公开(公告)号：WO0107195A9

公开(公告)日：2002-09-06

申请号：PCT/EP0006914

申请日：2000-07-19

Applicant: HEIDELBERG INSTR MIKROTECHNIK ,  VOGLER SVEN ,  KAPLAN ROLAND

Inventor： VOGLER SVEN ,  KAPLAN ROLAND

IPC: B23K26/042 ,  B23K26/06 ,  B23K26/08 ,  B23K26/382 ,  B23K26/402 ,  B23K26/70 ,  H05K1/02 ,  H05K3/00 ,  B23K26/00 ,  B23K26/04

CPC classification number: B23K26/042 ,  B23K26/03 ,  B23K26/06 ,  B23K26/0853 ,  B23K26/382 ,  B23K26/705 ,  B23K2203/50 ,  H05K1/0269 ,  H05K3/0008 ,  H05K3/0026

Abstract: The invention relates to a method of producing microbore holes in a multi-layer substrate (5), especially a printed board substrate which is displaced below a writing optics (4) by means of an XY plate (6), using said optics to generate a spot of a light source (1), especially a laser. The aim of the invention is to reduce the treatment time and preferably to compensate for advantages of the material of the substrate. To this end, the position of the spot within a working field is changed simultaneously with the treatment positions by means of electronically controlled, movable mirrors. The position of the substrate is specifically determined by means of an interferometer (9, 11) and the signals that correspond to the substrate position are processed to an actual position of the table system by means of a suitably equipped processing unit (16). Said processing unit (16) is preferably provided with all bore hole coordinates and additional information such as bore hole diameter, especially in a tabular form.

Abstract translation: 的方法，在多层衬底用作用于生产微孔（5），尤其是印刷电路板基板，其通过XY载物台（6）根据（4）的写入光学系统，并通过装置移动，其中来自光源（1）的点，特别是激光， 被生成。 通过该方法的处理时间被减小和要补偿的基板的优选的材料的优点。 为了这个目的，提出了与对应于由电子控制，可动镜的工作区域内的点的位置的加工位置同时变化，这特别是通过干涉仪的装置（9，11）进行的基板位置的确定，并且（通过适当装备的计算机系统的装置 16）在基板的位置信号中的相应一个被加工成表系统的实际位置，其特征在于，所述计算机系统（16），优选所有孔的坐标和附加信息，如井孔直径是，特别是在提供的表的形式。

公开(公告)号：WO01020277A1

公开(公告)日：2001-03-22

申请号：PCT/US2000/025113

申请日：2000-09-13

IPC: G01B11/00 ,  A61B17/00 ,  A61F9/007 ,  A61F9/008 ,  A61F9/01 ,  B23K26/42 ,  G01B11/28 ,  G01J1/02 ,  G01J1/42 ,  H01S3/00 ,  H01S3/101 ,  G01J1/00 ,  G01C1/00

CPC classification number: G01J1/4257 ,  A61B2017/00725 ,  A61F9/00814 ,  A61F2009/00855 ,  A61F2009/00872 ,  B23K26/705 ,  G01J2001/4261

Abstract: A method for determining the dimensions of a laser beam spot (20), comprising: scanning the laser beam (18) in a path across a reference-edge (30) having a photodetector (40) positioned therebehind; and measuring an output signal from the photodetector (40) during the scanning, the output signal corresponding to an area of the laser beam spot (20) incident on the photodetector (40) during the scanning.

Abstract translation: 一种用于确定激光束点（20）的尺寸的方法，包括：在穿过其上定位有光电检测器（40）的参考边缘（30）的路径中扫描激光束（18）; 以及在扫描期间测量来自所述光电检测器（40）的输出信号，所述输出信号对应于在扫描期间入射到所述光电检测器（40）上的所述激光束点（20）的区域。

公开(公告)号：WO01001532A1

公开(公告)日：2001-01-04

申请号：PCT/IB2000/000894

申请日：2000-06-22

IPC: H01S3/00 ,  B23K26/12 ,  B23K26/42 ,  G01J1/42 ,  G03F7/20 ,  H01S3/13 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/225

CPC classification number: H01S3/225 ,  B23K26/12 ,  B23K26/128 ,  B23K26/705 ,  B23K2203/04 ,  G01J1/4257 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70808 ,  H01S3/0014 ,  H01S3/134

