镜。 根据本发明，提供的是所述组合透镜可操作为浸没透镜为二次电子的成像，浸渍箱是在从至少两个aneinunder相邻场，第一场中的对象和第一狭缝光阑，第一和第二狭缝光阑之间的第二场之间存在轴线方向存在，并且 两个领域都是独立可调的。 根据该提案，目的和第一相对于第一和第二相对较小，并且在物体和第一孔之间的电势分布之间的孔径光阑之间的电位差被进一步限定近似线性的。 组合透镜的聚焦/散焦效应由浸没场，柱面透镜场和四极场的叠加产生。 所提出的透镜装置的变体旨在用作具有多个相同的相邻发射区域的光电阴极的阴极透镜。

公开(公告)号：WO2017132435A1

公开(公告)日：2017-08-03

申请号：PCT/US2017/015223

申请日：2017-01-27

Applicant: HERMES MICROVISION INC. ,  REN, Weiming ,  LIU, Xuedrang ,  HU, Xuerang ,  CHEN, Zhongwei

Inventor： REN, Weiming ,  LIU, Xuedrang ,  HU, Xuerang ,  CHEN, Zhongwei

IPC: G06T7/00 ,  H01J37/252 ,  H01J37/20 ,  H01J37/28 ,  H01J37/26 ,  H01J37/06 ,  H01J37/04 ,  H01J37/10

CPC classification number: H01J37/06 ,  G01N23/2251 ,  G01N2223/418 ,  G01N2223/6116 ,  H01J37/145 ,  H01J37/1474 ,  H01J37/226 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/2817

Abstract: A new multi-beam apparatus with a total FOV variable in size, orientation and incident angle, is proposed. The new apparatus provides more flexibility to speed the sample observation and enable more samples observable. More specifically, as a yield management tool to inspect and/or review defects on wafers/masks in semiconductor manufacturing industry, the new apparatus provide more possibilities to achieve a high throughput and detect more kinds of defects.

Abstract translation: 提出了一种新的多光束设备，其总大小，方向和入射角都是可变的。 新设备提供了更大的灵活性来加速样品观察，并使更多样品可观察。 更具体地说，作为用于检查和/或审查半导体制造工业中的晶片/掩模上的缺陷的产量管理工具，该新设备为实现高产量和检测更多种类的缺陷提供了更多的可能性。

公开(公告)号：WO2016132487A1

公开(公告)日：2016-08-25

申请号：PCT/JP2015/054473

申请日：2015-02-18

Applicant: 株式会社日立製作所

Inventor： 白崎　保宏 ,  圓山　百代 ,  太田　洋也

IPC: H01J37/153

CPC classification number: H01J37/153 ,  H01J37/14 ,  H01J37/145

Abstract: 　収差補正器は、荷電粒子線の収差を補正するミラー（１０８）と、ビームセパレータ（１０７）と、ビームセパレータ内のバイパス光学系（１０９）と、を含む。ビームセパレータ（１０７）は、荷電粒子線の入口（１１７Ａ）と、荷電粒子線が対物レンズ（１１０）に向けて出射する出口（１１７Ｃ）とを含み、オン状態において、荷電粒子線を偏向することで、入口（１１７Ａ）からミラー（１０８）への入射軌道とミラー（１０８）から出口（１１７Ｃ）への反射軌道とを分離する。バイパス光学系（１０９）は、ビームセパレータ（１０７）がオン状態のときに荷電粒子線の軌道が迂回し、ビームセパレータ（１０７）がオフ状態のときに荷電粒子線の軌道が通過する位置に配置され、ミラー（１０８）を経由する軌道とバイパス光学系（１０９）を通過する軌道とにおける対物レンズ光学条件が一致するように荷電粒子線を制御する。

Abstract translation: 该像差校正器包括用于校正带电粒子束像差的反射镜（108），光束分离器（107）和光束分离器内部的旁路光学系统（109）。 光束分离器（107）包括带电粒子束入口（117A）和从所述带电粒子束朝向物镜（110）喷射的出口（117C）。 在ON状态下，光束分离器（107）将从入口（117A）到反射镜（108）的注入轨迹和从反射镜（108）到出口（117C）的反射轨迹分离， 带电粒子束。 旁路光学系统（109）设置在当分束器（107）处于关闭状态时被带电粒子束轨迹穿过的位置，并且当分束器（107）被带电粒子束轨迹旁路时 ）处于ON状态。 旁路光学系统（109）以这样的方式控制带电粒子束，使得物镜光学条件在经过反射镜（108）的轨迹和通过旁路光学系统（109）的轨迹之间匹配。