Abstract: A beam delivery system for a laser emitting at a relevant wavelength of less than 200 nm is provided. The system includes a sealed enclosure connected to the laser and surrounding the path of the beam as it exits the laser resonator. The enclosure extends between the laser output coupler and a photodetector sensitive at the wavelength of the relevant laser emission. The interior of the enclosure, and thus the beam path between the output coupler and the detector, is substantially free of species that strongly photoabsorb radiation at the relevant laser emission wavelength. A beam splitting element diverts at least a portion of the beam for measurement by the detector. The beam splitting element preferably includes a beam splitting mirror, holographic beam sampler or diffraction grating. In addition, optics are preferably provided for filtering a visible portion of the diverted beam, so that substantially only a VUV portion of the diverted beam is received at the detector. The filtering optics preferably include a diffraction grating, holographic beam sampler or one or more dichroic mirrors.

Abstract translation: 提供了一种用于在小于200nm的相关波长下发射的激光束的光束传送系统。 该系统包括连接到激光器的密封外壳，并且当光束离开激光谐振器时围绕光束的路径。 外壳在激光输出耦合器和在相关激光发射波长下敏感的光电探测器之间延伸。 外壳的内部以及因此输出耦合器和检测器之间的光束路径基本上不含在相关激光发射波长处强吸收辐射的物质。 分束元件将至少一部分光束转移到检测器进行测量。 分束元件优选地包括分束镜，全息光束采样器或衍射光栅。 此外，优选地提供光学器件用于对转向光束的可见部分进行滤波，使得在检测器处基本上仅接收转向光束的VUV部分。 滤光器件优选地包括衍射光栅，全息光束采样器或一个或多个二向色镜。

公开(公告)号：WO9513593A3

公开(公告)日：1995-07-20

申请号：PCT/US9411407

申请日：1994-10-06

Applicant: MARKEM CORP

Inventor： EMGE GARRY J ,  CARTER STEPHEN W

IPC: B41J2/44 ,  B23K26/067 ,  B41J2/32 ,  G06K1/12 ,  G06K15/02 ,  B23K26/06

CPC classification number: B23K26/0673 ,  B23K26/067 ,  B23K26/082 ,  B23K26/705 ,  B41J2/44 ,  B41J2/471 ,  G06K1/121 ,  G06K1/126 ,  G06K15/029

Abstract: A technique for marking pixels on workpieces by routing a scanned beam to different markings stations to mark individual pixels on selected ones of the workpieces. Angular position of a scanning mirror in a raster scanner is determined by moving a beam, reflected from the scanner, across rulings on an optical element during scanning. A print head for printing spots on a surface of a workpiece has a walled, internally pressurized chamber with an external curved surface and structure for causing an inked web to conform to the contour of the external curved surface and to be pulled along the external curved surface. Two workpieces may be marked at two marking stations by two-directional scanning.

公开(公告)号：WO2019101783A1

公开(公告)日：2019-05-31

申请号：PCT/EP2018/082044

申请日：2018-11-21

Applicant: SYNOVA S.A.

Inventor： DIBOINE, Jérémie ,  HIPPERT, David ,  DIEHL, Helgi ,  RICHERZHAGEN, Bernold

IPC: B23K26/146 ,  B23K26/70

CPC classification number: B23K26/146 ,  B23K26/705

Abstract: The invention relates to an apparatus (100) for machining a workpiece with a high- intensity laser beam (101), the apparatus (100) being configured to provide a pressurized fluid jet (102) and to couple the laser beam (101) into the fluid jet (102). The apparatus (100) comprises a detection unit (103) configured to receive and detect secondary radiation (104) generated by the laser beam (101) in the fluid jet (102). The detection unit (103) includes a sensing unit (105) configured to convert secondary radiation (104) into a detection signal (106). The apparatus (100) is configured to generate, with the detection unit (103), a plurality of detection signals (106) at a single position or at different positions along the fluid jet (102).