公开(公告)号：WO2015166849A1

公开(公告)日：2015-11-05

申请号：PCT/JP2015/062178

申请日：2015-04-22

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 野間口　恒典 ,  揚村　寿英

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/12 ,  H01J37/141 ,  H01J37/145 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/04 ,  H01J37/065 ,  H01J37/09 ,  H01J37/12 ,  H01J37/14 ,  H01J37/141 ,  H01J37/145 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/04756 ,  H01J2237/14

Abstract: 　電子線装置において、外乱による影響を受けにくくし、かつ、高空間分解能と高輝度を両立する。電子線装置において、例えば、電子線を発生する電子源（１０１）と、電子線を試料（１１４）上に集束する対物レンズとの間に、高電圧のビーム管（１１０）を電子源（１０１）側に、低電圧のビーム管（１１２）を対物レンズ側に配置することに関する。これにより、例え試料に積極的に磁場を漏らすタイプの対物レンズを備えたＳＥＭであっても、空間分解能を維持しつつ、高輝度化を図ることができる。

Abstract translation: 本发明提供一种实现高空间分辨率和高亮度的电子束装置，同时不受外部干扰的影响。 电子束装置技术领域本发明涉及一种电子束装置，其中，在例如用于产生电子束的电子源（101）和用于将电子束聚焦到样品（114）上的物镜之间，高压束管（110） ）设置在电子源（101）附近，并且低压射束管（112）靠近物镜设置。 这使得即使使用设置有主动地将磁场泄漏到样品上的物镜的类型的SEM，也可以在保持空间分辨率的同时实现高亮度。

公开(公告)号：WO2008107189A3

公开(公告)日：2009-03-05

申请号：PCT/EP2008001797

申请日：2008-03-06

Applicant: ZEISS CARL NTS GMBH ,  DREXEL VOLKER

Inventor： DREXEL VOLKER

IPC: H01J37/145 ,  H01J37/141 ,  H01J37/147

CPC classification number: H01J37/145 ,  H01J37/141 ,  H01J37/1471

Abstract: An objective lens (100) for focussing charged particles comprises a magnetic lens and an electrostatic lens whose components are displaceable relative to each other. The bore of the outer pole piece (2) of the magnetic lens exhibits a diameter Da which is larger than a diameter Di of the bore of the inner pole piece (1) of the magnetic lens, wherein the following relationship is satisfied: 1.5-Di = Da = 3-Di, and wherein the lower end of the inner pole piece is disposed in a distance of at least 2 mm offset from the inner end of the outer pole piece in a direction of the optical axis OA.

Abstract translation: 用于聚焦带电粒子的物镜（100）包括磁性透镜和其组件相对于彼此移位的静电透镜。 磁性透镜的外极片（2）的孔的直径Da大于磁性透镜的内极片（1）的孔径Di，其中满足以下关系：1.5- Di = Da = 3-Di，并且其中内极片的下端设置在与光轴OA的方向上的外极片的内端偏移至少2mm的距离处。

公开(公告)号：WO2008071303A3

公开(公告)日：2008-09-12

申请号：PCT/EP2007010193

申请日：2007-11-23

Applicant: ZEISS CARL NTS GMBH ,  PREIKSZAS DIRK

Inventor： PREIKSZAS DIRK

IPC: H01J37/09 ,  H01J37/145 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01J37/09 ,  H01J37/145 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/31745 ,  H01J2237/31749

Abstract: A particle-optical arrangement composed of an electron microscopy system (3) and an ion beam processing system (7) comprises an objective lens (43) of the electron microscopy system, said lens having an annular electrode (59), which is a component of the electron microscopy system that is arranged closest to a position (11) of an object to be examined. A shielding electrode (81) is arranged between the annular electrode and a principal axis (9) of the ion beam processing system (7).

Abstract translation: 电子显微镜系统（3）和离子束处理系统的粒子光学装置（7）包括具有环电极（59）的电子显微镜系统的物镜（43），其具有的一个设置在的位置（11），以检查对象的下一个组件 是电子系统。 环形电极和离子束处理系统的主轴线（9）（7）之间是一个屏蔽电极（81）被布置。

公开(公告)号：WO2008044856A1

公开(公告)日：2008-04-17

申请号：PCT/KR2007/004918

申请日：2007-10-09

Applicant: CEBT CO. LTD. ,  KIM, Ho Seob

Inventor： KIM, Ho Seob

IPC: H01J37/14

CPC classification number: H01J37/145 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/12 ,  H01J37/143 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/1205 ,  H01J2237/1405 ,  H01J2237/26 ,  H01J2237/3175

Abstract: Disclosed herein is an electron column using a magnetic lens layer. The electron column includes a magnetic lens layer for condensing an electron beam using permanent magnets. The magnetic lens layer includes a support plate, an aperture formed through the support plate, and permanent magnets arranged around the aperture and disposed on or inserted into the support plate.

Abstract translation: 本文公开了使用磁性透镜层的电子柱。 电子柱包括用于使用永久磁体冷凝电子束的磁透镜层。 磁性透镜层包括支撑板，通过支撑板形成的孔和围绕孔布置并设置在支撑板上或插入到支撑板中的永磁体。

公开(公告)号：WO1991002374A1

公开(公告)日：1991-02-21

申请号：PCT/JP1989000810

申请日：1989-08-08

Applicant: SEIKO INSTRUMENTS INC. ,  YONEZAWA, Akira

Inventor： SEIKO INSTRUMENTS INC.

IPC: H01J37/10

CPC classification number: H01J37/145

Abstract: Spherical aberration coefficient and chromatic aberration coefficient in an electronic probe irradiation system are decreased by using an object lens which consists of an electrostatic lens and a magnetic field-type lens, in order to efficiently detect the formed secondary electrons through a hole of the electrostatic lens. In the charged particle ray apparatus which permits the sample to be selectively irradiated with positive ions and electrons, furthermore, the electron beam is focused on the sample using the object lens which consists of the electrostatic lens and the magnetic field-type lens. The beam is focused on the sample by the magnetic field action of the electrostatic lens that is maintained at the same polarity as the case when the positive ion beam and the electrons are focused; i.e., positive ions and electrons are focused on the same sample position maintaining the strength of the object lens nearly constant.

Abstract translation: 通过使用由静电透镜和磁场型透镜构成的物镜来减小电子探针照射系统中的球面像差系数和色差系数，以便通过静电透镜的孔有效地检测形成的二次电子 。 此外，在允许用正离子和电子选择性地照射样品的带电粒子射线装置中，使用由静电透镜和磁场型透镜构成的物镜将电子束聚焦在样品上。 光束通过静电透镜的磁场作用聚焦在样品上，静电透镜保持在与正离子束和电子聚焦的情况下相同的极性; 即正离子和电子聚焦在相同的样品位置上，保持物镜的强度几乎恒定。

公开(公告)号：WO2014142745A1

公开(公告)日：2014-09-18

申请号：PCT/SG2014/000102

申请日：2014-03-04

Applicant: LUO, Tao

Inventor： LUO, Tao

IPC: H01J37/14 ,  H01J37/143 ,  H01J37/145

CPC classification number: H01J37/14 ,  H01J3/20 ,  H01J37/143 ,  H01J37/145 ,  H01J2237/1405

Abstract: An apparatus includes a magnetic adjustment lens (116) positioned at the electron beam path between the electron source (102) and sample (124), the magnetic adjustment lens excited by an electric coil, and a permanent magnet lens (118) positioned below the magnetic adjustment lens to focus the electron beam onto the sample surface, the permanent magnet lens excited by one or more permanent ring magnets enclosed except on a bottom surface by a magnetic field conductor. The magnetic adjustment lens may be excited to eliminate magnetic field leakage of the permanent magnet lens.

Abstract translation: 一种设备包括位于电子源（102）和样品（124）之间的电子束路径处的磁调节透镜（116），由电线圈激励的磁调节透镜和位于电子源 磁调节透镜将电子束聚焦到样品表面上，永磁体透镜由一个或多个永久环形磁体激发，除了通过磁场导体在底表面外。 可以激励磁调节透镜以消除永磁体透镜的磁场泄漏。