公开(公告)号：WO2015169937A1

公开(公告)日：2015-11-12

申请号：PCT/EP2015/060145

申请日：2015-05-08

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  MANGER, Matthias ,  BAUMER, Florian

Inventor： MANGER, Matthias ,  BAUMER, Florian

IPC: G01J1/42 ,  H01S3/00 ,  G01J1/04 ,  B23K26/30 ,  H05G2/00

CPC classification number: G01J1/4257 ,  B23K26/705 ,  G01J1/0418 ,  G02B5/205 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

Abstract: Die Erfindung betrifft ein System und ein Verfahren zur Analyse eines von einer Strahlführungsoptik geführten Lichtstrahls. Ein erfindungsgemäßes System weist eine Grauverlaufsfilter-Anordnung (120, 520), welche in einer Fernfeldebene der Strahlführungsoptik angeordnet ist und wenigstens einen Grauverlaufsfilter (121, 521, 522, 523) mit örtlich variierender Transmission aufweist, und eine Lichtintensitätssensor-Anordnung mit mindestens einem Lichtintensitätssensor (140, 540) auf, welche in einer Nahfeldebene der Strahlführungsoptik angeordnet ist und für jeden Grauverlaufsfilter (121, 521, 522, 523) der Grauverlaufsfilter-Anordnung (120, 520) jeweils die durch den Grauverlaufsfilter transmittierte Lichtintensität misst (141, 541, 542, 543).

Abstract translation: 本发明涉及一种用于分析光束传输光学光束的运行的系统和方法。 根据本发明的系统包括：中性密度过滤器组件，其与局部变化的传输排列在光束引导装置的远场平面和至少一个中性密度滤光器（121，521，522，523），和在与至少一个光强度传感器的光强度的传感器装置（120，520） （140，540），其被布置在Nahfeldebene光束引导装置，并且对于所述中性密度过滤器组件（120，520）分别，光通过中性密度滤光器的光强度测量（141，541发送的各中性密度滤光器（121，521，522，523）， 542，543）。

公开(公告)号：WO2015040327A1

公开(公告)日：2015-03-26

申请号：PCT/FR2014/052312

申请日：2014-09-17

Applicant: SNECMA

Inventor： BAUDIMONT, Cyrille ,  FOUQUET, Julie ,  MONNET, Didier

IPC: B22F3/105 ,  B22F5/00 ,  B22F5/04 ,  B29C67/00

CPC classification number: B23K26/0626 ,  B22F3/008 ,  B22F3/1055 ,  B22F5/009 ,  B22F5/04 ,  B22F2003/1056 ,  B22F2999/00 ,  B23K26/0006 ,  B23K26/032 ,  B23K26/342 ,  B23K26/705 ,  B23K2201/35 ,  B23K2203/10 ,  B23K2203/166 ,  B29C64/153 ,  B29C64/386 ,  B33Y10/00 ,  B33Y50/02 ,  Y02P10/295 ,  B22F2203/03

Abstract: L'invention concerne un procédé de contrôle (S) de la densité d'énergie d'un faisceau laser (3) à partir de paramètres du faisceau laser (3) comprenant les étapes suivantes : - appliquer régulièrement le faisceau laser (3) sur un support de référence et mesurer (S4), à chaque application, l'intensité lumineuse obtenue, - identifier (S6, S7, S8) une variation de l'intensité lumineuse sur le support de référence entre au moins deux mesures, et - lorsque la variation de l'intensité lumineuse est supérieure à un seuil donné, déterminer le ou les paramètres instables de la densité d'énergie du faisceau laser (3) (S8).

Abstract translation: 本发明涉及一种使用激光束（3）的参数监测（S）激光束（3）的能量密度的方法，包括以下步骤：将激光束（3）定期地施加到参考基板并测量（ S4），每个应用，得到的光强度; 在至少两个测量之间识别（S6，S7，S8）参考基板上的光强度的变化; 并且当光强度的变化高于预定阈值时，确定激光束（3）的能量密度的不稳定参数或参数（S8）。

公开(公告)号：WO2013087080A1

公开(公告)日：2013-06-20

申请号：PCT/EP2011006284

申请日：2011-12-13

Applicant: WAVELIGHT GMBH ,  GOOS EVI ,  DONITZKY CHRISTOF ,  WUELLNER CHRISTIAN

Inventor： GOOS EVI ,  DONITZKY CHRISTOF ,  WUELLNER CHRISTIAN

IPC: A61F9/008 ,  B23K26/02 ,  B23K26/36 ,  B23K26/40

CPC classification number: A61F9/00802 ,  A61B2017/00482 ,  A61B2018/00988 ,  A61F2009/00855 ,  B23K26/0626 ,  B23K26/705

Abstract: A test device to calibrate the pulse energy of a laser device (12) which provides pulsed laser radiation includes a measuring head (20) with multiple measuring probes (30). The test device is used in such a way that by means of the laser radiation, multiple test ablations are made on a test surface (at 28), in an arrangement corresponding to the relative spatial arrangement of the measuring probes, and the depths of the test ablations are then measured, with simultaneous use of the multiple measuring probes of the measuring head.

Abstract translation: 校准提供脉冲激光辐射的激光装置（12）的脉冲能量的测试装置包括具有多个测量探针（30）的测量头（20）。 测试装置以这样的方式使用，即通过激光辐射在测试表面上（在28处）以对应于测量探针的相对空间布置的布置进行多次测试消融，并且测量装置的 然后测量测试烧蚀，同时使用测量头的多个测量探针。

公开(公告)号：WO2011127400A4

公开(公告)日：2012-04-19

申请号：PCT/US2011031776

申请日：2011-04-08

Applicant: HAAS LASER TECHNOLOGIES INC ,  SCAGGS MICHAEL J

Inventor： SCAGGS MICHAEL J

IPC: H01S3/10 ,  H01S5/0683

CPC classification number: G01J1/4257 ,  B23K26/705 ,  G01J1/04 ,  G01J1/0418 ,  G02B27/106 ,  G02B27/108 ,  G02B27/144

Abstract: An apparatus that enables real time measurement of the spatial profile, circularity, centroid, astigmatism and M2 values of a laser beam generated by a high power laser beam. The apparatus employs the optics used in a process application, including a focus lens and cover glass. An attenuation module includes a pair of high reflecting mirror plates disposed in parallel, spaced apart relation to one another at a common angle of incidence to the laser beam. A beam dump is positioned out of a path of travel of the laser beam and in receiving relation to light reflected by the first and second mirrors. A camera detects spots of light that pass through the first and second mirrors. A high power attenuator formed by a highly reflective mirror pair is positioned between the source and the attenuation module. A second embodiment includes a single mirror plate having highly reflective surfaces.

Abstract translation: 能够对由高功率激光束产生的激光束的空间分布，圆度，重心，像散和M2值进行实时测量的装置。 该装置采用在工艺应用中使用的光学元件，包括聚焦透镜和盖玻璃。 衰减模块包括一对平行设置的高反射镜板，以与激光束的共同入射角相互间隔开。 光束转储器位于激光束的行进路径之外并且接收与第一和第二反射镜反射的光的关系。 相机检测通过第一和第二反射镜的光点。 由高反射镜对形成的高功率衰减器位于源极与衰减模块之间。 第二实施例包括具有高反射表面的单个反射镜板。

公开(公告)号：WO2012031580A2

公开(公告)日：2012-03-15

申请号：PCT/DE2011/001579

申请日：2011-08-11

Applicant: MTU AERO ENGINES GMBH ,  SCHUR, Stefan

Inventor： SCHUR, Stefan

IPC: B23K26/06 ,  B23K26/42 ,  G01J1/42

CPC classification number: B23K26/705 ,  H01S3/0014 ,  H01S3/10069

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Steuern und/oder Regeln einer Laservorrichtung, wobei das Verfahren die folgenden Schritte aufweist: Bestimmen einer Laserkennlinie durch Einstellen einer vorbestimmten Lasergröße und Erfassen der sich bei der Lasergröße einstellenden Gesamtlaserleistung oder Gesamtlaserenergie des Laserstrahls der Laservorrichtung; und Steuern und/oder Regeln der Laservorrichtung basierend auf der Laserkennlinie.

Abstract translation:

本发明涉及用于控制和/或调节的激光装置的方法，该方法包括以下步骤：通过设置预定Lasergr＆OUML确定激光特性曲线;道路，并在Lasergr＆ouml检测; 调整激光设备的激光束的总激光功率或总激光能量; 并基于激光特性来控制和/或调节激光器。